JPH07177019A - 基板内への電子注入を低減化する改良型反転出力駆動回路 - Google Patents

基板内への電子注入を低減化する改良型反転出力駆動回路

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JPH07177019A
JPH07177019A JP6101478A JP10147894A JPH07177019A JP H07177019 A JPH07177019 A JP H07177019A JP 6101478 A JP6101478 A JP 6101478A JP 10147894 A JP10147894 A JP 10147894A JP H07177019 A JPH07177019 A JP H07177019A
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channel fet
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fet
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 回路のプル・アップ電界効果型トランジスタ
ーのドレンにより基板内への電子注入を低減化させる新
規の反転出力駆動回路を提供すること。 【構成】 回路のプル・アップ電界効果型トランジスタ
ーのドレンにより基板内への電子注入を低減化させる新
規の反転出力駆動回路が開示されている。これはプル・
アップ・トランジスターのゲート電圧でソース電圧を追
随可能とする付加的回路を加えることにより達成され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は集積回路の設計に関する
もので,更に詳細にはCMOS適用例において使用され
る(バッファー回路とも称する)出力回路に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】図1は慣用的な出力駆動回路を表す。両
方のトランジスターQ1とQ2のゲート電圧はアース電
位差になっており出力ノードOは低くなっているとの仮
定では非一致インターフエースでの反射によって出力ノ
ードOがアース以下,例えば,-1.0ボルトに下がる。こ
れらの条件下において,トランジスターQ1のゲートは
ソースに関連して正になる。その結果,トランジスター
Q1のチャンネルは自由な電子キャリアーを発生し始め
る。Q1の如き(以後 FETとも称する)絶縁ゲート界効
果トランジスターにおいては電界強度はドレン接合がゲ
ート・エッジの真下になるシリコン−二酸化珪素インタ
ーフェース付近で最大になっている。自由電子キャリア
ーがソース領域からドレン近くの高い電界領域を通過す
る際,これらのキャリアーは主に大気空気温度に貢献し
得るエネルギーをはるかに越えるエネルギーを得ること
が出来る。こうした状態において,これらの電子は「高
温キャリアー」と考えられ,多数の「高温キャリアー」
効果を生ぜしめることが出来る。電界効果型トランジス
ターに対して,高温電子発生に関する最悪のシナリオ事
例は一般にゲート対ソース電圧(VGS) がドレン対ソース
電圧(VDS) の約半分の値になっている状態であると考え
られる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】MOSメモリー回路に
おいては「高温キャリヤー効果」は記憶されたデータ値
を直接変更すること及びデバイス性能を永久的に変更す
ることにより回路動作を乱すことがある。高温電子キャ
リヤーの大部分はドレン領域により集められるが一部の
キャリヤーはチャンネルに残り,又,ゲート酸化物層を
通じてゲートへ移動する。電子の多くは明らかにゲート
酸化物層内に捕獲されるようになり,かくしてデバイス
の閾値電圧をシフトさせる。他の電子は基板内に注入さ
れ,この基板を通じてこれらの電子はメモリー・アレー
へ移動出来,そこでこれらの電子は「1」の論理値(即
ち,正の電荷)が格納されるセルに依り引き寄せられ
る。電荷ロスの補償を行うべくリフレッシュ・サイクル
が短くされない場合はデータはこの機構を通じて破壊さ
れることになるかも知れない。基板内への電子注入もC
MOS回路内のラッチ・アップ状態を破壊することがあ
る。
【0004】嵩高のCMOS回路を作成するのに要求さ
れる現行の構造はラッチ・アップが生じ易い。N−チャ
ネルとP−チャンネル電界効果型トランジスターを得る
には,P型とN型両者のバックグラウンド材料を得る必
要がある。典型的には,CMOS作成方法は単一導電型
