JPH07181223A - 半導体装置の試験装置 - Google Patents

半導体装置の試験装置

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Publication number
JPH07181223A
JPH07181223A JP5325547A JP32554793A JPH07181223A JP H07181223 A JPH07181223 A JP H07181223A JP 5325547 A JP5325547 A JP 5325547A JP 32554793 A JP32554793 A JP 32554793A JP H07181223 A JPH07181223 A JP H07181223A
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JP
Japan
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cooling
circuit board
flow path
test
flow
Prior art date
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Application number
JP5325547A
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English (en)
Inventor
Tomiya Sasaki
富也 佐々木
Hideo Iwasaki
秀夫 岩崎
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 回路基板の配置による冷却効果の差を低減さ
せる等して良好な試験が行えるようにした半導体装置の
試験装置を提供する。 【構成】 複数の回路基板27が放射状に収納されてい
る基板収納体16の内部に冷却流体が通流する外側冷却
流路18と内側冷却流路20とを外側流路管19と内側
流路管21とに設け、且つ両冷却流路18,20間に各
回路基板27間に延在する冷却分岐流路23を分岐流路
管22に設けると共に、分岐流路管22に設けた熱接触
子29を大規模集積回路装置28に圧接するもので、こ
れにより夫々の回路基板27の大規模集積回路装置28
は対応する冷却分岐流路23に同じ形態で熱的に接続さ
れ、各回路基板27で冷却条件が均等のものとなる。こ
のため、回路基板27の夫々の配置された位置による冷
却効果の差が低減されたものとなり、冷却効果がより高
いものとなって、集積回路装置34の良好な試験が行え
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、集積回路装置等の半導
体装置の試験装置に関する。
【0002】
【従来の技術】周知の通り、集積回路装置等の半導体装
置に対して製造途中や製造過程終了後に特性のチェック
や動作試験などの機能試験が実施される。そしてこのよ
うな試験に用いられる試験装置は、回路基板に大規模集
積回路装置を搭載して形成された試験回路に被試験半導
体装置を接続して行うようになっている。
【0003】以下、従来例を図17を参照して説明す
る。図17は概略の構成図で、図において1は基板収納
体であり、この基板収納体1の内部には図示しない大規
模集積回路装置(LSI)を複数搭載して試験回路が形
成されている回路基板2が放射状に多数配置されてい
る。3は基板収納体1の図示しない上板上の放射状に配
置された回路基板2の略中央部分に設けられたコンタク
トボードであり、4はコンタクトボード3に装着された
被試験半導体装置の、例えば集積回路装置(IC)であ
る。
【0004】そして回路基板2の試験回路とコンタクト
ボード3とは、夫々の対応する部位がリード線等によて
電気的に接続されており、試験回路によってコンタクト
ボード3に装着されたIC4の入力端子にテスト信号を
供給したり、IC3の出力端子からの出力信号を測定し
たりすることができるようになっている。
【0005】また基板収納体1の内部には、放射状に配
置された回路基板2を取り囲むように複数の送風機5,
6が設けられている。そして送風機5の運転によって基
板収納体1内に外部空気が流入し、流入した外部空気は
回路基板2間の間隙7に供給され外方側から中心方向に
通流し、その後に別の回路基板2間の間隙8を中心部か
ら外方側に通流して送風機6により基板収納体1から外
に排出される。なお、矢印Aは模式的に示す空気の流れ
である。
【0006】このように構成されたものでは、IC4を
コンタクトボード3に装着して試験を実施すると、回路
基板2は搭載されているLSI等が発熱してその温度が
上昇する。また同時に送風機5,6の運転が開始され、
