JPH07188415A - Ｓｉ結合水素含有オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
Ｓｉ結合水素含有オルガノポリシロキサンの製造方法Info
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- JPH07188415A JPH07188415A JP6265545A JP26554594A JPH07188415A JP H07188415 A JPH07188415 A JP H07188415A JP 6265545 A JP6265545 A JP 6265545A JP 26554594 A JP26554594 A JP 26554594A JP H07188415 A JPH07188415 A JP H07188415A
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- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
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- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 水素シリル基を有するオルガノポリシロキサ
ン油、−エラストマーおよび−樹脂を、容易にまた再現
可能に、狭い分子量分布で製造する方法 【構成】 次の成分： Ａ） 次の成分から選択される有機ケイ素化合物： Ａ１）一般式： ＲaＨbＳｉ（ＯＲ1）(4-a-b) （１） のオルガノシラン、およびＡ２）一般式： ＲcＨd（ＯＲ1）eＳｉＯ(4-c-d-e)/2 （２） の単位から成るオルガノシロキサン、 Ｂ）成分Ａ中のアルコキシ基１モル当たり水少なくとも
０．５モル、場合により Ｃ）水と混合可能な溶剤から成る混合物を、 Ｄ）アンモニアまたは第一級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−ア
ルキルアミンまたは水の存在でアンモニアまたは第一級
または第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する化合
物の存在で反応させるＳｉ結合水素含有オルガノポリシ
ロキサンの製造方法
ン油、−エラストマーおよび−樹脂を、容易にまた再現
可能に、狭い分子量分布で製造する方法 【構成】 次の成分： Ａ） 次の成分から選択される有機ケイ素化合物： Ａ１）一般式： ＲaＨbＳｉ（ＯＲ1）(4-a-b) （１） のオルガノシラン、およびＡ２）一般式： ＲcＨd（ＯＲ1）eＳｉＯ(4-c-d-e)/2 （２） の単位から成るオルガノシロキサン、 Ｂ）成分Ａ中のアルコキシ基１モル当たり水少なくとも
０．５モル、場合により Ｃ）水と混合可能な溶剤から成る混合物を、 Ｄ）アンモニアまたは第一級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−ア
ルキルアミンまたは水の存在でアンモニアまたは第一級
または第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する化合
物の存在で反応させるＳｉ結合水素含有オルガノポリシ
ロキサンの製造方法
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塩基性触媒を用いたＳ
ｉ結合水素含有オルガノポリシロキサンの製造方法に関
する。
ｉ結合水素含有オルガノポリシロキサンの製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】水素を有するオルガノシランまたはこれ
の加水分解物の加水分解および縮合によるＳｉ結合水素
含有オルガノポリシロキサンの製造は、従来、酸性触媒
を用いて実施されていたが、それは塩基性触媒が作用す
るとＳｉ結合水素が気体水素に変換されることが原因で
あった。
の加水分解物の加水分解および縮合によるＳｉ結合水素
含有オルガノポリシロキサンの製造は、従来、酸性触媒
を用いて実施されていたが、それは塩基性触媒が作用す
るとＳｉ結合水素が気体水素に変換されることが原因で
あった。
【０００３】例えば、ヨーロッパ特許出願公開（ＥＰ−
Ａ）第２５１４３５Ａ１号明細書中には、ケイ酸アルキ
ルおよびオルガノシランまたはオリゴマー状のオルガノ
シロキサン化合物から、水および酸性触媒の存在で、４
官能性シロキサン単位を有する水素含有オルガノポリシ
ロキサン樹脂の製造が記載されている。しかし、この樹
脂は広い分子量分布を有する。
Ａ）第２５１４３５Ａ１号明細書中には、ケイ酸アルキ
ルおよびオルガノシランまたはオリゴマー状のオルガノ
シロキサン化合物から、水および酸性触媒の存在で、４
官能性シロキサン単位を有する水素含有オルガノポリシ
ロキサン樹脂の製造が記載されている。しかし、この樹
脂は広い分子量分布を有する。
【０００４】塩基性触媒による水素を有しないポリシロ
キサンからの製造方法は、例えばヨーロッパ特許出願公
開（ＥＰ−Ａ）第００４２２０８号明細書に記載されて
いる。
キサンからの製造方法は、例えばヨーロッパ特許出願公
開（ＥＰ−Ａ）第００４２２０８号明細書に記載されて
いる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、水素
シリル基を有するオルガノポリシロキサン油、−エラス
トマーおよび−樹脂を、容易な方法で、また再現可能
に、狭い分子量分布で製造できる方法を提供することで
あった。
シリル基を有するオルガノポリシロキサン油、−エラス
トマーおよび−樹脂を、容易な方法で、また再現可能
に、狭い分子量分布で製造できる方法を提供することで
あった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、次の成分： Ａ） 次の成分から選択される有機ケイ素化合物： Ａ１）一般式 ＲaＨbＳｉ（ＯＲ1）(4-a-b) （１） （式中、Ｒは、同一または異なり、置換されていてもよ
いＣ1〜Ｃ18−炭化水素基、Ｒ1は、同一または異なり、
置換されていてもよいＣ1〜Ｃ18−炭化水素基または水
素原子、ａは、０、１、２または３の値、ｂは、０、
１、２または３の値を表す）のオルガノシラン、および Ａ２）一般式： ＲcＨd（ＯＲ1）eＳｉＯ(4-c-d-e)/2 （２） （式中、ｃおよびｅは、いずれも０、１、２または３の
値、ｄは、０、１、２または３の値、かつＲおよびＲ1
は、上記のものを表す）の単位から成るオルガノシロキ
サン、（ただし、成分Ａは、ケイ素原子１モル当たりア
ルコキシ基少なくとも０．０１〜４モルを有し、かつ成
分Ａの有機ケイ素化合物の少なくとも一部はＳｉ結合水
素を有するものとする） Ｂ）成分Ａ中のアルコキシ基１モル当たり水少なくとも
０．５モル、場合により Ｃ）水と混合可能な溶剤、から成る混合物を、 Ｄ）アンモニアまたは第一級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−ア
ルキルアミンまたは水の存在でアンモニアまたは第一級
または第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する化合
物の存在で反応させるＳｉ結合水素含有オルガノポリシ
ロキサンの製造方法に関する。
いＣ1〜Ｃ18−炭化水素基、Ｒ1は、同一または異なり、
置換されていてもよいＣ1〜Ｃ18−炭化水素基または水
素原子、ａは、０、１、２または３の値、ｂは、０、
１、２または３の値を表す）のオルガノシラン、および Ａ２）一般式： ＲcＨd（ＯＲ1）eＳｉＯ(4-c-d-e)/2 （２） （式中、ｃおよびｅは、いずれも０、１、２または３の
値、ｄは、０、１、２または３の値、かつＲおよびＲ1
は、上記のものを表す）の単位から成るオルガノシロキ
サン、（ただし、成分Ａは、ケイ素原子１モル当たりア
ルコキシ基少なくとも０．０１〜４モルを有し、かつ成
分Ａの有機ケイ素化合物の少なくとも一部はＳｉ結合水
素を有するものとする） Ｂ）成分Ａ中のアルコキシ基１モル当たり水少なくとも
０．５モル、場合により Ｃ）水と混合可能な溶剤、から成る混合物を、 Ｄ）アンモニアまたは第一級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−ア
ルキルアミンまたは水の存在でアンモニアまたは第一級
または第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する化合
物の存在で反応させるＳｉ結合水素含有オルガノポリシ
ロキサンの製造方法に関する。
【０００７】本発明による方法により製造されるＳｉ結
合水素含有オルガノポリシロキサンは、酸性触媒を用い
て製造したＳｉ結合水素含有オルガノポリシロキサンよ
りもなお均一な分子量を有する。
合水素含有オルガノポリシロキサンは、酸性触媒を用い
て製造したＳｉ結合水素含有オルガノポリシロキサンよ
りもなお均一な分子量を有する。
【０００８】基Ｒの例は、アルキル基、例えばメチル
−、エチル−、ｎ−プロピル−、イソ−プロピル−、ｎ
−ブチル−、イソ−ブチル−、ｔ−ブチル−、ｎ−ペン
チル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、ｔ−ペ
ンチル基；ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基；ヘプチ
ル基、例えばｎ−ヘプチル基；オクチル基、例えばｎ−
オクチル基およびイソ−オクチル基、例えば２，２，４
−トリメチルペンチル基；ノニル基、例えばｎ−ノニル
基；デシル基、例えばｎ−デシル基；ドデシル基、例え
ばｎ−ドデシル基；オクタデシル基、例えばｎ−オクタ
デシル基；アルケニル基、例えばビニル−、アリル−、
ｎ−５−ヘキセニル−、４−ビニルシクロヘキシル−お
よび３−ノルボネニル基；シクロアルキル基、例えばシ
クロペンチル−、シクロヘキシル−、４−エチルシクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基および
メチルシクロヘキシル基；アリール基、例えばフェニル
−、ビフェニル−、ナフチル−およびアントリル−およ
びフェナントリル基；アルカリール基、例えばｏ−、ｍ
−、ｐ−トルイル基、キシリル基およびエチルフェニル
基；アラルキル基、例えばベンジル基、α−およびβ−
フェニルエチル基である。
−、エチル−、ｎ−プロピル−、イソ−プロピル−、ｎ
−ブチル−、イソ−ブチル−、ｔ−ブチル−、ｎ−ペン
チル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、ｔ−ペ
ンチル基；ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基；ヘプチ
ル基、例えばｎ−ヘプチル基；オクチル基、例えばｎ−
オクチル基およびイソ−オクチル基、例えば２，２，４
