JPH0717726A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- JPH0717726A JPH0717726A JP18318293A JP18318293A JPH0717726A JP H0717726 A JPH0717726 A JP H0717726A JP 18318293 A JP18318293 A JP 18318293A JP 18318293 A JP18318293 A JP 18318293A JP H0717726 A JPH0717726 A JP H0717726A
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- molding
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/26—Mixtures of materials covered by more than one of the groups C03B2215/16 - C03B2215/24, e.g. C-SiC, Cr-Cr2O3, SIALON
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は、安定した離型性を保って外
観の良好な成形品を得ることができる光学素子成形用型
を提供することにある。 【構成】 本発明は、所定の形状に加工した型母材の少
なくとも成形面上に、窒化物、炭化物および酸化物のう
ちの一種類以上と炭素が混合した組成の層を有する光学
素子成形用型である。 【効果】 本発明は、安定した離型性を保って外観の良
好な成形品を得ることができ、成形装置の稼動率向上お
よび良品率の向上によりコスト低減を図った光学素子成
形用型を可能にした。
観の良好な成形品を得ることができる光学素子成形用型
を提供することにある。 【構成】 本発明は、所定の形状に加工した型母材の少
なくとも成形面上に、窒化物、炭化物および酸化物のう
ちの一種類以上と炭素が混合した組成の層を有する光学
素子成形用型である。 【効果】 本発明は、安定した離型性を保って外観の良
好な成形品を得ることができ、成形装置の稼動率向上お
よび良品率の向上によりコスト低減を図った光学素子成
形用型を可能にした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズ、プリズム等の
ガラスよりなる光学素子をガラス素材のプレス成形によ
り製造する場合に使用される成形用型に関するものであ
る。
ガラスよりなる光学素子をガラス素材のプレス成形によ
り製造する場合に使用される成形用型に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】研磨工程を必要としないで、ガラス素材
のプレス成形によってレンズを製造する技術は、従来の
レンズの製造において必要とされた複雑な工程をなく
し、簡単かつ安価にレンズを製造することを可能とし、
今日レンズのみならずプリズムその他のガラスよりなる
光学素子の製造に使用されるようになった。
のプレス成形によってレンズを製造する技術は、従来の
レンズの製造において必要とされた複雑な工程をなく
し、簡単かつ安価にレンズを製造することを可能とし、
今日レンズのみならずプリズムその他のガラスよりなる
光学素子の製造に使用されるようになった。
【０００３】このようなガラスの光学素子のプレス成形
に使用される型材に要求される性能として、耐擦傷性、
耐熱性、離型性、鏡面加工性および成形に適した熱物性
に優れていることがあげられる。
に使用される型材に要求される性能として、耐擦傷性、
耐熱性、離型性、鏡面加工性および成形に適した熱物性
に優れていることがあげられる。
【０００４】従来、この種の型材料として、金属、合
金、セラミックスおよびそれらをコーティングした材料
等、数多くの提案がされている。
金、セラミックスおよびそれらをコーティングした材料
等、数多くの提案がされている。
【０００５】いくつかの例を挙げるならば、特開昭４９
−５１１１２号公報には１３Ｃｒマルテンサイト鋼が、
特開昭５２−４５６１３号公報にはＳｉＣおよびＳｉ3
Ｎ4が、特開昭６０−２４６２３０号公報には超硬合金
に貴金属を形成した材料が提案されている。
−５１１１２号公報には１３Ｃｒマルテンサイト鋼が、