外部空気が通流することによって温度が上昇している回
路基板2やこれに搭載されているLSI等の冷却が行わ
れる。
【0007】しかしながら上記の従来技術においては、
送風機5により取り込まれた直後の外部空気が間隙7を
通流することで冷却される回路基板2やLSI等の冷却
効果と、すでに中心部から外方側に通流する冷却を行い
温度が上昇している空気が間隙8を通流することで冷却
される回路基板2やLSI等の冷却効果との間には差が
生じる。このため回路基板2の温度はそれが配置されて
いる位置によって異なり、回路基板2毎に電気的な特性
に著しい違いができ、試験対象であるIC4の試験結果
に悪影響を及ぼすことになる。
【0008】さらに、近時における被試験半導体装置の
高機能化や高集積化等が進む状況の下では、基板収納体
1に配置される回路基板2の枚数や搭載するLSIの数
量が著しく増加することになる。このため基板収納体1
を大きなものとせず、また回路基板2やLSI等の冷却
効果が回路基板2が配置された位置によって差を生じる
ことがないようにすると共に、冷却効果をより一層高い
ものとすることが必要となっている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の外
部空気を基板収納体に取り込み回路基板間の間隙を通流
させるものでは回路基板が配置されている位置によって
冷却効果が異なることになり、回路基板やこれに搭載さ
れた大規模集積回路装置等の温度に差を生じ、回路基板
毎に電気的な特性に著しい違いができ、被試験半導体装
置の試験結果に悪影響を及ぼす。このような状況に鑑み
て本発明はなされたもので、その目的とするところは回
路基板の配置された位置による冷却効果の差を低減させ
ると共に冷却効果をより高いものとし、良好な試験が行
えるようにした半導体装置の試験装置を提供することに
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の試
験装置は、被試験半導体装置を試験するための大規模集
積回路装置を搭載し試験回路を形成してなる複数の回路
基板と、これらの回路基板を放射状に配置して収納する
基板収納体とを備えた半導体装置の試験装置において、
基板収納体の内部に冷媒が通流する流路を設け且つ該流
路から回路基板間に延在するように冷媒が通流する冷却
流路を設けると共に該冷却流路を大規模集積回路装置に
熱的に接続するようにしたことを特徴とするものであ
る。
【0011】
【作用】上記のように構成された半導体装置の試験装置
は、複数の回路基板が放射状に収納されている基板収納
体の内部に冷媒が通流する流路を設け且つ該流路から回
路基板間に延在するように冷媒が通流する冷却流路を設
けると共に該冷却流路を回路基板に搭載された大規模集
積回路装置に熱的に接続するもので、これによって夫々
の回路基板に搭載されている大規模集積回路装置は回路
基板間に延在する冷媒が通流する冷却流路に同じ形態で
熱的に接続され、各回路基板で冷却条件が均等のものと
なる。このため、回路基板の夫々の配置された位置によ
る冷却効果の差が低減されたものとなり、冷却効果がよ
り高いものとなって、被試験半導体装置の良好な試験が
行える。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。先ず、第1の実施例を図1乃至図5により説明す
る。図1は一部切欠して示す要部の斜視図であり、図2
は要部の縦断面図であり、図3は拡大して示す図2にお
けるX矢方向視の部分縦断面図であり、図4は熱接触子
の他の例を示す側面図で、図4(a)は接触点が1つの
場合の側面図、図4(b)は接触点が3つの場合の側面
図であり、図5は図4に示す熱接触子を用いた場合の温
度上昇特性を示す特性図である。
【0013】図1乃至図3において、11は試験装置の
テストヘッドであり、これは図示しない試験装置本体に
設けられた支持架台12の先端部に取り付けられてい
る。テストヘッド11は、中央部に上下方向に貫通する
顕微鏡筒孔13を設け上下端が上板14及び下板15に
よって閉塞された略円筒状の基板収納体16と、この基
板収納体16の内部を上下に二分するように設けられた
母基板17と、基板収納体16の外側周壁内面に沿って
設けられ内部に外側冷却流路18を形成する断面形状が
矩形の環状の外側流路管19と、同じく断面形状が矩形
で顕微鏡筒孔13の周囲に沿って設けられ内部に内側冷
却流路20を形成するた環状の内側流路管21を備えて
構成されている。
【0014】また外側流路管19と内側流路管21と
は、互いに略等ピッチの放射状で基板収納体16内半径
方向に延在する断面形状が矩形の多数の分岐流路管22
によって接続されており、この分岐流路管22の内部に
は冷却分岐流路23が形成されている。さらに外側流路
管19には外部に設けられた図示しない冷却流源の供給