−トリメチルペンチル基；ノニル基、例えばｎ−ノニル
基；デシル基、例えばｎ−デシル基；ドデシル基、例え
ばｎ−ドデシル基；オクタデシル基、例えばｎ−オクタ
デシル基；アルケニル基、例えばビニル−、アリル−、
ｎ−５−ヘキセニル−、４−ビニルシクロヘキシル−お
よび３−ノルボネニル基；シクロアルキル基、例えばシ
クロペンチル−、シクロヘキシル−、４−エチルシクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、ノルボルニル基および
メチルシクロヘキシル基；アリール基、例えばフェニル
−、ビフェニル−、ナフチル−およびアントリル−およ
びフェナントリル基；アルカリール基、例えばｏ−、ｍ
−、ｐ−トルイル基、キシリル基およびエチルフェニル
基；アラルキル基、例えばベンジル基、α−およびβ−
フェニルエチル基である。
【０００９】基Ｒとして置換されている炭化水素基の例
は、ハロゲン化炭化水素基、例えばクロロメチル−、３
−クロロプロピル−、３−ブロモプロピル−、３，３，
３−トリフルオロプロピル−および５，５，５，４，
４，３，３−ヘプタフルオロペンチル基、ならびにクロ
ロフェニル−、ジクロロフェニル−およびトリフルオロ
トルイル基；メルカプトアルキル基、例えば２−メルカ
プトエチル−および３−メルカプトプロピル基；シアノ
アルキル基、例えば２−シアノエチル−および３−シア
ノプロピル基；アミノアルキル基、例えば３−アミノプ
ロピル−、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピル−およびＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノ−
（２−メチル）プロピル基；アミノアリール基、例えば
アミノフェニル基；アシルオキシアルキル基、例えば３
−アクリルオキシプロピル−および３−メタクリルオキ
シプロピル基；アセトキシアルキル基、例えば３−アセ
トキシプロピル基；ジエチルホスホン酸エステル基、例
えばジエチルホスホン酸エステルエチル基；無水コハク
酸アルキル基、例えば３−無水コハク酸プロピル基；ヒ
ドロキシアルキル基、例えば３−ヒドロキシプロピル基
および式
は、ハロゲン化炭化水素基、例えばクロロメチル−、３
−クロロプロピル−、３−ブロモプロピル−、３，３，
３−トリフルオロプロピル−および５，５，５，４，
４，３，３−ヘプタフルオロペンチル基、ならびにクロ
ロフェニル−、ジクロロフェニル−およびトリフルオロ
トルイル基；メルカプトアルキル基、例えば２−メルカ
プトエチル−および３−メルカプトプロピル基；シアノ
アルキル基、例えば２−シアノエチル−および３−シア
ノプロピル基；アミノアルキル基、例えば３−アミノプ
ロピル−、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロ
ピル−およびＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノ−
（２−メチル）プロピル基；アミノアリール基、例えば
アミノフェニル基；アシルオキシアルキル基、例えば３
−アクリルオキシプロピル−および３−メタクリルオキ
シプロピル基；アセトキシアルキル基、例えば３−アセ
トキシプロピル基；ジエチルホスホン酸エステル基、例
えばジエチルホスホン酸エステルエチル基；無水コハク
酸アルキル基、例えば３−無水コハク酸プロピル基；ヒ
ドロキシアルキル基、例えば３−ヒドロキシプロピル基
および式
【００１０】
【化１】
【００１１】の基である。
【００１２】基Ｒは、特に有利に、メチル−、エチル
−、ｎ−プロピル−、ビニル−、ｎ−５−ヘキセニル−
およびフェニル基、殊には、メチル−およびビニル基で
ある。
−、ｎ−プロピル−、ビニル−、ｎ−５−ヘキセニル−
およびフェニル基、殊には、メチル−およびビニル基で
ある。
【００１３】基Ｒ1の例は、Ｒについて挙げた例であ
る。基Ｒ1は、有利に、炭素原子１〜６個を有するアル
キル基であり、これは殊にはＣ1〜Ｃ6−アルキルオキシ
基またはヒドロキシル基で置換されていてもい。
る。基Ｒ1は、有利に、炭素原子１〜６個を有するアル
キル基であり、これは殊にはＣ1〜Ｃ6−アルキルオキシ
基またはヒドロキシル基で置換されていてもい。
【００１４】基Ｒ1は、特に有利には、メチル−、エチ
ル−、ｎ−プロピル−、イソ−プロピル−およびヘキシ
ル基、殊にはメチル−およびエチル基である。
ル−、ｎ−プロピル−、イソ−プロピル−およびヘキシ
ル基、殊にはメチル−およびエチル基である。
【００１５】本発明の方法に使用される一般式（１）の
シランＡ１の例は、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、メチルト
リメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
トリメチルエトキシシラン、３−クロロプロピルジメチ
ルメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、３−アセトキシプロピルジメチルメトキシシラ
ン、３−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン、
ｎ−オクチルジメチルメトキシシラン、３−メタクリル
オキシプロピルジメチルメトキシシラン、２−シクロヘ
キセニルエチルジメチルメトキシシラン、３−アミノプ
ロピルジメチルメトキシシランおよび３−シアノプロピ
ルメチルジメトキシシランであり、その際、テトラエト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、トリメチルエトキシシランおよびビニル
ジメチルエトキシシランが有利であり、テトラエトキシ
シラン、メチルトリエトキシシランおよびジメチルジエ
トキシシランが殊に有利に使用される。
シランＡ１の例は、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、メチルト
リメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジ
メチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
トリメチルエトキシシラン、３−クロロプロピルジメチ
ルメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、３−アセトキシプロピルジメチルメトキシシラ
ン、３−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン、
ｎ−オクチルジメチルメトキシシラン、３−メタクリル
オキシプロピルジメチルメトキシシラン、２−シクロヘ
キセニルエチルジメチルメトキシシラン、３−アミノプ
ロピルジメチルメトキシシランおよび３−シアノプロピ
ルメチルジメトキシシランであり、その際、テトラエト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、トリメチルエトキシシランおよびビニル
ジメチルエトキシシランが有利であり、テトラエトキシ
シラン、メチルトリエトキシシランおよびジメチルジエ
トキシシランが殊に有利に使用される。
【００１６】本発明による方法に使用される一般式
（１）の水素を有するシランの例は、三水素エトキシシ
ラン、二水素メチルエトキシシラン、水素ジメチルエト
キシシラン、水素メチルジエトキシシラン、および水素
フェニルジエトキシシランである。
（１）の水素を有するシランの例は、三水素エトキシシ
ラン、二水素メチルエトキシシラン、水素ジメチルエト
キシシラン、水素メチルジエトキシシラン、および水素
フェニルジエトキシシランである。
【００１７】本発明による方法に使用されるオルガノシ
ロキサンＡ２は、有利には一般式（２）を最高１５単位
有する。オルガノシロキサンＡ２の例は、線状オルガノ
シロキサン、例えばジシロキサン、例えば、ヘキサメチ
ルジシロキサン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシ
ロキサン、１，３−ビス（ｎ−５−ヘキセニル）テトラ
メチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラメチルジ
シロキサン、有利にはヘキサメチルジシロキサンおよび
１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサンおよび一般
式（２）の単位を３〜８個、有利には４または５個有す
る環状オルガノポリシロキサン、例えばヘキサメチルシ
クロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキ
サンおよびデカメチルシクロペンタシロキサンである。
ロキサンＡ２は、有利には一般式（２）を最高１５単位
有する。オルガノシロキサンＡ２の例は、線状オルガノ
シロキサン、例えばジシロキサン、例えば、ヘキサメチ
ルジシロキサン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシ
ロキサン、１，３−ビス（ｎ−５−ヘキセニル）テトラ
メチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラメチルジ
シロキサン、有利にはヘキサメチルジシロキサンおよび
１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサンおよび一般
式（２）の単位を３〜８個、有利には４または５個有す
る環状オルガノポリシロキサン、例えばヘキサメチルシ
クロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキ
サンおよびデカメチルシクロペンタシロキサンである。
【００１８】本発明による方法に使用される水素を有す
るオルガノシロキサンＡ２の例は、二水素テトラメチル
ジシロキサン、四水素ジメチルジシロキサン、二水素テ
トラフェニルジシロキサン、三水素トリメチルシクロト
リシロキサン、四水素テトラメチルシクロテトラシロキ
サンおよび五水素ペンタメチルシクロペンタシロキサン
である。
るオルガノシロキサンＡ２の例は、二水素テトラメチル
ジシロキサン、四水素ジメチルジシロキサン、二水素テ
トラフェニルジシロキサン、三水素トリメチルシクロト
リシロキサン、四水素テトラメチルシクロテトラシロキ
サンおよび五水素ペンタメチルシクロペンタシロキサン
である。
【００１９】成分Ａは、モノマーおよびポリマーのシリ
ケートを含んでいてもよい。これらは樹脂の製造の場合
に殊に有利である。有利なシリケートは、オルトケイ酸
メチル、オルトケイ酸エチル、ポリケイ酸メチルおよび
ポリケイ酸エチルであり、その際、シリケートはアルコ
キシ基を含んでいる。
ケートを含んでいてもよい。これらは樹脂の製造の場合
に殊に有利である。有利なシリケートは、オルトケイ酸
メチル、オルトケイ酸エチル、ポリケイ酸メチルおよび