特開昭５２−４５６１３号公報にはＳｉＣおよびＳｉ3
Ｎ4が、特開昭６０−２４６２３０号公報には超硬合金
に貴金属を形成した材料が提案されている。
【０００６】特開昭６１−１３６９２８号公報には金属
とセラミックスからなる複合材母材に窒化物、炭化物、
酸化物および金属の中間層を介して貴金属を形成した材
料が提案されている。
とセラミックスからなる複合材母材に窒化物、炭化物、
酸化物および金属の中間層を介して貴金属を形成した材
料が提案されている。
【０００７】また、特開昭６０−８１０３２号公報には
ガラス状カーボン、炭化珪素、窒化珪素、サイアロンの
型材が提案されている。
ガラス状カーボン、炭化珪素、窒化珪素、サイアロンの
型材が提案されている。
【０００８】更に、近年の薄膜技術の進歩に従い、特開
昭６１−１８３１３４号公報には超硬合金上にダイヤモ
ンドあるいはダイヤモンド状炭素膜を形成して成形型と
した提案がなされている。
昭６１−１８３１３４号公報には超硬合金上にダイヤモ
ンドあるいはダイヤモンド状炭素膜を形成して成形型と
した提案がなされている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
４９−５１１１２号公報に開示されている１３Ｃｒマル
テンサイト鋼は加工性の点で優れているが、耐擦傷性、
耐熱性、離型性が不十分なため良好な型材とはいえな
い。
４９−５１１１２号公報に開示されている１３Ｃｒマル
テンサイト鋼は加工性の点で優れているが、耐擦傷性、
耐熱性、離型性が不十分なため良好な型材とはいえな
い。
【００１０】特開昭５２−４５６１３号公報に開示され
ているＳｉＣおよびＳｉ3 Ｎ4 は耐擦傷性、耐熱性の点
で優れているが、加工性、離型性の点で問題がある。
ているＳｉＣおよびＳｉ3 Ｎ4 は耐擦傷性、耐熱性の点
で優れているが、加工性、離型性の点で問題がある。
【００１１】また、特開昭６０−８１０３２号公報に開
示されているガラス状カーボンは、離型性の点で優れて
いるが、鏡面性および素材の強度の点に問題がある。
示されているガラス状カーボンは、離型性の点で優れて
いるが、鏡面性および素材の強度の点に問題がある。
【００１２】以上の様に、型材単一材料では、ガラスの
成形型として要求される性能を十分満足することができ
ず、特開昭６０−２４６２３０号公報に開示されている
ように、型母材の超硬合金に不足している離型性を貴金
属の型表面処理により補っているが、耐擦傷性の点で改
善が必要である。
成形型として要求される性能を十分満足することができ
ず、特開昭６０−２４６２３０号公報に開示されている
ように、型母材の超硬合金に不足している離型性を貴金
属の型表面処理により補っているが、耐擦傷性の点で改
善が必要である。
【００１３】また、特開昭６１−１８３１３４号公報に
開示されている超硬合金上にダイヤモンドあるいはダイ
ヤモンド状炭素膜を形成して、離型性を損なわずに耐擦
傷性の改善を試みているが、ダイヤモンド膜は表面粗さ
が大きく、成膜後に鏡面研磨を要することおよびその鏡
面研磨が難しいという問題があり、他方のダイヤモンド
状炭素膜は、高温下でのプレス成形過程において、膜質
変化および応力変化を生じ耐擦傷性低下および型母材と
の密着性低下を示すという欠点があった。
開示されている超硬合金上にダイヤモンドあるいはダイ
ヤモンド状炭素膜を形成して、離型性を損なわずに耐擦
傷性の改善を試みているが、ダイヤモンド膜は表面粗さ
が大きく、成膜後に鏡面研磨を要することおよびその鏡
面研磨が難しいという問題があり、他方のダイヤモンド
状炭素膜は、高温下でのプレス成形過程において、膜質
変化および応力変化を生じ耐擦傷性低下および型母材と
の密着性低下を示すという欠点があった。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、型材に
要求される性能として、鏡面加工性、成形に適した熱物
性は成形プロセスを考慮して選定した型母材にその性能
を持たせ、耐擦傷性および離型性については型母材上に
窒化物、炭化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素
が混合した組成の層（水素を含んでも可）を形成してそ
の性能を持たせることにより、全体として良好な成形型
にしたものである。
要求される性能として、鏡面加工性、成形に適した熱物
性は成形プロセスを考慮して選定した型母材にその性能