のシリコン・ウエハーから始まる。ウエル又はチューブ
として知られている導電率が逆の形式の領域は元のドー
パントを沈降させるドーパント種を拡散若しくは注入す
ることに依り達成される。P型ウエハー上に構築される
回路に対してはP−チャネルFET がNウエル内に作成さ
れ,一方,N−チャネルFET は直接P型ウエハー基板内
に構築される。不幸なことに,FET がー成される唯一の
構造ではない。寄生バイポーラ・トランジスターから成
るPNPNデバイスも作成される。一部の動作条件下におい
て,このPNPNデバイスは回路を破壊するアース短絡を生
ぜしめるVcc (電源電圧)を発生出来る。
【0005】多くの設計者は図1のFET Q1を一対のFET,
Q3 及びQ4と置換することにより出力駆動回路における
電子注入問題を提起した。こうした回路については図2
に表してある。こうした解決方法はトランジスターQ3と
Q4がVcc と出力ノードの間の電圧降下を分割するよう作
用するので,出力ノードOがアース電位差以下に下がる
際電子注入を低減化するのに有効である。しかしなが
ら,FET Q3及びQ4に対して要求される領域は図1のトラ
ンジスターQ1に対して要求される領域の約4倍である。
従って,電子注入を低減化するこの解決策はコスト高で
あり,典型的なメモリー回路に対しては著しく成り得
る。
【0006】必要とされるものは基板内への電子注入を
低減化する新規にして空間効果的な駆動回路にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】回路のプル・アップ電界
効果型トランジスターのドレンにより基板内への電子注
入を低減化する新規の反転出力駆動回路が開示されてい
る。これはプル・アップ・トランジスターのゲート電圧
でソース電圧を追随出来る付加的な回路を加えることに
より達成される。出力回路は,第1P−チャンネルFET
を通じてVcc 並びにそれぞれ第1及び第2直列接続N−
チャネルFET を通じてアースに接続された出力ノード
(以後中間ノードと称する)を有する3状態インバータ
ーを使用する。P−チャネルFET と第1N−チャネルFE
T のゲートは入力ノードに接続され,入力ノードにより
制御される。中間ノードは第3N−チャネルFET のゲー
トを制御し,これを通じて最終出力ノードがVcc に接続
される。中間ノードは第4N−チャネルFET を通じて最
終出力ノードに接続され,このゲートはアース電位差に
保持される。第2N−チャネルFET のゲートは第2P−
チャネルFET を通じてVcc に接続され且つ第2P−チャ
ネルFET より更に大きい駆動を有する第5N−チャネル
FET を通じて最終出力ノードに接続される。第2P−チ
ャネルFET と第5N−チャネルFET 両者のゲートもアー
ス電位差に保持される。最終出力がアース電位差より大
きい場合は第2N−チャネルFET のゲートはVcc になっ
ている。従って,第2N−チャネルのチャンネルは導電
性がある。しかしながら,最終出力ノードがアース電位
差を下回って降下する場合は,ゲート電圧は第4N−チ
ャネルFET 及び第5N−チャネルFET 両者に対するソー
ス電圧より大きくなり,従って,両方のFET を導通状態
にする。これが結果的に第2N−チャネルFET のゲート
を引っ張り,アース電位差以下にし,そのFET を通る電
流の流れを遮断する。同時に,中間ノードは第4N−チ
ャンネルFET を通じて最終出力ノードに直結されるの
で,第3N−チャネルFET のゲート上の電圧はその上の
ソース電圧に従う。従って,第3N−チャネルFET を通
る電流の流れが遮断され,高温電子注入が緩められる。
この回路の一部の変更が可能である。例えば,第1N−
チャネルFET と第2N−チャネルFET の機能は逆転可能
である。その上,第2P−チャネルFET は抵抗として機
能し,又,ゲートがVcc に連結された第6N−チャネル
FET を含む抵抗又はドーピングされた若しくは非ドーピ
ングの多結晶シリコン抵抗として機能する任意のデバイ
スと置換可能である。
【0008】
【実施例】ここで,図3を参照すると,新規の空間効果
型出力駆動回路の第1実施態様は中間ノードNMを有し,
中間ノードは第1P−チャネルFET QP1 を通じて電源電
圧(Vcc)に接続され且つ直列に接続された第1N−チャ
ネルFET QN1 並びに第2N−チャネルFET QN2, QN1及び
QN2 を通じてアースに接続され,このQN1 は電気的値は
ノードNMに近くなっている。FET QP1 のゲートとFET QN
1 のゲートは入力ノードNIに接続され,入力ノードNI
より制御される。FET QP1, QN1及びQN2 は3状態インバ