ポリケイ酸エチルであり、その際、シリケートはアルコ
キシ基を含んでいる。
【００２０】水素含有オルガノポリシロキサン最終生成
物の水素含量は、有利には０．０００１〜２重量％、殊
には０．０１〜０．６重量％である。
物の水素含量は、有利には０．０００１〜２重量％、殊
には０．０１〜０．６重量％である。
【００２１】成分Ａのアルコキシ基含量は、ケイ素原子
１モル当たり有利には０．５〜２モル、殊には０．６５
〜１．５モルである。
１モル当たり有利には０．５〜２モル、殊には０．６５
〜１．５モルである。
【００２２】成分Ｂとしては、有利には成分Ａのアルコ
キシ基１モル当たり水少なくとも０．５モル、殊には
０．５〜０．８モルを使用する。成分Ａのアルコキシ基
１モル当たりの高い水の割合は、ゲル成分の上昇を引き
起す。
キシ基１モル当たり水少なくとも０．５モル、殊には
０．５〜０．８モルを使用する。成分Ａのアルコキシ基
１モル当たりの高い水の割合は、ゲル成分の上昇を引き
起す。
【００２３】成分Ｃとしては、２０℃で水と体積比率
１：１で均質に混和する有機溶剤が有利に使用される。
成分Ｃとして好適な溶剤の例は、１価および多価のアル
コール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノ
ール、イソ−プロパノールおよびエチレングリコール；
エーテル、例えばジオキサンおよびテトラヒドロフラ
ン；アミド、例えばジメチルアホルムアミド；ジメチル
スルホキシドおよびスルホランまたはこれらの溶剤の混
合物である。
１：１で均質に混和する有機溶剤が有利に使用される。
成分Ｃとして好適な溶剤の例は、１価および多価のアル
コール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノ
ール、イソ−プロパノールおよびエチレングリコール；
エーテル、例えばジオキサンおよびテトラヒドロフラ
ン；アミド、例えばジメチルアホルムアミド；ジメチル
スルホキシドおよびスルホランまたはこれらの溶剤の混
合物である。
【００２４】特に有利には、０．１ＭＰａで１２０℃ま
での沸点または沸点範囲を有する溶剤であり、殊には上
記の１価アルコールである。
での沸点または沸点範囲を有する溶剤であり、殊には上
記の１価アルコールである。
【００２５】成分Ｃは、系に応じてゲル成分が０に等し
い程度の量で、有利には、成分Ａ内のシラン成分に対し
て、２０〜３００重量％、殊には５０〜１００重量％の
量で添加するのが有利である。
い程度の量で、有利には、成分Ａ内のシラン成分に対し
て、２０〜３００重量％、殊には５０〜１００重量％の
量で添加するのが有利である。
【００２６】水の存在でアンモニアまたは第一級または
第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する成分Ｄの化
合物として、一般式（３）〜（７） Ｒ2 nＳｉＺ4-n （３） （Ｒ2 3Ｓｉ）2ＮＨ （４） （Ｒ2 2ＳｉＮＨ）x （５） （Ｒ2 3Ｓｉ）2ＮＲ3および （６） （Ｒ2 2ＳｉＮＲ3）y （７） （式中、Ｒ2は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキル
基、Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基、Ｚは、基−ＮＨＲ3
またはＮＲ3 2、ｎは、値２または３ ｘは、３〜６の整数およびｙは、１〜１２の整数を表
す）の化合物が有利に使用される。
第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する成分Ｄの化
合物として、一般式（３）〜（７） Ｒ2 nＳｉＺ4-n （３） （Ｒ2 3Ｓｉ）2ＮＨ （４） （Ｒ2 2ＳｉＮＨ）x （５） （Ｒ2 3Ｓｉ）2ＮＲ3および （６） （Ｒ2 2ＳｉＮＲ3）y （７） （式中、Ｒ2は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキル
基、Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基、Ｚは、基−ＮＨＲ3
またはＮＲ3 2、ｎは、値２または３ ｘは、３〜６の整数およびｙは、１〜１２の整数を表
す）の化合物が有利に使用される。
【００２７】特に有利には、一般式（４）の化合物、殊
にはヘキサメチルジシラザンの使用である。
にはヘキサメチルジシラザンの使用である。
【００２８】アンモニアまたは第一級または第二級Ｃ1
〜Ｃ4−アルキルアミンは、本発明による方法では触媒
として作用し、有利には反応の後、殊には減圧下で処理
して除去する。
〜Ｃ4−アルキルアミンは、本発明による方法では触媒
として作用し、有利には反応の後、殊には減圧下で処理
して除去する。
【００２９】本発明による方法では、成分Ａ１モルに対
して、アンモニアまたは第一級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−
アルキルアミンまたは水の存在でアンモニアまたは第一
級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する化
合物０．００５〜０．５モル、殊には０．０５〜０．３
モルを使用するのが有利である。
して、アンモニアまたは第一級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−
アルキルアミンまたは水の存在でアンモニアまたは第一
級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する化
合物０．００５〜０．５モル、殊には０．０５〜０．３
モルを使用するのが有利である。
【００３０】本発明による方法により、使用する成分Ａ
およびＤの選択により、例えば水素含有オルガノポリシ
ロキサン油、−エラストマーおよび−樹脂が製造でき
る。（４−ａ−ｂ）＝ｗである上記の一般式（１）のシ
ラン、（４−ｃ−ｄ）＝ｗである上記の一般式（２）の
シランは、ｗ＝１，２，３ならびに４の場合に、Ｍ−、
Ｄ−、Ｔ−ならびにＱ−単位として表される。本方法中
で使用するＭ−、Ｄ−、Ｔ−ならびにＱ−単位の数は、
それぞれ０〜１００モル％に変化させることができる。
本発明による方法は、特に水素を有するシリコーン樹脂
の製造、殊にはＭ／Ｑ比が有利には０．３：１〜２：
１、殊には０．５：１〜１．２５；１であるＭＱ樹脂の
製造に好適である。例えば透明で有機溶剤中に可溶で、
単一モードに分布したＭＱ樹脂が製造できる。その分子
量が４０００ｇ／モル〜２５０００ｇ／モルに調整で
き、このようなＭＱ樹脂は、製造した場合、理論収率に
対して２重量％より少ないゲル成分を有する。
およびＤの選択により、例えば水素含有オルガノポリシ
ロキサン油、−エラストマーおよび−樹脂が製造でき
る。（４−ａ−ｂ）＝ｗである上記の一般式（１）のシ
ラン、（４−ｃ−ｄ）＝ｗである上記の一般式（２）の
シランは、ｗ＝１，２，３ならびに４の場合に、Ｍ−、
Ｄ−、Ｔ−ならびにＱ−単位として表される。本方法中
で使用するＭ−、Ｄ−、Ｔ−ならびにＱ−単位の数は、
それぞれ０〜１００モル％に変化させることができる。
本発明による方法は、特に水素を有するシリコーン樹脂
の製造、殊にはＭ／Ｑ比が有利には０．３：１〜２：
１、殊には０．５：１〜１．２５；１であるＭＱ樹脂の
製造に好適である。例えば透明で有機溶剤中に可溶で、
単一モードに分布したＭＱ樹脂が製造できる。その分子
量が４０００ｇ／モル〜２５０００ｇ／モルに調整で
き、このようなＭＱ樹脂は、製造した場合、理論収率に
対して２重量％より少ないゲル成分を有する。
【００３１】本発明による方法は、有利には０℃〜１０
０℃、殊には２５℃〜７５℃で実施される。有利には、
変換の後に、すべての揮発性成分、例えば水および溶
剤、例えばエタノールを有利には減圧下で除去する。
０℃、殊には２５℃〜７５℃で実施される。有利には、
変換の後に、すべての揮発性成分、例えば水および溶
剤、例えばエタノールを有利には減圧下で除去する。
【００３２】本発明による方法において、成分Ａおよび
Ｄを先に装入し、ＢおよびＣをこれに加えると有利であ
る。
Ｄを先に装入し、ＢおよびＣをこれに加えると有利であ
る。
【００３３】成分Ａ〜Ｄの変換に引き続き、得られた水
素含有オルガノポリシロキサン、殊には樹脂を、−ＯＲ
1基含量、殊にはアルコキシ含量を低下させるために、
酸性または塩基性で後縮合させる。その際、無水で操作
する場合には、有機溶剤、たとえば炭化水素中で、縮合
触媒として強塩基、例えばアルカリ金属−およびアルカ
リ土類金属水酸化物を用いても水素含量がほとんど変わ
らないように維持させることができる。
素含有オルガノポリシロキサン、殊には樹脂を、−ＯＲ
1基含量、殊にはアルコキシ含量を低下させるために、
酸性または塩基性で後縮合させる。その際、無水で操作
する場合には、有機溶剤、たとえば炭化水素中で、縮合
触媒として強塩基、例えばアルカリ金属−およびアルカ
リ土類金属水酸化物を用いても水素含量がほとんど変わ
らないように維持させることができる。
【００３４】アルコキシ基の含量を低下させるための後
縮合は、他の方法でおよび本発明によらない方法で製造
された水素含有オルガノポリシロキサンの場合にも可能
である。
縮合は、他の方法でおよび本発明によらない方法で製造
された水素含有オルガノポリシロキサンの場合にも可能
である。
【００３５】本発明による方法で製造された水素含有オ
ルガノポリシロキサンは、水素含有オルガノポリシロキ
サンが使用できるすべての用途に応用できる。例えば、
ＭＱ樹脂は、充填剤、付加架橋系での架橋剤および定着
剤として使用できる。
ルガノポリシロキサンは、水素含有オルガノポリシロキ
サンが使用できるすべての用途に応用できる。例えば、
ＭＱ樹脂は、充填剤、付加架橋系での架橋剤および定着
剤として使用できる。
【００３６】
【実施例】下記の実施例中で、別に記載しない限り下記
のことがあてはまる。
のことがあてはまる。
【００３７】ａ）すべての数量は重量に対する； ｂ）すべての圧力は０．１０ＭＰａ（絶対）； ｃ）すべての温度は２５℃。
【００３８】下記の略字を用いた。
【００３９】ｐ．Ａ．＝分析純度 ｄｅｓｔ．＝蒸留 例１ テトラエトキシシラン１２５．４ｇ（０．６モル）、ヘ
キサメチルジシラザン９．７２ｇ（０．０６モル）およ
び水素ジメチルエトキシシラン６２．５３ｇ（０．６モ
ル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、
水ｄｅｓｔ．２１．６０ｇ（１．２モル）およびエタノ
ールｐ．Ａ．６０．００ｇ（１．３モル）（前もって添
加用容器内で混合）を滴下した。
キサメチルジシラザン９．７２ｇ（０．０６モル）およ
び水素ジメチルエトキシシラン６２．５３ｇ（０．６モ
ル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、
水ｄｅｓｔ．２１．６０ｇ（１．２モル）およびエタノ
ールｐ．Ａ．６０．００ｇ（１．３モル）（前もって添