を持たせ、耐擦傷性および離型性については型母材上に
窒化物、炭化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素
が混合した組成の層（水素を含んでも可）を形成してそ
の性能を持たせることにより、全体として良好な成形型
にしたものである。
【００１５】つまり、例えばダイヤモンド状炭素膜の高
温下での膜質変化および応力変化を、本発明では炭素と
安定性の高い酸化物、窒化物、炭化物とを混合した組成
の膜にすることにより、前記欠点を軽減した。
温下での膜質変化および応力変化を、本発明では炭素と
安定性の高い酸化物、窒化物、炭化物とを混合した組成
の膜にすることにより、前記欠点を軽減した。
【００１６】成形プロセスにより必要とされる離型性能
は異なるため、混合組成比は目的に合わせて決定する。
は異なるため、混合組成比は目的に合わせて決定する。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する 〔実施例１〕図１は本発明の第一の実施例を示し、同図
において１は型母材である超硬合金、６は型母材１の成
形表面に形成した窒化物、炭化物、酸化物のうちの一種
類以上と炭素が混合した組成をもつ薄膜である。
において１は型母材である超硬合金、６は型母材１の成
形表面に形成した窒化物、炭化物、酸化物のうちの一種
類以上と炭素が混合した組成をもつ薄膜である。
【００１８】つぎに上記構成の光学素子成形用型の製作
方法について述べる。
方法について述べる。
【００１９】型母材である超硬合金を所定の型形状に加
工し、成形面を鏡面研磨して表面粗さを０．０２μｍに
して型母材１とした。
工し、成形面を鏡面研磨して表面粗さを０．０２μｍに
して型母材１とした。
【００２０】この型母材１を清浄化し２元蒸着可能な蒸
着装置の基板ホルダーにセットし、１×１０-5Ｔｏｒｒ
迄真空排気した後、高純度炭素とＴｉＯ2 を各々の蒸発
源から電子線蒸着した。膜厚は水晶振動子膜厚計を用
い、約８０ｎｍ厚さの膜６を形成して成形用型１０とし
た。このとき得られた膜の組成は、電子銃のエミッショ
ン電流を変えることにより変化し、成形評価および型と
ガラスの密着力測定結果に基づき、良好な成形を行うた
めの炭素とＴｉの組成比になるようエミッション電流値
を選ぶ必要がある。
着装置の基板ホルダーにセットし、１×１０-5Ｔｏｒｒ
迄真空排気した後、高純度炭素とＴｉＯ2 を各々の蒸発
源から電子線蒸着した。膜厚は水晶振動子膜厚計を用
い、約８０ｎｍ厚さの膜６を形成して成形用型１０とし
た。このとき得られた膜の組成は、電子銃のエミッショ
ン電流を変えることにより変化し、成形評価および型と
ガラスの密着力測定結果に基づき、良好な成形を行うた
めの炭素とＴｉの組成比になるようエミッション電流値
を選ぶ必要がある。
【００２１】表１は炭素とＴｉの組成比と型とガラスの
離型性の関係を示す。なお、組成比はａｔｏｍ％比であ
る。
離型性の関係を示す。なお、組成比はａｔｏｍ％比であ
る。
【００２２】
【００２３】組成比Ｃ／Ｔｉ〜約１１．０は型離れは良
好だが、膜質変化により耐擦傷性が低くなるため、成形
型の表面としては好ましくない。
好だが、膜質変化により耐擦傷性が低くなるため、成形
型の表面としては好ましくない。
【００２４】次に、本発明による光学素子成形用型によ
ってガラスレンズのプレス成形を行なった例について詳
述する。
ってガラスレンズのプレス成形を行なった例について詳
述する。
【００２５】使用したレンズの成形装置は図３に示す。
【００２６】図３中、２１は真空槽本体、２２はそのフ
タ、２３は光学素子を成形する為の上型、２４はその下
型、２５は上型をおさえるための上型おさえ、２６は胴
型、２７は型ホルダー、２８はヒータ、２９は下型をつ
き上げるつき上げ棒、３０は該つき上げ棒を作動するエ
アシリンダ、３１は油回転ポンプ、３２，３３，３４は
バルブ、３５は不活性ガス流入バルブ、３６はバルブ、
３７はリークパイプ、３８はバルブ、３９は温度セン
サ、４０は水冷パイプ、４１は真空槽を支持する台を示
す。
タ、２３は光学素子を成形する為の上型、２４はその下
型、２５は上型をおさえるための上型おさえ、２６は胴
型、２７は型ホルダー、２８はヒータ、２９は下型をつ
き上げるつき上げ棒、３０は該つき上げ棒を作動するエ
アシリンダ、３１は油回転ポンプ、３２，３３，３４は
バルブ、３５は不活性ガス流入バルブ、３６はバルブ、
