JPH07176069A - 浮上型光ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
浮上型光ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH07176069A JPH07176069A JP5319896A JP31989693A JPH07176069A JP H07176069 A JPH07176069 A JP H07176069A JP 5319896 A JP5319896 A JP 5319896A JP 31989693 A JP31989693 A JP 31989693A JP H07176069 A JPH07176069 A JP H07176069A
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- slider
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 小型で軽量の光ヘッド、及びその製造方法を
供する。 【構成】 記録媒体を透明基板の裏面に構成し、それと
反対の表面にスライダーを浮上走行させるようにし、か
つ対物レンズの駆動機構として、シリコン単結晶から異
方性エッチングで構成した駆動機構を用いる。 【効果】 高速アクセス可能な光ヘッドを安価に構成で
きる。
供する。 【構成】 記録媒体を透明基板の裏面に構成し、それと
反対の表面にスライダーを浮上走行させるようにし、か
つ対物レンズの駆動機構として、シリコン単結晶から異
方性エッチングで構成した駆動機構を用いる。 【効果】 高速アクセス可能な光ヘッドを安価に構成で
きる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光で情報を記録再生、
または消去する光記録装置に関し、特に当該装置に用い
られる光ヘッド構造及びその製造方法に関する。
または消去する光記録装置に関し、特に当該装置に用い
られる光ヘッド構造及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光を用いて情報を記録する記録装
置としては光ディスク装置がよく知られている。これは
基板の上に記録媒体を形成し、基板を回転させ、これに
レーザーなどを用いた光ヘッドで、情報を記録・再生す
るものである。この場合、光ヘッドとしては、対物レン
ズや光学部品を組み合わせ、さらに基板の軸方向の動き
やトラック方向の動きに追随させるため、対物レンズを
電磁力で駆動する構造となっていた。
置としては光ディスク装置がよく知られている。これは
基板の上に記録媒体を形成し、基板を回転させ、これに
レーザーなどを用いた光ヘッドで、情報を記録・再生す
るものである。この場合、光ヘッドとしては、対物レン
ズや光学部品を組み合わせ、さらに基板の軸方向の動き
やトラック方向の動きに追随させるため、対物レンズを
電磁力で駆動する構造となっていた。
【０００３】また、これとは別に、記録媒体に近接させ
てスライダーを空気力学的に浮上させて可動部とし、こ
れに対物レンズを取り付けて、フォーカスサーボを省略
した例がある（参考文献；日本応用物理学会８９年春予
稿集２ｐ−ＺＢ−５、同９０年春３０ａ−Ｇ−９）。上
記のような方法であると、レンズの駆動機構が不要なた
め、ヘッド可動部が軽量化され、高速なアクセスが可能
となる。
てスライダーを空気力学的に浮上させて可動部とし、こ
れに対物レンズを取り付けて、フォーカスサーボを省略
した例がある（参考文献；日本応用物理学会８９年春予
稿集２ｐ−ＺＢ−５、同９０年春３０ａ−Ｇ−９）。上
記のような方法であると、レンズの駆動機構が不要なた
め、ヘッド可動部が軽量化され、高速なアクセスが可能
となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の光学部品を組み
合わせたヘッドでは、光ヘッド全体が大きく、重くな
り、所望のトラックへヘッドを移動させる（アクセスす
る）のに時間がかかり、情報の高速再生、記録に大きな
障害となっていた。
合わせたヘッドでは、光ヘッド全体が大きく、重くな
り、所望のトラックへヘッドを移動させる（アクセスす
る）のに時間がかかり、情報の高速再生、記録に大きな
障害となっていた。
【０００５】また、浮上スライダーを用いた場合では、
記録媒体が露出しているため、記録媒体の信頼性の面で
不安があった。また、この場合フォーカスサーボは殆ど
不要になるとはいうもののある程度の調節機構が必要
で、これを固定部に内蔵させたリレーレンズで処理して
いるが、これは固定部の構造を複雑にしていた。
記録媒体が露出しているため、記録媒体の信頼性の面で
不安があった。また、この場合フォーカスサーボは殆ど
不要になるとはいうもののある程度の調節機構が必要
で、これを固定部に内蔵させたリレーレンズで処理して