加用容器内で混合）を滴下した。
【００４０】反応混合物を室温および常圧で２．５時間
攪拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合によ
り生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真
空中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
攪拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合によ
り生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真
空中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【００４１】Ｓｉ結合水素０．５３重量％を有する粘性
の透明な油状物４４．４８ｇ（収率５５．９％）が得ら
れた。
の透明な油状物４４．４８ｇ（収率５５．９％）が得ら
れた。
【００４２】例２ テトラエトキシシラン２０．９０ｇ（０．１モル）、ヘ
キサメチルジシラザン１．６２ｇ（０．０１モル）およ
び１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン６．７２
ｇ（０．０５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱
した装入物に、水（ｄｅｓｔ．）３．６０ｇ（０．２モ
ル）およびエタノールｐ．Ａ．１２．００ｇ（０．２６
モル）（前もって添加用容器内で混合）を滴下した。
キサメチルジシラザン１．６２ｇ（０．０１モル）およ
び１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン６．７２
ｇ（０．０５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱
した装入物に、水（ｄｅｓｔ．）３．６０ｇ（０．２モ
ル）およびエタノールｐ．Ａ．１２．００ｇ（０．２６
モル）（前もって添加用容器内で混合）を滴下した。
【００４３】反応混合物を室温および常圧で３時間攪拌
した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により生
成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により生
成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【００４４】Ｓｉ結合水素０．５６重量％を有し、粘度
が高く透明な油状物７．９０ｇ（収率５５．４８％）を
得た。
が高く透明な油状物７．９０ｇ（収率５５．４８％）を
得た。
【００４５】例３ テトラエトキシシラン２０．９０ｇ（０．１モル）、ヘ
キサメチルジシラザン２．６６ｇ（０．０１６５モ
ル）、１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン３．０
６ｇ（０．０１６５モル）および水素ジメチルエトキシ
シラン３．４４ｇ（０．０３３モル）からなる保護ガス
下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．３．６０
ｇ（０．２モル）およびエタノールｐ．Ａ．１０．００
ｇ（０．２２モル）（前もって添加用容器内で混合）を
滴下した。
キサメチルジシラザン２．６６ｇ（０．０１６５モ
ル）、１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン３．０
６ｇ（０．０１６５モル）および水素ジメチルエトキシ
シラン３．４４ｇ（０．０３３モル）からなる保護ガス
下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．３．６０
ｇ（０．２モル）およびエタノールｐ．Ａ．１０．００
ｇ（０．２２モル）（前もって添加用容器内で混合）を
滴下した。
【００４６】反応混合物を６０℃で２．５時間、室温で
１時間常圧下で攪拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調
整し、場合により生成するゲル成分を濾過により除去
し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定になるま
で濃縮した。
１時間常圧下で攪拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調
整し、場合により生成するゲル成分を濾過により除去
し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定になるま
で濃縮した。
【００４７】Ｓｉ結合水素０．１１重量％およびビニル
基５．３４重量％を有する高粘度の透明な油状物１１．
１３ｇ（収率８４．９％）が得られた。
基５．３４重量％を有する高粘度の透明な油状物１１．
１３ｇ（収率８４．９％）が得られた。
【００４８】例４ テトラエトキシシラン２０．９０ｇ（０．１モル）、ヘ
キサメチルジシラザン２．７０ｇ（０．０１６７モ
ル）、３−クロロプロピルジメチルメトキシシラン５．
５５ｇ（０．０３３モル）および１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサン２．２４ｇ（０．０１６７モル）
からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄ
ｅｓｔ．３．６０ｇ（０．２モル）およびエタノール
ｐ．Ａ．１２．０ｇ（０．２６モル）（前もって添加用
容器内で混合）を滴下した。
キサメチルジシラザン２．７０ｇ（０．０１６７モ
ル）、３−クロロプロピルジメチルメトキシシラン５．
５５ｇ（０．０３３モル）および１，１，３，３−テト
ラメチルジシロキサン２．２４ｇ（０．０１６７モル）
からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄ
ｅｓｔ．３．６０ｇ（０．２モル）およびエタノール
ｐ．Ａ．１２．０ｇ（０．２６モル）（前もって添加用
容器内で混合）を滴下した。
【００４９】反応混合物を室温および常圧で２４時間攪
拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【００５０】クロロプロピル基２．８４重量％およびＳ
ｉ結合水素０．０３８重量％を有する低粘度の透明な油
状物９．５３ｇ（収率６２．５％）が得られた。
ｉ結合水素０．０３８重量％を有する低粘度の透明な油
状物９．５３ｇ（収率６２．５％）が得られた。
【００５１】例５ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、３−アセトキシプロピルジメチルメトキシシラン
３．４１ｇ（０．０１６７モル）および１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ（０．００８３
５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物
に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタ
ノールｐ．Ａ．６．０ｇ（０．１３モル）（前もって添
加用容器内で混合）を滴下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、３−アセトキシプロピルジメチルメトキシシラン
３．４１ｇ（０．０１６７モル）および１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ（０．００８３
５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物
に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタ
ノールｐ．Ａ．６．０ｇ（０．１３モル）（前もって添
加用容器内で混合）を滴下した。
【００５２】反応混合物を室温および常圧で２４時間攪
拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【００５３】アセトキシプロピル基２．３６重量％およ
びＳｉ結合水素０．０３９重量％を有し、低粘度の透明
な油状物３．０３ｇ（収率３６．７％）が得られた。
びＳｉ結合水素０．０３９重量％を有し、低粘度の透明
な油状物３．０３ｇ（収率３６．７％）が得られた。
【００５４】例６ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、３−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン
２．７５ｇ（０．０１６７モル）および１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ（０．００８３
５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物
に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタ
ノールｐ．Ａ．６．０ｇ（０．１３モル）（前もって添
加用容器内で混合）を滴下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、３−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン
２．７５ｇ（０．０１６７モル）および１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ（０．００８３
５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物
に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタ
ノールｐ．Ａ．６．０ｇ（０．１３モル）（前もって添
加用容器内で混合）を滴下した。
【００５５】反応混合物を７５℃および常圧で３．５時
間攪拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物を
ｐＨ７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過に
より除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定
になるまで濃縮した。
間攪拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物を
ｐＨ７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過に
より除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定