ーターとして作動可能であることを理解すべきである。
中間ノードNMは第3N−チャネルFET QN3 のゲートに接
続されて当該ゲートを制御し,これを通じて最終出力ノ
ードNoがVcc に接続される。中間ノードNMは第4N−チ
ャネルFET QN4 を通じてノードNoに接続され,このゲー
トは永久的にアース電位差に保持される。FET QN2 のゲ
ートは第2P−チャネルFET QP2 を通じてVcc に接続さ
れ,第5N−チャネルFET QN5 を通じて最終出力ノード
Noに接続され,当該第5N−チャネルFET QN5 はFET QP
2 より更に大きい駆動を有する。FET QP2 及びFET QN5
両者のゲートも永久的にアース電位差に保持される。最
終出力ノードNo上の電位差がアース電位差より高い場
合はFET QN2 のゲートはVcc になっている。従って,FE
T QN2 のチャンネルは導電性となる。しかしながら,最
終出力ノードNoがアース電位差を下回って降下する場合
は,ゲート電圧はFET QN4 及びFETQN5 両者に対するソ
ース電圧より高くなり,こうしてこれらのFET 両者のチ
ャンネルを導通状態にする。これが結果的にFET QN2 の
ゲートをアース電位差を下回る値に引っ張り,これがFE
T を通る電流を低減化させる。(アース電位差を下回る
電圧降下の大きさが十分であればFET QN2 を通る電流の
流れは全体的に遮断される。) FET QN2 を通る電流の
流れにおける降下と同時的に中間ノードNMはFET QN4 を
通じて最終出力ノードNoに直結されので,FET QN3 のゲ
ート上の電圧はその上のソース電圧に追随する。従っ
て,FET QN3 を通る電流の流れは低減化されるか又は遮
断され,基板内の高温電子注入が行われる。
【0009】ここで図4を参照すると、FET QN2 が入力
ノードNIに接続され,FET QN1 がFET QP2 を介してVcc
に接続され且つFET QN5 を通じて最終出力ノードNoに接
続される点を除いて第2実施態様と類似している新規の
出力駆動回路の第2実施態様が示してある。
【0010】第2P−チャネルFET QP2 は抵抗として機
能することに注目されよう。従って,Vccにゲートが接
続された低駆動N−チャンネルFET 若しくは所望の電流
流れを提供するドーピング若しくは非ドーピングの多結
晶シリコンの片体を含む抵抗として機能する任意のデバ
イスと置換可能である。図5はFET QP2 と抵抗R1が置換
された図3の実施態様を表す。同様に,図6は図4の実
施態様を表すが,FETQP2 はゲートがVccに接続された
第6N−チャネルFET QN6 と置換される。
【0011】新しい出力駆動回路は図2に表された回路
以上に一定の空間節約上の利点を備えている。図2のFE
T Q3及びQ4に対して要求される面積は図1のトランジス
ターQ1に対して要求される面積の大略4倍であるが,
FET QP1, QP2, QN2, QN3, QN4 及びQN5 に対して要求さ
れる全体の空間は図2のFET Q3及びQ4に対して要求され
る空間の大略1/2である。
【0012】図7を参照すると,FET QN3 上のゲート電
圧と最終出力ノードNo上の電圧は両者共時間の関数とし
てプロットされている。最終出力ノードNo上の電圧がア
ース電位差を下回る閾値電圧以上降下する場合,FET QN
4 及びFET QN5 はスイッチ・オンし始め,その結果,遷
移期間T後にゲート電圧が最終出力ノードにクランプさ
れることが観察されよう。
【0013】新規の空間効果型高温電子放射緩和駆動回
路の多数の実施態様についてのみ説明してあるが,集積
回路設計技術における通常の知識を有する者にとっては
前記特許請求した本発明の技術思想と範囲から逸脱せず
に本発明に対して多くの変更と改変をなし得ることが明
らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】慣用的な二重N−チャネル出力駆動装置の回路
図。
【図2】高温電子放射を低減化する先行技術のトリプル
N−チャネル出力駆動装置の回路図。
【図3】高温電子放射を低減化する新規の空間効果型出
力駆動回路の第1実施態様の回路図。
【図4】高温電子放射を低減化する新規の空間効果型出
力駆動回路の第2実施態様の回路図。
【図5】第2P−チャネルFET が抵抗と置換された点を
除く,新規の空間効果型出力駆動回路の第1実施態様の
回路図。
【図6】第2P−チャネルFET がゲートをVccに接続し
たN−チャネルFET と置換した点を除く,新規の空間効
果型出力駆動回路の第2実施態様の回路図。