３７はリークパイプ、３８はバルブ、３９は温度セン
サ、４０は水冷パイプ、４１は真空槽を支持する台を示
す。
【００２７】レンズを製作する工程を次に述べる。フリ
ント系光学ガラスＳＦ１４（オハラ製、転移点Ｔｇ＝４
８５℃、軟化点Ｓｐ＝５８６℃）を球状にし所定の量に
調整したガラス素材を型のキャビティー内に入れる。
ント系光学ガラスＳＦ１４（オハラ製、転移点Ｔｇ＝４
８５℃、軟化点Ｓｐ＝５８６℃）を球状にし所定の量に
調整したガラス素材を型のキャビティー内に入れる。
【００２８】ガラス素材を投入した型を装置内に設置し
てから真空槽２１のフタ２２を閉じ、水冷パイプ４０に
水を流し、ヒーター２８に電流を通す。この時窒素ガス
用バルブ３６及び３８は閉じ、排気系バルブ３２，３
３，３４も閉じている。尚、油回転ポンプ３１は常に回
転している。
てから真空槽２１のフタ２２を閉じ、水冷パイプ４０に
水を流し、ヒーター２８に電流を通す。この時窒素ガス
用バルブ３６及び３８は閉じ、排気系バルブ３２，３
３，３４も閉じている。尚、油回転ポンプ３１は常に回
転している。
【００２９】バルブ３２を開け排気をはじめ１０-2Ｔｏ
ｒｒ以下になったらバルブ３２を閉じ、バルブ３６を開
いて窒素ガスをボンベより真空槽内に導入する。所定温
度になったらエアシリンダ３０を作動させて１０ｋｇ／
ｃｍ2 の圧力で５分間加圧する。圧力を除去した後、冷
却速度を−５℃／ｍｉｎで転位点以下になるまで冷却
し、その後は−２０℃／ｍｉｎ以上の速度で冷却を行な
い、２００℃以下に下がったらバルブ３６を閉じ、リー
クバルブ３３を開いて真空槽２１内に空気を導入する。
それからフタ２２を開け上型おさえをはずして成形物を
取り出す。
ｒｒ以下になったらバルブ３２を閉じ、バルブ３６を開
いて窒素ガスをボンベより真空槽内に導入する。所定温
度になったらエアシリンダ３０を作動させて１０ｋｇ／
ｃｍ2 の圧力で５分間加圧する。圧力を除去した後、冷
却速度を−５℃／ｍｉｎで転位点以下になるまで冷却
し、その後は−２０℃／ｍｉｎ以上の速度で冷却を行な
い、２００℃以下に下がったらバルブ３６を閉じ、リー
クバルブ３３を開いて真空槽２１内に空気を導入する。
それからフタ２２を開け上型おさえをはずして成形物を
取り出す。
【００３０】上記のようにして、フリント系光学ガラス
ＳＦ１４を使用して、レンズを成形した。
ＳＦ１４を使用して、レンズを成形した。
【００３１】〔実施例２〕図２は本発明の第二の実施例
を示し、同図において１は型母材である超硬合金、３は
型母材１の成形面に形成した窒化物、炭化物、酸化物の
うちの一種類以上の組成からなる中間層であり、６は中
間層３上に形成した窒化物、炭化物、酸化物のうちの一
種類以上と炭素が混合した組成をもつ薄膜である。
を示し、同図において１は型母材である超硬合金、３は
型母材１の成形面に形成した窒化物、炭化物、酸化物の
うちの一種類以上の組成からなる中間層であり、６は中
間層３上に形成した窒化物、炭化物、酸化物のうちの一
種類以上と炭素が混合した組成をもつ薄膜である。
【００３２】つぎに上記構成の光学素子成形用型の製作
方法について述べる。
方法について述べる。
【００３３】型母材である超硬合金を所定の型形状に加
工し、成形面を鏡面研磨して表面粗さを０．０２μｍ以
下にして型母材１とした。
工し、成形面を鏡面研磨して表面粗さを０．０２μｍ以
下にして型母材１とした。
【００３４】この型母材１を清浄化し、高加速電圧印加
可能なイオンガンを備えたイオンプレーティング装置の
基板ホルダーにセットし、１×１０-5Ｔｏｒｒ迄真空排
気した後、イオンガン内にＡｒガスを導入して放電さ
せ、１ｋＶの加速電圧を印加して型成形面をイオンスパ
ッタクリーニングした。
可能なイオンガンを備えたイオンプレーティング装置の
基板ホルダーにセットし、１×１０-5Ｔｏｒｒ迄真空排
気した後、イオンガン内にＡｒガスを導入して放電さ
せ、１ｋＶの加速電圧を印加して型成形面をイオンスパ
ッタクリーニングした。
【００３５】その後、Ｎ2 ガスを５×１０-4Ｔｏｒｒ迄
導入して活性化反応蒸着によりＴｉＮ膜を約２μｍ成膜
して中間層３を形成し、引き続きイオンガン内にＣＨ4
ガスを導入して放電を行い加速電圧２ｋＶを印加して炭
素とＴｉＮの混合した組成の膜６を約８０ｎｍ形成して
成形型２０とした。
導入して活性化反応蒸着によりＴｉＮ膜を約２μｍ成膜
して中間層３を形成し、引き続きイオンガン内にＣＨ4