になるまで濃縮した。
【００５６】メルカプトプロピル基２．５５重量％およ
びＳｉ結合水素０．０４１重量％を有する透明な油状物
６．９ｇ（収率９０．８モル）が得られた。
びＳｉ結合水素０．０４１重量％を有する透明な油状物
６．９ｇ（収率９０．８モル）が得られた。
【００５７】例７ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、２−（エトキシジメチルシリル）−エチルホスホ
ン酸ジエチルエステル４．４８ｇ（０．０１６７モル）
および１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１．
１２ｇ（０．００８３５モル）からなる保護ガス下で４
０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ
（０．１モル）およびエタノールｐ．Ａ．６．０ｇ
（０．１３モル）（前もって添加用容器内で混合）を滴
下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、２−（エトキシジメチルシリル）−エチルホスホ
ン酸ジエチルエステル４．４８ｇ（０．０１６７モル）
および１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１．
１２ｇ（０．００８３５モル）からなる保護ガス下で４
０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ
（０．１モル）およびエタノールｐ．Ａ．６．０ｇ
（０．１３モル）（前もって添加用容器内で混合）を滴
下した。
【００５８】反応混合物を７５℃および常圧で３．５時
間攪拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物を
ｐＨ７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過に
より除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定
になるまで濃縮した。
間攪拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物を
ｐＨ７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過に
より除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定
になるまで濃縮した。
【００５９】エタンホスホン酸ジエチルエステル基２．
９９重量％およびＳｉ結合水素０．０４１重量％を有す
る低粘度の透明な油状物６．９０ｇ（収率７６％）が得
られた。
９９重量％およびＳｉ結合水素０．０４１重量％を有す
る低粘度の透明な油状物６．９０ｇ（収率７６％）が得
られた。
【００６０】例８ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、ｎ−オクチルジメチルメトキシシラン３．３８ｇ
（０．０１６７モル）および１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサン１．１２ｇ（０．００８３５モル）か
らなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅ
ｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタノールｐ．
Ａ．６．０ｇ（０．１３モル）（前もって添加用容器内
で混合）を滴下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、ｎ−オクチルジメチルメトキシシラン３．３８ｇ
（０．０１６７モル）および１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサン１．１２ｇ（０．００８３５モル）か
らなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅ
ｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタノールｐ．
Ａ．６．０ｇ（０．１３モル）（前もって添加用容器内
で混合）を滴下した。
【００６１】反応混合物を７５℃および常圧で３．５時
間攪拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物を
ｐＨ７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過に
より除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定
になるまで濃縮した。
間攪拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物を
ｐＨ７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過に
より除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定
になるまで濃縮した。
【００６２】ｎ−オクチル基２．３２重量％およびＳｉ
結合水素０．０４３重量％を有し、高粘度の透明な油状
物５．５１ｇ（収率６７％）が得られた。
結合水素０．０４３重量％を有し、高粘度の透明な油状
物５．５１ｇ（収率６７％）が得られた。
【００６３】例９ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、３−（メタクリルオキシ）プロピルジメチルメト
キシシラン３．６１ｇ（０．０１６７モル）および１，
１，３，３−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ
（０．００８３５モル）からなる保護ガス下で４０℃に
加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モ
ル）およびエタノールｐ．Ａ．６．０ｇ（０．１３モ
ル）（前もって添加用容器内で混合）を滴下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、３−（メタクリルオキシ）プロピルジメチルメト
キシシラン３．６１ｇ（０．０１６７モル）および１，
１，３，３−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ
（０．００８３５モル）からなる保護ガス下で４０℃に
加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モ
ル）およびエタノールｐ．Ａ．６．０ｇ（０．１３モ
ル）（前もって添加用容器内で混合）を滴下した。
【００６４】反応混合物を６０℃、常圧で５時間攪拌
し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ７
に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により除
去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定になる
まで濃縮した。
し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ７
に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により除
去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定になる
まで濃縮した。
【００６５】３−（メタクリルオキシ）プロピル基３．
５６重量％およびＳｉ結合水素０．０３７重量％を有す
る透明な油状物７．５２ｇ（収率８８．９％）が得られ
た。
５６重量％およびＳｉ結合水素０．０３７重量％を有す
る透明な油状物７．５２ｇ（収率８８．９％）が得られ
た。
【００６６】例１０ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、２−シクロヘキセニルエチルジメチルメトキシシ
ラン３．３１ｇ（０．０１６７モル）および１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ（０．０
０８３５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した
装入物に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およ
びエタノールｐ．Ａ．７．０ｇ（０．１５モル）（前も
って添加用容器内で混合）を滴下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、２−シクロヘキセニルエチルジメチルメトキシシ
ラン３．３１ｇ（０．０１６７モル）および１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ（０．０
０８３５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した
装入物に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およ
びエタノールｐ．Ａ．７．０ｇ（０．１５モル）（前も
って添加用容器内で混合）を滴下した。
【００６７】反応混合物を７５℃、常圧で５時間攪拌
し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ７
に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により除
去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定になる
まで濃縮した。
し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ７
に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により除
去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定になる
まで濃縮した。
【００６８】２−シクロヘキセニル基３．１重量％およ
びＳｉ結合水素０．０３重量％を有する黄色で透明な油
状物３．５６ｇ（収率４３．７％）が得られた。
びＳｉ結合水素０．０３重量％を有する黄色で透明な油
状物３．５６ｇ（収率４３．７％）が得られた。
【００６９】例１１ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、２−フェニルプロピルジメチルメトキシシラン
３．４８ｇ（０．０１６７モル）および１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ（０．００８３