【図7】FET QN3 対最終出力ノード電圧でのゲート電圧
のプロット図。
【符号の説明】
No 最終出力ノード NM 中間ノード NI 入力ノード O 出力ノード Q1 電界効果型トランジスター Q2 電界効果型トランジスタ− Q3 電界効果型トランジスタ− Q4 電界効果型トランジスタ− QP1 第1P−チャネルFET QP2 第2P−チャネルFET QN1 第1N−チャネルFET QN2 第2N−チャネルFET QN3 第3N−チャネルFET QN4 第4N−チャネルFET QN5 第5N−チャネルFET QN6 第6N−チャネルFET R1 抵抗 T 遷移期間 Vcc 電源電圧
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H03K 19/0948 8839−5J H03K 19/094 B (72)発明者 ケビン・ジー・デューズマン アメリカ合衆国、83706 アイダホ州、ボ イーズ、サウス・サントゥリー 4084

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高温電子放射を低減化する空間効果型反
    転出力駆動回路であって、 第1及び第2P−チャネルFET ( それぞれQP1 及びQP2
    );第1,第2,第3,第4及び第5N−チャネルFET
    (それぞれ,QN1, QN2,QN3及びQN4);各P−チャネルFET
    と各N−チャネルFET が、定義上、ゲート,ソース領
    域,ドレン領域及びチャンネル領域を有すること;前記
    第5N−チャネルFET(QN5)が前記第2P−チャネルFET
    (QP2)より大きい駆動を有すること;第2N−チャネルF
    ET(QN2)のゲートが第2P−チャネルFET(QP2)を通じて
    電源電圧(Vcc) に接続してあること;第2P−チャネル
    FET(QP2)のゲート,第4N−チャネルFET(QN4)のゲート
    及び第5N−チャネルFET(QN5)のゲートが永久的に接地
    電位差に保持されること;第1P−チャネルFET(QP1)の
    ゲートと第1N−チャネルFET(QN1)のゲートに接続され
    る入力ノード(NI);第1P−チャネルFET(QP1)を通じて
    電源電圧(Vcc) に接続され且つ第1N−チャネル−T(QN
    1)及び第2N−チャネルFET(QN2)両者を通じてアースに
    接続された中間ノード(NM),前記第1及び第2N−チャ
    ネルFET(それぞれ,QN1 及びQN2)が直列に接続されてい
    ること,第1N−チャネルFET(QN1)が電気的に中間ノー
    ド(NM)に近いこと;前記中間ノード(NM)が第3N−チャ
    ネルFET(QN3)のゲートに接続されること;第3N−チャ
    ネルFET(QN3)を通じてVcc に接続され、第4N−チャネ
    ルFET(QN4)を通じて中間ノード(NM)に接続され且つ第5
    N−チャネルFET(QN5)を通じて第2N−チャネルFET(QN
    2)のゲートに接続されている最終出力ノード(No)から成
    る高温電子放射を低減化する空間効果型反転出力駆動回
    路。
  2. 【請求項2】 前記第5N−チャネルFET(QN5)が前記第
    2P−チャネルFET(QP2)の駆動の少なくとも2倍になっ
    ている請求項1記載の高温電子放射を低減化する空間効
    果型反転出力駆動回路。
  3. 【請求項3】 最終出力ノード(No)の電位差がアース電
    位差以下である際ゲート対ソース電圧が第3N−チャネ
    ルFET(QN3)に対する閾値以下に維持される請求項2記載
    の高温電子放射ー低減化する空間効果型反転出力駆動回
    路。
  4. 【請求項4】 高温電子放射を低減化する空間効果型反
    転出力駆動回路であって、 第1及び第2P−チャネルFET ( それぞれQP1 及びQP2
    );第1,第2,第3,第4及び第5N−チャネルFET
    (それぞれ,QN1, QN2, QN3,QN4 及びQN5);各P−チャ
    ネルFET と各N−チャネルFET が、定義上、ゲート,ソ
    ース領域,ドレン領域及びチャンネル領域を有するこ
    と;前記第5N−チャネルFET(QN5)が前記第1P−チャ
    ネルFET(QP1) より大きい駆動を有すること;第1N−
    チャネルFET(QN1)のゲートが第2P−チャネルFET(QP2)
    を通じて電源電圧(Vcc) に接続してあること;第2P−
    チャネルFET(QP2)のゲート,第4N−チャネルFET(QN4)