部に連結された流入配管24が接続されており、内側流
路管21には同じく冷却流源の戻入部に連結された流出
配管25が接続されている。
【0015】そして外側流路管19内の外側冷却流路1
8には冷却流源から温度及び流量が制御された冷媒、例
えば水等の冷却流体が流入配管24を介して流入し、ま
た外側冷却流路18から冷却分岐流路23、内側冷却流
路20を流れた後の冷却流体が流出配管25を介して排
出され、冷却流源に戻るようになっている。また母基板
17上には基板支持具26が分岐流路管22が設けられ
ている位置に対応して同一円周上に並ぶように設けられ
ている。
【0016】一方、27は複数の大規模集積回路装置
(LSI)28をリード28aを固着することで下端辺
に平行に配列されるように搭載して試験回路が形成され
ている方形状の回路基板であり、この回路基板27は下
端辺が基板支持具26に支持されて母基板17上に放射
状に配置されている。また回路基板27に搭載されてい
るLSI28の外面には、これに対向する分岐流路管2
2の対向面に固着され分岐流路管22と略同じ温度とな
っている良熱伝導性の弾性材料でなる熱接触子29の接
触部が圧接し、LSI28と分岐流路管22が熱的に結
合されている。なお熱接触子29の形状は、接触部がL
SI28に圧接すると共に回路基板27が分岐流路管2
2間に挿脱可能に設けられるよう弧状となっている。
【0017】また、基板収納体16の上板14の上面中
央部分には顕微鏡筒孔13を覆うようにコンタクトボー
ド30が配置され、上板14の上面に突出する多数のポ
ゴピン31とコンタクトボード30に設けられたICソ
ケットの対応する端子とが電気的に接触している。これ
により回路基板27の所定端子と、それに対応するコン
タクトボード30のICソケットの端子がポゴピン31
を介して接続される。
【0018】さらに各回路基板27からは母基板17の
下方側に多数のリード線32が延出しており、これらの
リード線32は束ねられリード線束33として基板収納
体16の外部に引き出され、試験装置本体の測定回路等
に接続されている。これによってコンタクトボード30
のICソケットに装着された被試験半導体装置である、
例えば集積回路装置(IC)34の回路基板27の試験
回路による特性のチェックや動作試験などでの測定結果
が得られるようになっている。
【0019】そして、このように構成されたものではコ
ンタクトボード30のICソケットに被試験半導体装置
のIC34を装着し、回路基板27の試験回路により試
験を実施する。試験を実施することによって回路基板2
7に搭載されたLSI28が発熱し、回路基板27の温
度も上昇する。
【0020】一方、外側流路管19内の外側冷却流路1
8には流入配管24を介して外部の冷却流源から温度及
び流量が制御された冷却流体が流入し、さらに冷却流体
が分岐流路管22の冷却分岐流路23を流れ分岐流路管
22は略冷却流体と同じ温度状態となっている。このた
めLSI28の熱は圧接されている熱接触子29を介し
て分岐流路管22に伝えられ、冷却流体の流れによって
内側冷却流路20から冷却流源へと排出される。
【0021】これによりLSI28の温度上昇は抑制さ
れ、LSI28は所定の温度以下となるように維持され
る。そして、回路基板27に形成された試験回路は夫々
正規の動作を行い電気的な特性に違いが生じなくなり、
コンタクトボード30に装着されたIC34の特性のチ
ェックや動作試験などの所定の機能試験が実行される。
【0022】以上説明した通り、本実施例によれば発熱
源となっているLSI28には夫々の配置された位置が
異なっていても、外側流路管19から略均等に分岐され
ている分岐流路管22に固着された熱接触子29が同じ
様に圧接することになり、夫々均等に熱除去が行われ冷
却効果に差が生じることがない。またLSI28の熱は
熱接触子29を介して分岐流路管22に伝えられ、さら
に分岐流路管22内の冷却分岐流路23を流れる冷却流
体に伝えられるため、効率よく冷却流源へと移送されて
排出され高い冷却効果が実現できる。この結果、回路基
板27毎に電気的な特性に違いが生じることもなく、I
C34の良好な試験結果を得ることができる。
【0023】また、回路基板27間には分岐流路管22
が配置できるだけの間隙があればよいため、回路基板2
7間の間隙は空冷による場合よりも狭くてよく、限られ
た大きさの基板収納体16に回路基板27を収納する場
合にはより多数枚の収納が可能となり、さらにまた回路
基板27の数が限られている場合には基板収納体16の
大きさをより小さいものとすることができる。
【0024】なお、上記のものでは熱接触子29の形状
がLSI28に2点で圧接する形態を取っているが、L
SI28の温度上昇の抑制は分岐流路管22に設けられ