いるが、これは固定部の構造を複雑にしていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明は記録媒
体の信頼性を確保しながら、高速なアクセスを可能にす
る光ヘッド構造およびそれを用いた光記録装置を創出し
ようとするものである。上述の目的を達成するため本発
明は、記録媒体を透明基板の裏面に構成し、それと反対
の表面にスライダーを浮上走行させるようにし、かつ対
物レンズの駆動機構として、シリコン単結晶から異方性
エッチングで構成した駆動機構を用いるものである。
体の信頼性を確保しながら、高速なアクセスを可能にす
る光ヘッド構造およびそれを用いた光記録装置を創出し
ようとするものである。上述の目的を達成するため本発
明は、記録媒体を透明基板の裏面に構成し、それと反対
の表面にスライダーを浮上走行させるようにし、かつ対
物レンズの駆動機構として、シリコン単結晶から異方性
エッチングで構成した駆動機構を用いるものである。
【０００７】
【作用】本発明の浮上スライダーを用いると、光ピック
アップが極めて軽量、小型化され、所望のトラックに対
するピックアップの移動時間（アクセス時間）が短縮さ
れ、高速な記録装置が得られる。また、スライダーとフ
ォーカス方向への駆動機構が一体化されているので、部
品点数が少なく作製コストが安くつく。
アップが極めて軽量、小型化され、所望のトラックに対
するピックアップの移動時間（アクセス時間）が短縮さ
れ、高速な記録装置が得られる。また、スライダーとフ
ォーカス方向への駆動機構が一体化されているので、部
品点数が少なく作製コストが安くつく。
【０００８】
【実施例】図１は本発明の光ヘッドの構成を示すもので
あり、図１（ａ）は立面図、同（ｂ）は側面図、同
（ｃ）は平面図を表したものである。透明基板１０１の
裏面には記録媒体１０２が構成されている。記録媒体１
０２としては光磁気効果を用いた光磁気媒体や、相変化
を用いた相変化材料、あるいは温度上昇による穴あけを
もちいた追記型記録媒体を用いることができる。
あり、図１（ａ）は立面図、同（ｂ）は側面図、同
（ｃ）は平面図を表したものである。透明基板１０１の
裏面には記録媒体１０２が構成されている。記録媒体１
０２としては光磁気効果を用いた光磁気媒体や、相変化
を用いた相変化材料、あるいは温度上昇による穴あけを
もちいた追記型記録媒体を用いることができる。
【０００９】図１（ｂ）において、浮上スライダー１０
３は基板１０１の回転方向Ｒの回転につれて、基板１０
１から浮上し、非接触で微小な隙間を保ったまま保持さ
れる。
３は基板１０１の回転方向Ｒの回転につれて、基板１０
１から浮上し、非接触で微小な隙間を保ったまま保持さ
れる。
【００１０】この浮上量は、基板１０１の回転速度（線
速度）やスライダー１０３の重量などによって決まり、
一定の値を取るが、ある誤差の範囲で変動を生じる。ま
た、記録媒体１０２は基板１０１の対物レンズを挟んで
反対側にあるため、フォーカスについては、基板１０１
の厚さ誤差が、フォーカス外れ量になる。
速度）やスライダー１０３の重量などによって決まり、
一定の値を取るが、ある誤差の範囲で変動を生じる。ま
た、記録媒体１０２は基板１０１の対物レンズを挟んで
反対側にあるため、フォーカスについては、基板１０１
の厚さ誤差が、フォーカス外れ量になる。
【００１１】これを調節するため、浮上スライダー１０
３には、一体で構成されたカンチレバー１０４か構成さ
れ、その先端付近に対物レンズ１０５が固定されてい
る。カンチレバー１０４はその上面に構成された圧電素
子１０６により曲げを生じさせ、対物レンズ１０５を上
下させて、フォーカス調節を行う。浮上スライダー１０
３は板ばね１０７によりキャリッジ１０８に取り付けら
れており、浮上スライダー１０３にある一定量の荷重を
与えている。
３には、一体で構成されたカンチレバー１０４か構成さ
れ、その先端付近に対物レンズ１０５が固定されてい
る。カンチレバー１０４はその上面に構成された圧電素
子１０６により曲げを生じさせ、対物レンズ１０５を上
下させて、フォーカス調節を行う。浮上スライダー１０
３は板ばね１０７によりキャリッジ１０８に取り付けら
れており、浮上スライダー１０３にある一定量の荷重を
与えている。
【００１２】図１（ａ）において、固定光学系１０９よ
り射出されたレーザー光１１０は４５度ミラー１１１に
より９０度曲げられ、対物レンズ１０５に入射し、記録
媒体１０２上に結像する。トラックの半径方向へのトラ
ッキングはキャリッジ１０８および浮上スライダー１０
３を、磁気回路とコイルを用いた駆動装置（図示せず）
により、半径方向１１２に駆動して行うが、おおまかな
動きはこの駆動装置により行い、微調整は、固定光学系
１０９内部に内蔵された可動ミラーで、ビーム１１０の
角度を偏向し、結像面でビームスポットを移動させてト
ラッキングしてもよい。