５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物
に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタ
ノールｐ．Ａ．７．０ｇ（０．１５モル）（前もって添
加用容器内で混合）を滴下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、２−フェニルプロピルジメチルメトキシシラン
３．４８ｇ（０．０１６７モル）および１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ（０．００８３
５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物
に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタ
ノールｐ．Ａ．７．０ｇ（０．１５モル）（前もって添
加用容器内で混合）を滴下した。
【００７０】反応混合物を７５℃、常圧で５時間攪拌
し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ７
に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により除
去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定になる
まで濃縮した。
し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ７
に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により除
去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定になる
まで濃縮した。
【００７１】２−フェニルプロピル基２．２２重量％お
よびＳｉ結合水素０．０３９重量％を有し、粘性があり
透明な油状物５．２４ｇ（収率６３．０６％）が得られ
た。
よびＳｉ結合水素０．０３９重量％を有し、粘性があり
透明な油状物５．２４ｇ（収率６３．０６％）が得られ
た。
【００７２】例１２ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、３，３，３−トリフルオロプロピルジメチルメト
キシシラン３．１１ｇ（０．０１６７モル）および１，
１，３，３−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ
（０．００８３５モル）からなる保護ガス下で４０℃に
加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モ
ル）およびエタノールｐ．Ａ．７．０ｇ（０．１５モ
ル）（前もって添加用容器内で混合）を滴下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、３，３，３−トリフルオロプロピルジメチルメト
キシシラン３．１１ｇ（０．０１６７モル）および１，
１，３，３−テトラメチルジシロキサン１．１２ｇ
（０．００８３５モル）からなる保護ガス下で４０℃に
加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モ
ル）およびエタノールｐ．Ａ．７．０ｇ（０．１５モ
ル）（前もって添加用容器内で混合）を滴下した。
【００７３】反応混合物を７５℃、常圧で３．５時間攪
拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ
７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により
除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定にな
るまで濃縮した。
拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ
７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により
除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定にな
るまで濃縮した。
【００７４】３，３，３−トリフルオロプロピル基２．
８６重量％およびＳｉ結合水素０．０３５重量％を有す
る粘性の透明な油状物６．８８ｇ（収率８６．５％）が
得られた。
８６重量％およびＳｉ結合水素０．０３５重量％を有す
る粘性の透明な油状物６．８８ｇ（収率８６．５％）が
得られた。
【００７５】例１３ 水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタノー
ルｐ．Ａ．６．０ｇ（０．１３モル）および３−アミノ
プロピルジメチルメトキシシラン２．４６ｇ（０．０１
６７モル）からなる装入物中に、濃塩酸の形の塩化水素
０．０１６７モルを加え、ｐＨ計を用いてｐＨ７．０に
調整した。中和した装入物を４０℃に加熱し、テトラエ
トキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、ヘキサメ
チルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モル）およ
び１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１．１２
ｇ（０．００８３５モル）を滴下した。
ルｐ．Ａ．６．０ｇ（０．１３モル）および３−アミノ
プロピルジメチルメトキシシラン２．４６ｇ（０．０１
６７モル）からなる装入物中に、濃塩酸の形の塩化水素
０．０１６７モルを加え、ｐＨ計を用いてｐＨ７．０に
調整した。中和した装入物を４０℃に加熱し、テトラエ
トキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、ヘキサメ
チルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モル）およ
び１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１．１２
ｇ（０．００８３５モル）を滴下した。
【００７６】反応混合物を７５℃、常圧で３．５時間攪
拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ
７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により
除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定にな
るまで濃縮した。
拌し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物をｐＨ
７に調整し、場合により生成するゲル成分を濾過により
除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定にな
るまで濃縮した。
【００７７】３−アミノプロピルヒドロクロリド基２．
５重量％およびＳｉ結合水素０．０２９重量％を有する
黄色の固体樹脂６．７８ｇ（収率８５．７％）が得られ
た。
５重量％およびＳｉ結合水素０．０２９重量％を有する
黄色の固体樹脂６．７８ｇ（収率８５．７％）が得られ
た。
【００７８】例１４ テトラエトキシシラン６２．７０ｇ（０．３モル）、ヘ
キサメチルジシラザン８．１ｇ（０．０５モル）、３−
メチルジエトキシシリルプロピルコハク酸無水物２７．
４９ｇ（０．１モル）および１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサン６．７２ｇ（０．０５モル）からなる
保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．
１０．８０ｇ（０．６モル）およびエタノールｐ．Ａ．
３６．０ｇ（０．７８モル）（前もって添加用容器内で
混合）を滴下した。
キサメチルジシラザン８．１ｇ（０．０５モル）、３−
メチルジエトキシシリルプロピルコハク酸無水物２７．
４９ｇ（０．１モル）および１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサン６．７２ｇ（０．０５モル）からなる
保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．
１０．８０ｇ（０．６モル）およびエタノールｐ．Ａ．
３６．０ｇ（０．７８モル）（前もって添加用容器内で
混合）を滴下した。
【００７９】反応混合物を室温および常圧で２４時間攪
拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【００８０】プロピルコハク酸無水物基３．２重量％お
よびＳｉ結合水素０．０２重量％を有する黄色の固体樹
脂４４．７２ｇ（収率８８．６％）が得られた。
よびＳｉ結合水素０．０２重量％を有する黄色の固体樹
脂４４．７２ｇ（収率８８．６％）が得られた。
【００８１】エタノールｐ．Ａ．５０ｍｌ、水ｄｅｓ
ｔ．１５０ｍｌおよび水酸化カリウム２．０ｇ（０．０
３６モル）から成る混合物にこの樹脂を溶かした。ｐＨ
計を用い、さらに水酸化カリウム１．０ｇ（０．０１８
モル）を添加しながら、ｐＨを６．９８に調整した。溶
液を濾過し引き続き高真空中、１００℃で重量が一定に
なるまで濃縮した。引き続き生成物を五酸化二リンの上
で高真空中、８０℃で乾燥させた。
ｔ．１５０ｍｌおよび水酸化カリウム２．０ｇ（０．０
３６モル）から成る混合物にこの樹脂を溶かした。ｐＨ
計を用い、さらに水酸化カリウム１．０ｇ（０．０１８
モル）を添加しながら、ｐＨを６．９８に調整した。溶
液を濾過し引き続き高真空中、１００℃で重量が一定に
なるまで濃縮した。引き続き生成物を五酸化二リンの上
で高真空中、８０℃で乾燥させた。
【００８２】例１５ テトラエトキシシラン２０．９ｇ（０．１モル）、ヘキ
サメチルジシラザン２．７０ｇ（０．０１６７モル）、
シアノプロピルメチルジメトキシシラン５．７７ｇ
（０．０３３３モル）および１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサン２．２４ｇ（０．０１６７モル）から
なる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓ
ｔ．３．６０ｇ（０．２モル）およびエタノールｐ．
Ａ．１２．０ｇ（０．２６モル）（前もって添加用容器
内で混合）を滴下した。
サメチルジシラザン２．７０ｇ（０．０１６７モル）、
シアノプロピルメチルジメトキシシラン５．７７ｇ
（０．０３３３モル）および１，１，３，３−テトラメ
チルジシロキサン２．２４ｇ（０．０１６７モル）から