た熱接触子29の形状、特に接触形態によって決まって
くる。これを図4及び図5により説明する。
【0025】すなわち、図4(a)に示すLSI28と
の接触部分がb点のみの1つの熱接触子29aの場合に
は、縦軸にLSI28の部位、横軸に温度上昇値をとっ
て図5に示すLSI28の温度上昇値の特性線Taのよ
うに、接触部分であるb点の温度上昇が小さく、a点、
c点の温度上昇が大きいものとなっている。
【0026】一方、図4(b)に示すLSI28との接
触部分がa点、b点、c点の3つの熱接触子29bの場
合には、図5のLSI28の温度上昇値を示す特性線T
bのように、接触部分が1つの熱接触子29aの場合の
特性線Taよりも接触部分の数や接触面積が多いことか
ら温度上昇値の水準が小さく、さらにその中でも熱接触
子29bの分岐流路管22への取着部分に近いc点の温
度上昇値が最も小さく、取着部分から離れるにしたがい
温度上昇値が大きくなりa点で最大となっている。
【0027】これらのことから熱接触子29の形状は、
LSI28により多くの接触点で接触する、あるいはよ
り多くの接触面積を有するようにして接触するものがL
SI28の温度上昇値を小さくする上で望ましい。
【0028】次に第2の実施例を図6及び図7により説
明する。本実施例は第1の実施例と略同様に構成される
ものであるため、異なる構成について詳細に以下説明す
る。図6は要部の縦断面図であり、図7は拡大して示す
部分横断面図である。
【0029】図6及び図7において、41は試験装置の
テストヘッドであり、これは第1の実施例と同様に図示
しない試験装置本体に設けられた支持架台12の先端部
に取り付けられている。テストヘッド41は、基板収納
体16の内部に図示しない冷却流源からの冷却流体を通
流させる流路管42を収納し、また多数の回路基板27
を放射状に配置するようにして収納している。
【0030】流路管42は、基板収納体16の外側周壁
内面に沿って放射状に収納された回路基板27を囲むよ
うに設けられた環状流路管部43と、環状流路管部43
から放射状に配置されている回路基板27の隣接する夫
々の基板間に中心方向に向けて同じく放射状に延出する
延出管部44を備えて構成されている。そして環状流路
管部43は内部が、延出管部44が延出しているピッチ
と同じピッチで設けられた仕切壁45によって周方向に
仕切られ、仕切壁45間に環状部流路46が形成されて
いる。
【0031】同時に、仕切壁45は延出管部44内にも
内部を二分するように延出していて、延出管部44の内
部を先端部に折返し流路47を形成するようにして第1
の冷却流路48、第2の冷却流路49を形成している。
これによって環状部流路46から第1の冷却流路48、
折返し流路47、第2の冷却流路49、そして次の環状
部流路46へと次々に連続する直列の冷却流体の流路が
形成され、この流路内には、矢印Bで示すように冷却流
源からの冷却流体の流れが形成されて延出管部44の温
度は略冷却流体と同じ温度となる。
【0032】また延出管部44の第1の冷却流路48が
形成されている側の外壁面には、回路基板27に下端辺
に平行に配列されているLSI28と対向する位置に、
LSI28に接触部が圧接する熱接触子29が取着され
ている。そして熱接触子29も延出管部44の温度と等
しくなって略冷却流体と同じ温度となっている。
【0033】そして、このように構成されたものではコ
ンタクトボード30のICソケットに装着したIC34
を回路基板27の試験回路により試験を実施すると、こ
れによって回路基板27に搭載されたLSI28が発熱
し、回路基板27の温度も上昇する。
【0034】また、基板収納体16内の流路管42には
外部の冷却流源から温度及び流量が制御された冷却流体
が流入し、その冷却流体は矢印Bで示すように環状流路
管部43の環状部流路46から延出管部44の第1の冷
却流路48、折返し流路47、第2の冷却流路49、続
いて次の環状部流路46へと次々に連続して流れ、延出
管部44及びこれに取着された熱接触子29は冷却流体
と略同じ温度状態となっている。そしてLSI28の熱
は圧接されている熱接触子29を介して延出管部44に
伝えられ、冷却流体の流れによって冷却流源へと排出さ
れる。
【0035】これによりLSI28の温度上昇は抑制さ
れ、LSI28は所定の温度以下となるように維持され
る。そして、回路基板27に形成された試験回路は夫々
正規の動作を行い電気的な特性に違いが生じなくなり、
コンタクトボード30に装着されたIC34の特性のチ
ェックや動作試験などの所定の機能試験が実行される。
【0036】以上説明した通り、本実施例によれば第1
の実施例と同様の作用・効果が得られる。
【0037】次に第3の実施例を図8及び図9により説
明する。本実施例は第1の実施例と略同様に構成される
ものであるため、異なる構成について詳細に以下説明す