ガスを導入して放電を行い加速電圧２ｋＶを印加して炭
素とＴｉＮの混合した組成の膜６を約８０ｎｍ形成して
成形型２０とした。
【００３６】本実施例の成形用型の離型性は実施例１と
同様であるが、超硬合金母材の表面強度を高める効果お
よび化学的安定性を高める効果がある。
同様であるが、超硬合金母材の表面強度を高める効果お
よび化学的安定性を高める効果がある。
【００３７】この効果は、最表面の窒化物、炭化物、酸
化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成をもつ薄
膜６を除去して再生することも可能である。
化物のうちの一種類以上と炭素が混合した組成をもつ薄
膜６を除去して再生することも可能である。
【００３８】また、本実施例の膜中には多少の水素を含
むが、実成形における弊害は認められなかった。
むが、実成形における弊害は認められなかった。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように、成形面に窒化物、
炭化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素（水素を
含んでも可）が混合した組成の層を有する成形用型を用
いて光学素子を成形することにより、安定した離型性を
保って外観の良好な成形品を得ることができ、成形装置
の稼動率向上および良品率の向上によりコスト低減の効
果がある。
炭化物および酸化物のうちの一種類以上と炭素（水素を
含んでも可）が混合した組成の層を有する成形用型を用
いて光学素子を成形することにより、安定した離型性を
保って外観の良好な成形品を得ることができ、成形装置
の稼動率向上および良品率の向上によりコスト低減の効
果がある。
【００４０】炭素と混合する窒化物、炭化物、酸化物
は、その構成金属元素が、Ｂ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，
Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａの場合、多少の差はある
ものの、安定性の高い窒化物、炭化物、酸化物を形成す
るため、成形用型として安定性の高い成形表面層とな
る。
は、その構成金属元素が、Ｂ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，
Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｈｆ，Ｔａの場合、多少の差はある
ものの、安定性の高い窒化物、炭化物、酸化物を形成す
るため、成形用型として安定性の高い成形表面層とな
る。
【００４１】型母材は、超硬合金、サーメット、焼結Ｓ
ｉ3 Ｎ4 、焼結ＳｉＣ（表面ＣＶＤＳｉＣコーティング
も含む）、ステンレス鋼など熱物性の異なる材料を成形
光学素子形状、成形プロセス対応して最適材を選び精度
の高い光学素子を得ることができる。
ｉ3 Ｎ4 、焼結ＳｉＣ（表面ＣＶＤＳｉＣコーティング
も含む）、ステンレス鋼など熱物性の異なる材料を成形
光学素子形状、成形プロセス対応して最適材を選び精度
の高い光学素子を得ることができる。
【００４２】成形表面層の組成として、炭素と窒化物、
炭化物、酸化物が混合した組成にすることにより、成形
時における膜剥離の問題は無くなった。
炭化物、酸化物が混合した組成にすることにより、成形
時における膜剥離の問題は無くなった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を実施した成形用型の構成を示す模式図
である。
である。
【図２】本発明を実施した他の成形用型の構成を示す模
式図である。
式図である。
【図３】本発明の光学素子成形用型を使用するレンズの
成形装置を示す断面図である。
成形装置を示す断面図である。
１ 型母材 ３ 中間層 ６ 成形表面層 １０ 成形表面層を備えた成形用型 ２０ 中間層上に成形表面層を備えた成形用型 ２１ 真空槽本体 ２２ フタ ２３ 上型 ２４ 下型 ２５ 上型おさえ ２６ 胴型 ２７ 型ホルダー ２８ ヒーター ２９ つき上げ棒 ３０ エアシリンダ ３１ 油回転ポンプ ３２，３３，３４ バルブ ３５ 流入パイプ ３６ バルブ ３７ 流出パイプ ３８ バルブ ３９ 温度センサ ４０ 水冷パイプ ４１ 台