なる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓ
ｔ．３．６０ｇ（０．２モル）およびエタノールｐ．
Ａ．１２．０ｇ（０．２６モル）（前もって添加用容器
内で混合）を滴下した。
【００８３】反応混合物を７５℃、常圧で３時間攪拌
し、引き続き室温に冷却した。内容物をｐＨ７に調整
し、引き続き場合により生成するゲル成分を濾過により
除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定にな
るまで濃縮した。
し、引き続き室温に冷却した。内容物をｐＨ７に調整
し、引き続き場合により生成するゲル成分を濾過により
除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定にな
るまで濃縮した。
【００８４】シアノプロピル基４．２４重量％およびＳ
ｉ結合水素０．０４４重量％を有する低粘度の透明な油
状物８．９１ｇ（収率６１．８％）が得られた。
ｉ結合水素０．０４４重量％を有する低粘度の透明な油
状物８．９１ｇ（収率６１．８％）が得られた。
【００８５】例１６ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）、
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、２，２−ジエトキシ−２，３，４，５−テトラヒ
ドロ−１，２−ベンゾオキサシレピン４．２１ｇ（０．
０１６７モル）および１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン１．１２ｇ（０．００８３５モル）からなる
保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．
１．８０ｇ（０．１モル）およびエタノールｐ．Ａ．
６．０ｇ（０．１３モル）（前もって添加用容器内で混
合）を滴下した。
ヘキサメチルジシラザン１．３５ｇ（０．００８３５モ
ル）、２，２−ジエトキシ−２，３，４，５−テトラヒ
ドロ−１，２−ベンゾオキサシレピン４．２１ｇ（０．
０１６７モル）および１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサン１．１２ｇ（０．００８３５モル）からなる
保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．
１．８０ｇ（０．１モル）およびエタノールｐ．Ａ．
６．０ｇ（０．１３モル）（前もって添加用容器内で混
合）を滴下した。
【００８６】反応混合物を室温および常圧で２４時間攪
拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
拌した。引き続き内容物をｐＨ７に調整し、場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【００８７】オルト−フェノキシプロピル基４．１９重
量％およびＳｉ結合水素０．０３９重量％を有する黄色
で高粘度の透明な油状物８．１１ｇ（収率７４．５％）
が得られた。
量％およびＳｉ結合水素０．０３９重量％を有する黄色
で高粘度の透明な油状物８．１１ｇ（収率７４．５％）
が得られた。
【００８８】例１７ テトラエトキシシラン２０．９ｇ（０．１モル）、ヘキ
サメチルジシラザン２．７０ｇ（０．０１６７モル）、
ジメチルジエトキシシラン６．７１ｇ（０．０５モル）
およびメチルジエトキシシラン７．４２ｇ（０．０５モ
ル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、
水ｄｅｓｔ．３．６０ｇ（０．２モル）およびエタノー
ルｐ．Ａ．１２．０ｇ（０．２６モル）（前もって添加
用容器内で混合）を滴下した。
サメチルジシラザン２．７０ｇ（０．０１６７モル）、
ジメチルジエトキシシラン６．７１ｇ（０．０５モル）
およびメチルジエトキシシラン７．４２ｇ（０．０５モ
ル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱した装入物に、
水ｄｅｓｔ．３．６０ｇ（０．２モル）およびエタノー
ルｐ．Ａ．１２．０ｇ（０．２６モル）（前もって添加
用容器内で混合）を滴下した。
【００８９】反応混合物を６０℃、常圧で５時間攪拌
し、引き続き室温に冷却した。内容物をｐＨ７に調整
し、引き続き場合により生成するゲル成分を濾過により
除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定にな
るまで濃縮した。
し、引き続き室温に冷却した。内容物をｐＨ７に調整
し、引き続き場合により生成するゲル成分を濾過により
除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定にな
るまで濃縮した。
【００９０】Ｓｉ結合水素０．０４重量％を有する低粘
度の透明な油状物１１．５８ｇ（収率８６．３％）が得
られた。
度の透明な油状物１１．５８ｇ（収率８６．３％）が得
られた。
【００９１】例１８ メチルトリエトキシシラン１７．８４ｇ（０．１モ
ル）、ヘキサメチルジシラザン４．０３５ｇ（０．０２
５モル）、および水素ジメチルエトキシシラン５．２１
ｇ（０．０５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱
した装入物に、水ｄｅｓｔ．３．６０ｇ（０．２モル）
およびエタノールｐ．Ａ．１０．００ｇ（０．２２モ
ル）（前もって添加用容器内で混合）を滴下した。
ル）、ヘキサメチルジシラザン４．０３５ｇ（０．０２
５モル）、および水素ジメチルエトキシシラン５．２１
ｇ（０．０５モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱
した装入物に、水ｄｅｓｔ．３．６０ｇ（０．２モル）
およびエタノールｐ．Ａ．１０．００ｇ（０．２２モ
ル）（前もって添加用容器内で混合）を滴下した。
【００９２】反応混合物を室温および常圧で２４時間攪
拌した。内容物をｐＨ７に調整し、引き続き場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
拌した。内容物をｐＨ７に調整し、引き続き場合により
生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【００９３】Ｓｉ結合水素０．０８９重量％を有する透
明な油状物８．０３ｇ（収率５６．８％）が得られた。
明な油状物８．０３ｇ（収率５６．８％）が得られた。
【００９４】例１９ 装入物として、例１からの水素含有オルガノポリシロキ
サン樹脂（エトキシ含量１７．５重量％）１８．４８ｇ
をトルエン２００ｍｌに溶かした。水酸化カリウム（メ
タノールｐ．Ａ．中２５％）５００ｐｐｍを装入物中に
入れ、８０℃、常圧で３．５時間攪拌し、引き続き室温
に冷却した。内容物をｐＨ７に調整し、引き続き場合に
より生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高
真空中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
サン樹脂（エトキシ含量１７．５重量％）１８．４８ｇ
をトルエン２００ｍｌに溶かした。水酸化カリウム（メ
タノールｐ．Ａ．中２５％）５００ｐｐｍを装入物中に
入れ、８０℃、常圧で３．５時間攪拌し、引き続き室温
に冷却した。内容物をｐＨ７に調整し、引き続き場合に
より生成するゲル成分を濾過により除去し、その後、高
真空中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【００９５】エトキシ含量１３．９９重量％の原料樹脂
１６．９１ｇ（収率９１．５％）が得られた。Ｓｉ結合
水素の含量は変化しなかった。
１６．９１ｇ（収率９１．５％）が得られた。Ｓｉ結合
水素の含量は変化しなかった。
【００９６】例２０ 装入物として、例１で得た水素含有オルガノポリシロキ
サン樹脂（エトキシ含量１７．５重量％）４．０ｇをト
ルエン４０ｍｌに溶かした。水性濃塩酸５００ｐｐｍを
装入物中に入れ、８０℃で２．５時間攪拌し、引き続き
室温に冷却した。酸化マグネシウムを加えて内容物を中
和し、引き続き場合により生成するゲル成分を濾過によ
り除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定に
なるまで濃縮した。
サン樹脂（エトキシ含量１７．５重量％）４．０ｇをト
ルエン４０ｍｌに溶かした。水性濃塩酸５００ｐｐｍを
装入物中に入れ、８０℃で２．５時間攪拌し、引き続き
室温に冷却した。酸化マグネシウムを加えて内容物を中
和し、引き続き場合により生成するゲル成分を濾過によ
り除去し、その後、高真空中、１００℃で重量が一定に
なるまで濃縮した。
【００９７】エトキシ含量１４．４５重量％の原料樹脂
３．１４ｇ（収率７８．５％）が得られた。Ｓｉ結合水
素の含量は変化しなかった。
３．１４ｇ（収率７８．５％）が得られた。Ｓｉ結合水
素の含量は変化しなかった。
【００９８】例２１ あらかじめ混合した溶液として、テトラエトキシシラン
１０．４５ｇ（０．０５モル）、トリメチルエトキシシ
ラン５．９１ｇ（０．０３３モル）および水ｄｅｓｔ．
１．８０ｇ（０．１モル）およびエタノールｐ．Ａ．１
２．００ｇ（０．２６モル）からなる保護ガス下で４０
℃に加熱した装入物に、１，１，３，３−テトラメチル
ジシロキサン３．３６ｇ（０．０２５モル）を滴下し
た。
１０．４５ｇ（０．０５モル）、トリメチルエトキシシ
ラン５．９１ｇ（０．０３３モル）および水ｄｅｓｔ．
１．８０ｇ（０．１モル）およびエタノールｐ．Ａ．１
２．００ｇ（０．２６モル）からなる保護ガス下で４０
℃に加熱した装入物に、１，１，３，３−テトラメチル
ジシロキサン３．３６ｇ（０．０２５モル）を滴下し
た。
【００９９】この温度で５分間攪拌し、引き続き溶液を
気体アンアモニアで飽和させた。反応混合物を室温およ
び常圧でさらに２時間攪拌し、引き続き場合により生成
するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空中、
１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
気体アンアモニアで飽和させた。反応混合物を室温およ
び常圧でさらに２時間攪拌し、引き続き場合により生成
するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空中、
１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【０１００】Ｓｉ結合水素０．１重量％を有する粘性の
透明な油状物２．３９ｇ（収率２２．２％）が得られ
た。
透明な油状物２．３９ｇ（収率２２．２％）が得られ
た。
【０１０１】例２２ テトラエトキシシラン１０．４５ｇ（０．０５モル）お
よび水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタ
ノールｐ．Ａ．１２．００ｇ（０．２６モル）をあらか
じめ混合した溶液からなる保護ガス下で４０℃に加熱し
た装入物に、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン６．７２ｇ（０．０５モル）を滴下した。
よび水ｄｅｓｔ．１．８０ｇ（０．１モル）およびエタ
ノールｐ．Ａ．１２．００ｇ（０．２６モル）をあらか
じめ混合した溶液からなる保護ガス下で４０℃に加熱し
た装入物に、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン６．７２ｇ（０．０５モル）を滴下した。
【０１０２】この温度で５分間攪拌し、引き続き溶液を
気体アンアモニアで飽和させた。反応混合物を室温およ
び常圧でさらに２時間攪拌し、引き続き場合により生成
するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空中、
１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
気体アンアモニアで飽和させた。反応混合物を室温およ
び常圧でさらに２時間攪拌し、引き続き場合により生成
するゲル成分を濾過により除去し、その後、高真空中、
１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【０１０３】Ｓｉ結合水素０．４重量％を有する低粘度
の透明な油状物３．０ｇ（収率３０．７％）が得られ
た。
の透明な油状物３．０ｇ（収率３０．７％）が得られ
た。
【０１０４】例２３ テトラエトキシシラン２０．９０ｇ（０．１モル）、ヘ
キサメチルジシラザン２．６６ｇ（０．０１６５モ
ル）、１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン４．３
０ｇ（０．０３３モル）および水素ジメチルエトキシシ
ラン３．４４ｇ（０．０３３モル）からなる保護ガス下
で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．３．６０ｇ
（０．２モル）およびエタノールｐ．Ａ．１０．００ｇ
（０．２２モル）（前もって添加用容器内で混合）を滴
下した。
キサメチルジシラザン２．６６ｇ（０．０１６５モ
ル）、１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン４．３
０ｇ（０．０３３モル）および水素ジメチルエトキシシ
ラン３．４４ｇ（０．０３３モル）からなる保護ガス下
で４０℃に加熱した装入物に、水ｄｅｓｔ．３．６０ｇ
（０．２モル）およびエタノールｐ．Ａ．１０．００ｇ
（０．２２モル）（前もって添加用容器内で混合）を滴
下した。
【０１０５】反応混合物を６０℃で２．５時間、室温で
１時間いずれも常圧で攪拌した。引き続き内容物を濾過
して、場合により生成するゲル成分を除去し、その後、
高真空中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
１時間いずれも常圧で攪拌した。引き続き内容物を濾過
して、場合により生成するゲル成分を除去し、その後、
高真空中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【０１０６】ビニル基５．５６重量％およびＳｉ結合水
素０．０９９重量％を有する白色の固体樹脂９．５５ｇ
（収率６７．７％）が得られた。
素０．０９９重量％を有する白色の固体樹脂９．５５ｇ
（収率６７．７％）が得られた。
【０１０７】引き続き、固体樹脂１．０ｇをトルエン
９．０ｇ中に溶かし、ヘキサクロロ白金酸およびジビニ
ルテトラメチルジシロキサンから成る白金触媒１００ｐ
ｐｍ（純白金として）を加えた。
９．０ｇ中に溶かし、ヘキサクロロ白金酸およびジビニ
ルテトラメチルジシロキサンから成る白金触媒１００ｐ
ｐｍ（純白金として）を加えた。
【０１０８】安定で透明なゲル１０．０ｇが得られた。
【０１０９】例２４ 例２で得た水素含有オルガノポリシロキサン樹脂５．０
ｇを、粘度５００ｍＰａ．ｓのα、ω−ジビニルポリジ
メチルシロキサン５．０ｇと混合し、ヘキサクロロ白金
酸およびジビニルテトラメチルジシロキサンから成る白
金触媒１００ｐｐｍ（純白金として）を加えた。
ｇを、粘度５００ｍＰａ．ｓのα、ω−ジビニルポリジ
メチルシロキサン５．０ｇと混合し、ヘキサクロロ白金
酸およびジビニルテトラメチルジシロキサンから成る白
金触媒１００ｐｐｍ（純白金として）を加えた。
【０１１０】脆く透明な生成物１０．０ｇが得られた。
【０１１１】例２５ テトラエトキシシラン４１．８ｇ（０．２モル）、ヘキ
サメチルジシラザン３．２４ｇ（０．０２モル）および
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１３．４４
ｇ（０．１モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱し
た装入物に、水ｄｅｓｔ．７．２０ｇ（０．４モル）を
滴下した。
サメチルジシラザン３．２４ｇ（０．０２モル）および
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン１３．４４
ｇ（０．１モル）からなる保護ガス下で４０℃に加熱し
た装入物に、水ｄｅｓｔ．７．２０ｇ（０．４モル）を
滴下した。
【０１１２】反応混合物を７５℃、常圧で３時間攪拌
し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物を高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
し、引き続き室温に冷却した。引き続き内容物を高真空
中、１００℃で重量が一定になるまで濃縮した。
【０１１３】Ｓｉ結合水素０．１３重量％を有する白色
で不溶性の粉末が得られた。
で不溶性の粉末が得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ペトラ グラーツル ドイツ連邦共和国 エマーティング ガン グホーファーシュトラーセ ４ (72)発明者 ベルンヴァルト ドイプツァー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ヴィ ルコフシュトラーセ 14
Claims (6)
- 【請求項１】 Ｓｉ結合水素含有オルガノポリシロキサ
ンの製造方法において、次の成分： Ａ） 次の成分から選択される有機ケイ素化合物： Ａ１）一般式： ＲaＨbＳｉ（ＯＲ1）(4-a-b) （１） （式中、Ｒは、同一または異なり、置換されていてもよ
いＣ1〜Ｃ18−炭化水素基、Ｒ1は、同一または異なり、
置換されていてもよいＣ1〜Ｃ18−炭化水素基または水
素原子、ａは、０、１、２または３の値、ｂは、０、
１、２または３の値を表す）のオルガノシラン、および Ａ２）一般式： ＲcＨd（ＯＲ1）eＳｉＯ(4-c-d-e)/2 （２） （式中、ｃおよびｅは、いずれも０、１、２または３の
値、ｄは、０、１、２または３の値、かつＲおよびＲ1
は、上記のものを表す）の単位から成るオルガノシロキ
サン、（ただし、成分Ａは、ケイ素原子１モル当たりア
ルコキシ基少なくとも０．０１〜４モルを有し、かつ成
分Ａの有機ケイ素化合物の少なくとも一部はＳｉ結合水
素を有するものとする） Ｂ）成分Ａ中のアルコキシ基１モル当たり水少なくとも
０．５モル、場合により Ｃ）水と混合可能な溶剤、から成る混合物を、 Ｄ）アンモニアまたは第一級または第二級Ｃ1〜Ｃ4−ア
ルキルアミンまたは水の存在でアンモニアまたは第一級
または第二級Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する化合
物の存在で反応させるオルガノポリシロキサンの製造方
法。 - 【請求項２】 基Ｒ1が、Ｃ1〜Ｃ6−アルコキシ基また
はヒドロキシル基で置換されていてもよい炭素原子１〜
６個を有するアルキル基を表す請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 成分Ａがシリケートも含む請求項１また
は２記載の方法。 - 【請求項４】 水の存在でアンモニアまたは第一級また
は第二級Ｃ1 〜Ｃ4−アルキルアミンを遊離する成分Ｄ
の化合物として、一般式（３）〜（７） Ｒ2 nＳｉＺ4-n、 （３） （Ｒ2 3Ｓｉ）2ＮＨ、 （４） （Ｒ2 2ＳｉＮＨ）x、 （５） （Ｒ2 3Ｓｉ）2ＮＲ3、および （６） （Ｒ2 2ＳｉＮＲ3）y （７） （式中、Ｒ2は、水素原子またはＣ1〜Ｃ4−アルキル
基、Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基、Ｚは、基−ＮＨＲ3
またはＮＲ3 2、ｎは、値２または３ ｘは、３〜６の整数、およびｙは、１〜１２の整数）の
化合物を使用する請求項１から３までのいずれか１項記
載の方法。 - 【請求項５】 成分Ａ〜Ｄの反応に引き続き、得られた
水素原子を含むオルガノポリシロキサンを酸性または塩
基性で後縮合させる請求項１から４までのいずれか１項
記載の方法。 - 【請求項６】 無水で操作し、縮合触媒として、有機溶
剤中のアルカリ金属−またはアルカリ土類金属水酸化物
を使用する請求項５記載の方法。
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| DE4337695.9 | 1993-11-04 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07188415A true JPH07188415A (ja) | 1995-07-25 |
| JP2693388B2 JP2693388B2 (ja) | 1997-12-24 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013014764A (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-24 | Wacker Chemie Ag | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| JP2017075283A (ja) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 信越化学工業株式会社 | ヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造方法 |
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- 1994-11-03 ES ES94117342T patent/ES2105468T3/es not_active Expired - Lifetime
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