る。図8は要部の縦断面図であり、図9は拡大して示す
部分横断面図である。
【0038】図8及び図9において、51は試験装置の
テストヘッドであり、これは第1の実施例と同様に図示
しない試験装置本体に設けられた支持架台12の先端部
に取り付けられている。テストヘッド51は、基板収納
体16の内部に図示しない冷却流源からの冷却流体を通
流させる流路管52を収納し、また多数の回路基板27
を放射状に配置するようにして収納している。
【0039】流路管52は、基板収納体16の外側周壁
内面に沿って放射状に収納された回路基板27を囲むよ
うに設けられた環状流路管部53と、環状流路管部53
から放射状に配置されている回路基板27の隣接する夫
々の基板間に中心方向に向けて同じく放射状に延出する
延出管部54を備えて構成されている。そして環状流路
管部53は内部が仕切壁55によって上環状部流路56
と下環状部流路57が形成されるように上下に二分され
ている。さらに上環状部流路56には冷却流源の供給部
に連結された図示しない流入配管が接続されており、下
環状部流路57には同じく冷却流源の戻入部に連結され
た図示しない流出配管が接続されている。
【0040】同時にまた、仕切壁55は延出管部54内
にも内部を上下に二分するように延在していて、延出管
部54の内部を先端部に折返し流路58を形成するよう
にして上冷却流路59と下冷却流路60を形成してい
る。これによって上環状部流路56から各延出管部54
の上冷却流路59、折返し流路58、下冷却流路60、
そして下環状部流路57へ戻る冷却流体の流路が形成さ
れ、この流路内には冷却流源からの冷却流体の流れが形
成されて延出管部54の温度は冷却流体と略同じ温度と
なる。
【0041】また延出管部54の回路基板27に対向す
る外壁面、すなわち本実施例では両外壁面には、回路基
板27の下端辺に平行に配列されているLSI28と対
向する位置に、LSI28に接触部が圧接する熱接触子
29が取着されている。そして熱接触子29も延出管部
54の温度と等しくなって冷却流体と略同じ温度となっ
ている。
【0042】そして、このように構成されたものでは上
記の各実施例と同様にコンタクトボード30のICソケ
ットに装着したIC34を回路基板27の試験回路によ
り試験を実施すると、これによって回路基板27に搭載
されたLSI28が発熱し、回路基板27の温度も上昇
する。
【0043】また、基板収納体16内の流路管52には
外部の冷却流源から温度及び流量が制御された冷却流体
が流入し、その冷却流体は環状流路管部53の上環状部
流路56から各延出管部54の上冷却流路59、折返し
流路58、下冷却流路60へと流れ、再び下環状部流路
57に集められて流れる。この際に、延出管部54及び
これに取着された熱接触子29は冷却流体と略同じ温度
状態となる。そしてLSI28の熱は圧接されている熱
接触子29を介して延出管部54に伝えられ、冷却流体
の流れによって冷却流源へと排出される。
【0044】これによりLSI28の温度上昇は抑制さ
れ、LSI28は所定の温度以下となるように維持され
る。そして、回路基板27に形成された試験回路は夫々
正規の動作を行い電気的な特性に違いが生じなくなり、
コンタクトボード30に装着されたIC34の特性のチ
ェックや動作試験などの所定の機能試験が実行される。
【0045】以上説明した通り、本実施例によっても第
1の実施例と同様の作用・効果が得られる。
【0046】次に第4の実施例を図10乃至図12によ
り説明する。本実施例は第1の実施例と略同様に構成さ
れるものであるため、異なる構成について詳細に以下説
明する。図10は要部の縦断面図であり、図11は拡大
して示す部分側面図であり、図12は拡大して示す部分
正面図である。
【0047】図10乃至図12において、61は試験装
置のテストヘッドであり、これは第1の実施例と同様に
図示しない試験装置本体に設けられた支持架台12の先
端部に取り付けられている。テストヘッド61は、基板
収納体16の内部に図示しない冷却流源からの冷却流体
を通流させる環状流路管62を収納し、また冷却部材6
3が固着された多数の回路基板27を放射状に配置する
ようにして収納している。
【0048】環状流路管62は、基板収納体16の外側
周壁内面に沿って放射状に収納された回路基板27を囲
むように設けられており、その内部が仕切壁64によっ
て上環状部流路65と下環状部流路66が形成されるよ
うに上下に二分されている。さらに上環状部流路65に
は冷却流源の供給部に連結された図示しない流入配管が
接続されており、下環状部流路66には同じく冷却流源
の戻入部に連結された図示しない流出配管が接続されて
いる。
【0049】さらに環状流路管62は、その内周側壁に
取着口67,68が放射状に配置されている回路基板2