    のゲート及び第5N−チャネルFET(QN5)のゲートが永久
    的に接地電位差に保持されること;第1P−チャネルFE
    T(QP1)のゲートと第2N−チャネルFET(QN2)のゲートに
    接続される入力ノード;第1P−チャネルFET(QP1)を通
    じて電源電圧(Vcc) に接続され且つ第1N−チャネルFE
    T(QN1)及び第2N−チャネルFET(QN2)両者を通じてアー
    スに接続された中間ノード(NM),前記第1及び第2N−
    チャネルFET(それぞれ,QN1 及びQN2)が直列に接続され
    ていること,第1N−チャネルFET(QN1)が電気的に中間
    ノード(NM)に近いこと;前記中間ノード(NM)が第3N−
    チャネルFET(QN3)のゲー トに接続されること;第3N
    −チャネルFET(QN3)を通じてVcc に接続され、第4N−
    チャネルFET(QN4)を通じて中間ノード(NM)に接続され且
    つ第5N−チャネルFET(QN5)を通じて第1N−チャネル
    FET(QN1)のゲートに接続されている最終出力ノード(No)
    から成る高温ー子放射を低減化する空間効果型反転出力
    駆動回路。
  5. 【請求項5】 前記第5N−チャネルFET(QN5)が前記第
    2P−チャネルFET(QP2)の駆動の少なくとも2倍になっ
    ている請求項4記載の高温電子放射を低減化する空間効
    果型反転出力駆動回路。
  6. 【請求項6】 最終出力ノード(No)の電位差がアース電
    位差以下である際ゲート対ソース電圧が第3N−チャネ
    ルFET(QN3)に対する閾値以下にー持される請求項5記載
    の高温電子放射を低減化する空間効果型反転出力駆動回
    路。
  7. 【請求項7】 N−チャネルFET(QN3)のゲートに対する
    中間ノード(NM)でのディジタル信号の選択的印加による
    最終出力ノード(No)への接続を行うN−チャネル・プル
    ・アップFET(QN3)を有し,前記回路が,中間ノード(NM)
    が低論理状態にあって最終出力ノード(No)がアース電位
    差を下回って降下する際はいつでも中間ノード(NM)を最
    終出力ノード(No)にクランプする手段を含むようにした
    出力駆動回路。
  8. 【請求項8】 前記クランプ手段が、 中間ノード(NM)をアース電位差から同時的に切り離し中
    間ノード(NM)を最終出力ノード(No)に接続する手段を含
    むようにした請求項7記載の出力駆動回路。
  9. 【請求項9】 前記切り離し手段が中間ノード(NM)を選
    択的にアースに接続する電気的経路内の付加的FET(QN2)
    を含み,前記接続手段が中間ノード(NM)を選択的に最終
    出力ノード(No)に接続する更に他のFET(QN4)を含み,両
    方の付加的FET(QN2 及びQN4)が最終出力ノード(No)にお
    ける負電圧で励起可能である請求項8記載の出力駆動回
    路。
  10. 【請求項10】 両方の付加的FET(QN2 及びQN4)がN−
    チャネル・デバイスである請求項9記載の出力駆動回
    路。
  11. 【請求項11】 FET(QN2)のゲートが永久的にアース電
    位差に結合されている請求項10記載の出力駆動回路。
  12. 【請求項12】 抵抗として機能するデバイスを通じて
    Vcc に接続され且つ更に他のFET(QN5)を通じて最終出力
    ノードに接続されたノードにFET(QN2)のゲートが結合さ
    れ,FET(QP2)及びFET(QN5)両者のゲートが永久的にアー
    ス電位差に結合されている請求項10記載の出力駆動回
    路。
  13. 【請求項13】 抵抗として機能するデバイスがゲート
    をアースに結合させたP−チャネルFET(QP2)である請求
    項12記載の出力駆動回路。
  14. 【請求項14】 抵抗として機能するデバイスがゲート
    をVcc に結合させたN−チャネルFET(QN6)である請求項
    12記載の出力駆動回路。
  15. 【請求項15】 高温電子放射を低減化する空間効果型
    反転出力駆動回路であって、 第1P−チャネルFET(QP1);第1,第2,第3,第4及
    び第5N−チャネルFET(それぞれ,QN1, QN2,QN3,QN4
    及びQN5 ) ;各P−チャネルFET と各N−チャネルFET
    が、定義上、ゲート,ソース領域,ドレン領域及びチャ