フロントページの続き (72)発明者 谷口 靖 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 平林 敬二 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 所定の形状に加工した型母材の少なくと
も成形面上に、窒化物、炭化物および酸化物のうちの一
種類以上と炭素が混合した組成の層を有することを特徴
とする光学素子成形用型。 - 【請求項２】 前記炭素と窒化物、炭化物および酸化物
のうちの一種類以上に含まれる金属元素との組成比がａ
ｔｏｍ％比で炭素／金属＝２〜１０である請求項１記載
の光学素子成形用型。 - 【請求項３】 前記窒化物、炭化物および酸化物の構成
金属元素がＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎ
ｂ，Ｈｆ，ＴａおよびＷのうちの１種以上である請求項
１記載の光学素子成形用型。 - 【請求項４】 前記型母材が超硬合金、サーメット、焼
結Ｓｉ3 Ｎ4 、焼結ＳｉＣまたはステンレス鋼である請
求項１記載の光学素子成形用型。 - 【請求項５】 前記型母材と窒化物、炭化物、酸化物の
うちの一種類以上と炭素が混合した組成の層との間に、
窒化物、炭化物および酸化物のうちの一種類以上の組成
をもち、かつ該窒化物、炭化物および酸化物の構成金属
元素がＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，
Ｈｆ，ＴａおよびＷのうちの１種以上である中間層を有
する請求項１記載の光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5183182A JP2785903B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5183182A JP2785903B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 光学素子成形用型 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0717726A true JPH0717726A (ja) | 1995-01-20 |
| JP2785903B2 JP2785903B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5183182A Expired - Fee Related JP2785903B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2785903B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2005115933A1 (ja) * | 2004-05-27 | 2008-03-27 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学素子形成用成形型並びにその製造方法及び再生方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0524865A (ja) * | 1991-07-15 | 1993-02-02 | Konica Corp | 光学ガラス素子成形用金型 |
-
1993
- 1993-06-30 JP JP5183182A patent/JP2785903B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0524865A (ja) * | 1991-07-15 | 1993-02-02 | Konica Corp | 光学ガラス素子成形用金型 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2005115933A1 (ja) * | 2004-05-27 | 2008-03-27 | コニカミノルタオプト株式会社 | 光学素子形成用成形型並びにその製造方法及び再生方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2785903B2 (ja) | 1998-08-13 |
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