7に対応して設けられていて、夫々上環状部流路65と
下環状部流路66に連通している。そして取着口67,
68は内周側壁から突出するように形成されていて、そ
れらの外周面には螺溝が刻設されており、冷却部材63
に設けられたフレアナット69が螺合するようになって
いる。
【0050】また冷却部材63は、回路基板27と略同
幅寸法を有する良熱伝導性材料でなる、例えば厚さ1m
mの銅あるいは銅合金製の冷却板70と、この冷却板7
0の板面にろう着された両先端部にフレアナット69が
設けられ同じく良熱伝導性材料、例えば内径が1mmの
銅あるいは銅合金製のU字状の冷却管71とで構成さ
れ、冷却管71内に冷却流路72が形成される。このよ
うに構成された冷却部材63は、冷却板70の冷却管7
1がろう着されていない面を回路基板27に搭載されて
いるLSI28に熱的に結合するよう接着剤による接
着、ねじ止め等によって固着されている。
【0051】そして冷却部材63が固着されている回路
基板27を夫々放射状に配置して母基板17の基板支持
具26で支持するようにした後、取着口67,68にフ
レアナット69を螺合することによって冷却部材63が
環状流路管62に取り付けられる。なお、取着口67,
68への冷却管71の取り付けはフレアナット69を螺
合することによるものに限るものではなく、公知の他の
着脱可能な結合部材によるものであってもよい。これに
より環状流路管62の上環状部流路65を流れる冷却流
体が取着口67から冷却管71内の冷却流路72に分流
し、再び取着口68から下環状部流路66に集められる
ようになっている。これにより冷却管71が冷却流体と
略同じ温度となり、同時に冷却板70も同じ温度とな
る。
【0052】そして、このように構成されたものでは上
記の各実施例と同様にコンタクトボード30のICソケ
ットに装着したIC34を回路基板27の試験回路によ
り試験を実施すると、これによって回路基板27に搭載
されたLSI28が発熱し、回路基板27の温度も上昇
する。
【0053】また、基板収納体16内の環状流路管62
には外部の冷却流源から温度及び流量が制御された冷却
流体が流入し、その冷却流体は上環状部流路65から各
取着口67を介して夫々に取り付けられている冷却管7
1の冷却流路72を流れ、再び取着口68から下環状部
流路66に集められて流れる。この際に、冷却管71及
びこれに固着された冷却板70は冷却流体と略同じ温度
状態となる。そしてLSI28の熱は冷却板70から冷
却管71へと伝えられ、冷却流体によって冷却流源へと
排出される。
【0054】これによりLSI28の温度上昇は抑制さ
れ、LSI28は所定の温度以下となるように維持され
る。そして、回路基板27に形成された試験回路は夫々
正規の動作を行い電気的な特性に違いが生じなくなり、
コンタクトボード30に装着されたIC34の特性のチ
ェックや動作試験などの所定の機能試験が実行される。
【0055】以上説明した通り、本実施例によっても第
1の実施例と同様の作用・効果が得られると共に、冷却
板70はその板厚に略等しい間隔となっている狭い部分
に挿入して熱移送することが可能であるため、回路基板
27を多数狭間隔で配置することができ、基板収納体1
6をより小型にしたり、あるいは回路基板27の数量を
多く収納することで被試験半導体装置の高機能化や高集
積化に良好に対応できる。
【0056】次に第5の実施例を図13及び図14によ
り説明する。図13は要部の縦断面図であり、図14は
拡大して示す部分横断面図である。
【0057】図13及び図14において、81は試験装
置のテストヘッドであり、これは第1の実施例と同様に
図示しない試験装置本体に設けられた支持架台12の先
端部に取り付けられている。テストヘッド81は、基板
収納体16の内部に図示しない冷却流源からの冷却流体
を通流させる流路管82を収納し、また略方形の多数の
回路基板83を放射状に配置するようにして収納してい
る。
【0058】放射状に配置されている多数の回路基板8
3には、夫々下端辺に対し直角方向に複数のLSI28
がリード28aを固着することで配列されて搭載されて
おり、これらのLSI28によって試験回路が形成され
ている。また回路基板83は下端辺が母基板17上の基
板支持具26に支持されている。
【0059】一方、流路管82は、母基板17の上面に
基板収納体16と同中心となるように設けられた環状流
路管部84と、この環状流路管部84から放射状に配置
されている回路基板83の隣接する夫々の基板間を上方
に向けて延出する延出管部85を備えて構成されてい
る。そして環状流路管部84は内部が仕切壁86によっ
て外側環状部流路87と内側環状部流路88が形成され
るように径方向に二分されている。さらに外側環状部流
路87には冷却流源の供給部に連結された図示しない流