    ンネル領域を有すること;抵抗性デバイス;前記第5N
    −チャネルFET(QN5)が前記抵抗性デバイスより大きい駆
    動を有すること;第2N−チャネルFET のゲートが抵抗
    性デバイスを通じて電源電圧(Vcc)に接続してあるこ
    と;第4N−チャネルFET(QN4)のゲート,第5N−チャ
    ネルFET(QN5)のゲートが永久的にアース電位差に保持さ
    れること;第1P−チャネルFET(QP1)のゲートと第1N
    −チャネルFET(QN1)のゲートに接続される入力ノード(N
    I)、第1P−チャネルFET(QP1)を通じて電源電圧(Vcc)
    に接続され且つ第1N−チャネルFET(QN1)及び第2N−
    チャネルFET(QN2)両者を通じてアースに接続された中間
    ノード(NM),前記第1及び第2N−チャンネルFET(それ
    ぞれ,QN1 及びQN2)が直列に接続されていること,第1
    N−チャネルFET(QN1)が電気的に中間ノード(NM)に近い
    こと;前記中間ノード(NM)が第3N−チャネルFET(QN3)
    のゲートに接続されること;第3N−チャネルFET(QN3)
    を通じてVcc に接続され、第4N−チャネルFET(QN4)を
    通じて中間ノード(NM)に接続され且つ第5N−チャンネ
    ルFET(QN5)を通じて第2N−チャネルFET(QN2)のゲート
    に接続されている最終出力ノード(No)から成る高温電子
    放射を低減化する空間効果型反転出力駆動回路。
  16. 【請求項16】 前記抵抗性デバイスがそのゲートを永
    久的にアース電位差に保持した第2P−チャネルFET(QP
    2)である請求項15記載の空間効果型反転出力駆動回
    路。
  17. 【請求項17】 前記抵抗性デバイスがそのゲートをVc
    c の電位差に保持した第6N−チャネルFET(QN6)である
    請求項15記載の空間効果型反転出力駆動回路。
  18. 【請求項18】 高温電子放射を低減化する空間効果型
    反転出力駆動回路であって、 第1P−チャネルFET(QP1);第1,第2,第3,第4及
    び第5N−チャネルFET(それぞれ,QN1, QN2, QN3,QN4
    及びQN5);各P−チャネルFET と各N−チャネルFET
    が、定義上、ゲート,ソース領域,ドレン領域及びチャ
    ンネル領域を有すること;抵抗性デバイス;前記第5N
    −チャネルFET(QN5)が前記抵抗性デバイスより大きい駆
    動を有すること;第1N−チャネルFET(QN1)のゲートが
    抵抗性デバイスを通じて電源電圧(Vcc) に接続してある
    こと;第4N−チャネルFET(QN4)のゲートと第5N−チ
    ャネルFET(QN5)のゲートが永久的に接地電位差に保持さ
    れること;第1P−チャネルFET(QP1)のゲートと第2N
    −チャネルFET(QN2)のゲートに接続される入力ノード(N
    I);第1P−チャネルFET(QP1)を通じて電源電圧(Vcc)
    に接続され且つ第1N−チャネルFET(QN1)及び第2N
    −チャネルFET(QN2)両者を通じてアースに接続された中
    間ノード(NM),前記第1及び第2N−チャネルFET(それ
    ぞれ,QN1 及びQN2)が直列に接続されていること,第1
    N−チャネルFET(QN1)が電気的に中間ノード(NM)に近い
    こと;前記中間ノード(NM)が第3N−チャネルFET(QN3)
    のゲートに接続されること;第3N−チャネルFET(QN3)
    を通じてVcc に接続され、第4N−チャネルFET(QN4)を
    通じて中間ノード(NM)に接続され且つ第5N−チャネル
    FET(QN5)を通じて第1N−チャネルFET(QN1)のゲートに
    接続されている最終出力ノード(No)から成る高温電子放
    射を低減化する空間効果型反転出力駆動回路。
  19. 【請求項19】 前記抵抗性デバイスがそのゲートを永
    久的にアース電位差に保持した第2P−チャネルFET(QP
    2)である請求項18記載の空間効果型反転出力駆動回
    路。
  20. 【請求項20】 前記抵抗性デバイスがそのゲートをVc
    c の電位差に保持した第6N−チャネルFET(QN6)である
    請求項18記載の空間効果型反転出力駆動回路。
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