入配管が接続されており、内側環状部流路88には同じ
く冷却流源の戻入部に連結された図示しない流出配管が
接続されている。
【0060】また同様に、延出管部85も内部が延出方
向の仕切壁89によって二分され、延出管部85内の先
端部に折返し流路90を形成するようにして外側冷却流
路91と内側冷却流路92とに分けられている。これに
よって外側環状部流路87から貫通口93を通り各延出
管部85の外側冷却流路91、折返し流路90、内側冷
却流路92、そして貫通孔94を通り内側環状部流路8
8へ戻る冷却流体の流路が形成され、この流路内には冷
却流源からの冷却流体の流れが形成されて延出管部85
の温度は冷却流体と略同じ温度となる。
【0061】また、延出管部85の回路基板83に対向
する外壁面、すなわち本実施例では両外壁面には、回路
基板83の下端辺に直角な方向に配列されているLSI
28と対向する位置に、LSI28に接触部が圧接する
熱接触子29が取着されている。そして熱接触子29も
延出管部85の温度と等しくなって冷却流体と略同じ温
度となっている。
【0062】そして、このように構成されたものでは上
記の各実施例と同様にコンタクトボード30のICソケ
ットに装着したIC34を回路基板83の試験回路によ
り試験を実施すると、これによって回路基板83に搭載
されたLSI28が発熱し、回路基板83の温度も上昇
する。
【0063】また、基板収納体16内の流路管82には
外部の冷却流源から温度及び流量が制御された冷却流体
が流入し、その冷却流体は環状流路管部84の外側環状
部流路87から各延出管部85の外側冷却流路91、折
返し流路90、内側冷却流路92へと流れ、再び内側環
状部流路88に集められて流れる。この際に、延出管部
85及びこれに取着された熱接触子29は冷却流体と略
同じ温度状態となる。そしてLSI28の熱は圧接され
ている熱接触子29を介して延出管部85に伝えられ、
冷却流体の流れによって冷却流源へと排出される。
【0064】これによりLSI28の温度上昇は抑制さ
れ、LSI28は所定の温度以下となるように維持され
る。そして、回路基板83に形成された試験回路は夫々
正規の動作を行い電気的な特性に違いが生じなくなり、
コンタクトボード30に装着されたIC34の特性のチ
ェックや動作試験などの所定の機能試験が実行される。
【0065】以上説明した通り、本実施例によっても第
1の実施例と同様の作用・効果が得られる。
【0066】次に第6の実施例を図15及び図16によ
り説明する。図15は要部の縦断面図であり、図16は
拡大して示す部分横断面図である。
【0067】図15及び図16において、101は試験
装置のテストヘッドであり、これは第1の実施例と同様
に図示しない試験装置本体に設けられた支持架台12の
先端部に取り付けられている。テストヘッド101は、
基板収納体16の内部に図示しない冷却流源からの冷却
流体を通流させる流路管102を収納し、また略方形の
多数の回路基板83を放射状に配置するようにして収納
している。
【0068】放射状に配置されている多数の回路基板8
3には、夫々下端辺に対し直角方向に複数のLSI28
がリード28aを固着することで配列されて搭載されて
おり、これらのLSI28によって試験回路が形成され
ている。また回路基板83は下端辺が母基板17上の基
板支持具26に支持されている。
【0069】一方、流路管102は、母基板17の上面
に基板収納部16と同中心となるように設けられた環状
流路管部103と、この環状流路管部103から放射状
に配置されている回路基板83の隣接する夫々の基板間
を上方に向けて延出する延出管部104を備えて構成さ
れている。そして環状流路管部103は内部が、延出管
部104が延出しているピッチと同じピッチで設けられ
た仕切壁105によって周方向に仕切られ、仕切壁10
5間に環状部流路106が形成されている。
【0070】同時に、仕切壁105は延出管部104内
にも内部を二分するように延出していて、延出管部10
4の内部を先端部に折返し流路107を形成するように
して第1の冷却流路108、第2の冷却流路109を形
成している。これによって環状部流路106から第1の
冷却流路108、折返し流路107、第2の冷却流路1
09、そして次の環状部流路106へと次々に連続する
直列の冷却流体の流路が形成され、この流路内には、冷
却流源からの冷却流体の流れが形成されて延出管部10
4の温度は略冷却流体と同じ温度となる。
【0071】また延出管部104の回路基板83に対向
する外壁面、すなわち本実施例では両外壁面は、回路基
板83に配列されているLSI28と対向する部位が、
例えばポリイミド樹脂でなる柔軟な熱伝達膜110で形
成されている。そして熱伝達膜110は、両冷却流路1
08,109に冷却流体が通流することにより外方側に
膨らむと共に冷却流体と略同じ温度となってLSI28
の外面に圧接する。
【0072】そして、このように構成されたものでは上
記の各実施例と同様にコンタクトボード30のICソケ
ットに装着したIC34を回路基板83の試験回路によ
り試験を実施すると、これによって回路基板83に搭載
されたLSI28が発熱し、回路基板83の温度も上昇
する。
【0073】また、基板収納体16内の流路管102に
は外部の冷却流源から温度及び流量が制御された冷却流
体が流入し、その冷却流体は環状流路管部103の環状
部流路106から延出管部104の第1の冷却流路10
8、折返し流路107、第2の冷却流路109、続いて
次の環状部流路106へと次々に連続して流れ、延出管
部104の熱伝達膜110は冷却流体と略同じ温度状態
となる。そしてLSI28の熱は圧接されている熱伝達
膜110を介して冷却流体に伝えられ冷却流源へと排出
される。
【0074】これによりLSI28の温度上昇は抑制さ
れ、LSI28は所定の温度以下となるように維持され
る。そして、回路基板83に形成された試験回路は夫々
正規の動作を行い電気的な特性に違いが生じなくなり、
コンタクトボード30に装着されたIC34の特性のチ
ェックや動作試験などの所定の機能試験が実行される。
【0075】以上説明した通り、本実施例によっても第
1の実施例と同様の作用・効果が得られる。
【0076】尚、本発明は上記の各実施例のみに限定さ
れるものではなく、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更
して実施し得るものである。
【0077】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明
は、複数の回路基板が放射状に収納されている基板収納
体の内部に冷媒が通流する流路を設け且つ該流路から回
路基板間に延在するように冷媒が通流する冷却流路を設
けると共に該冷却流路を回路基板に搭載された大規模集
積回路装置に熱的に接続する構成としたことにより、回
路基板の配置された位置による冷却効果の差が低減で
き、冷却効果がより高いものとなって、良好な試験が行
える等の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の要部を一部切欠して示
す斜視図である。
【図2】本発明の第1の実施例の要部を示す縦断面図で
ある。
【図3】図2におけるX矢方向視の部分拡大縦断面図で
ある。
【図4】本発明の第1の実施例に係る熱接触子の他の例
を示す側面図で、図4(a)は接触点が1つの場合の側
面図、図4(b)は接触点が3つの場合の側面図であ
る。
【図5】図4に示した熱接触子を用いた場合の温度上昇
特性を示す特性図である。
【図6】本発明の第2の実施例の要部を示す縦断面図で
ある。
【図7】本発明の第2の実施例の部分拡大横断面図であ
る。
【図8】本発明の第3の実施例の要部を示す縦断面図で
ある。
【図9】本発明の第3の実施例の部分拡大横断面図であ
る。
【図10】本発明の第4の実施例の要部を示す縦断面図
である。
【図11】本発明の第4の実施例の部分拡大側面図であ
る。
【図12】本発明の第4の実施例の部分拡大正面図であ
る。
【図13】本発明の第5の実施例の要部を示す縦断面図
である。
【図14】本発明の第5の実施例の部分拡大横断面図で
ある。
【図15】本発明の第6の実施例の要部を示す縦断面図
である。
【図16】本発明の第6の実施例の部分拡大横断面図で
ある。
【図17】従来例の要部を示す概略の構成図である。
【符号の説明】
11…テストヘッド 16…基板収納体 18…外側冷却流路 19…外側流路管 20…内側冷却流路 21…内側流路管 22…分岐流路管 23…冷却分岐流路 27…回路基板 28…大規模集積回路装置(LSI) 29…熱接触子 34…集積回路装置(IC)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被試験半導体装置を試験するための大規
    模集積回路装置を搭載し試験回路を形成してなる複数の
    回路基板と、これらの回路基板を放射状に配置して収納
    する基板収納体とを備えた半導体装置の試験装置におい
    て、前記基板収納体の内部に冷媒が通流する流路を設け
    且つ該流路から前記回路基板間に延在するように前記冷
    媒が通流する冷却流路を設けると共に該冷却流路を前記
    大規模集積回路装置に熱的に接続するようにしたことを
    特徴とする半導体装置の試験装置。
JP5325547A 1993-12-24 1993-12-24 半導体装置の試験装置 Pending JPH07181223A (ja)

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