り射出されたレーザー光１１０は４５度ミラー１１１に
より９０度曲げられ、対物レンズ１０５に入射し、記録
媒体１０２上に結像する。トラックの半径方向へのトラ
ッキングはキャリッジ１０８および浮上スライダー１０
３を、磁気回路とコイルを用いた駆動装置（図示せず）
により、半径方向１１２に駆動して行うが、おおまかな
動きはこの駆動装置により行い、微調整は、固定光学系
１０９内部に内蔵された可動ミラーで、ビーム１１０の
角度を偏向し、結像面でビームスポットを移動させてト
ラッキングしてもよい。
【００１３】ここで、カンチレバー１０４と一体になっ
た浮上スライダー１０３は以下のような方法で作成する
ことができる。図２はこの浮上スライダーの作製プロセ
スを示したものである。まずＳｉ単結晶２０１の表面
に、熱酸化により２酸化シリコンの膜２０２、２０３を
構成し、２酸化シリコンの膜２０２にリソグラフィーに
より開口部２０４を開ける。
た浮上スライダー１０３は以下のような方法で作成する
ことができる。図２はこの浮上スライダーの作製プロセ
スを示したものである。まずＳｉ単結晶２０１の表面
に、熱酸化により２酸化シリコンの膜２０２、２０３を
構成し、２酸化シリコンの膜２０２にリソグラフィーに
より開口部２０４を開ける。
【００１４】次に、ＫＯＨ溶液、ＥＤＰ（エチレン−ジ
アミン−ピロカテコール）溶液、またはこれらとＩＰＡ
の混合溶液を用いて異方性エッチングを行い、凹部２０
５を形成する。次に凹部２０５の内面に再び熱酸化によ
り２酸化シリコンの膜２０６を構成し、次に逆の面の２
酸化シリコン膜２０３にリソグラフィーにより開口部を
開け、異方性エッチングにより凹部２０７を構成する。
この凹部２０７を構成するのは、後で構成されるカンチ
レバー（図１の１０４）が上下に動くギャップを形成す
るためである。即ち、図１で基板１０１の厚さ変動や、
スライダー１０３の浮上量変動を補償するため、カンチ
レバー１０４が上下に動く必要があり、このため、一旦
凹部２０７を構成して行うものである。例えば、通常の
光ディスクの基板の厚さ変化はディスクごとに＋／−
０．１ｍｍ程度あるので、凹部２０７の深さは０．１ｍ
ｍから０．５ｍｍ、好ましくは０．１から０．２ｍｍの
範囲に設定する。
アミン−ピロカテコール）溶液、またはこれらとＩＰＡ
の混合溶液を用いて異方性エッチングを行い、凹部２０
５を形成する。次に凹部２０５の内面に再び熱酸化によ
り２酸化シリコンの膜２０６を構成し、次に逆の面の２
酸化シリコン膜２０３にリソグラフィーにより開口部を
開け、異方性エッチングにより凹部２０７を構成する。
この凹部２０７を構成するのは、後で構成されるカンチ
レバー（図１の１０４）が上下に動くギャップを形成す
るためである。即ち、図１で基板１０１の厚さ変動や、
スライダー１０３の浮上量変動を補償するため、カンチ
レバー１０４が上下に動く必要があり、このため、一旦
凹部２０７を構成して行うものである。例えば、通常の
光ディスクの基板の厚さ変化はディスクごとに＋／−
０．１ｍｍ程度あるので、凹部２０７の深さは０．１ｍ
ｍから０．５ｍｍ、好ましくは０．１から０．２ｍｍの
範囲に設定する。
【００１５】次に、凹部２０７の内面にも２酸化シリコ
ン膜２０８を構成する。次に、凹部２０５内部に、駆動
素子を構成する。それには、下部電極２０９、下部圧電
膜２１０、下部絶縁膜２１１、中間電極２１２、上部圧
電膜２１３、上部絶縁膜２１４、上部電極２１５を順次
構成する。上部、中部、下部電極２０９、２１２、２１
５にはＡｌ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｃｕ，などの金属膜ま
たはこれらの合金膜を、スパッタ、真空蒸着等でそれぞ
れ構成することができる。圧電膜２１０、２１３にはＺ
ｎＯ，ＰＺＴ，ＰＬＺＴなどの誘電材料をスパッタ、真
空蒸着、ＣＶＤ等の方法で構成することができる。
ン膜２０８を構成する。次に、凹部２０５内部に、駆動
素子を構成する。それには、下部電極２０９、下部圧電
膜２１０、下部絶縁膜２１１、中間電極２１２、上部圧
電膜２１３、上部絶縁膜２１４、上部電極２１５を順次
構成する。上部、中部、下部電極２０９、２１２、２１
５にはＡｌ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｃｕ，などの金属膜ま
たはこれらの合金膜を、スパッタ、真空蒸着等でそれぞ
れ構成することができる。圧電膜２１０、２１３にはＺ
ｎＯ，ＰＺＴ，ＰＬＺＴなどの誘電材料をスパッタ、真
空蒸着、ＣＶＤ等の方法で構成することができる。
【００１６】このような構成にし、上部電極２１５と下
部電極２０９を同電圧として、中間電極２１２との間に
電圧を印加すると、全体がバイモルフとして動作し、カ
ンチレバー部２１９がたわんで、対物レンズ２１８を上
下に駆動する事が可能となる。次に、２酸化シリコン膜
２０６、２０８にカンチレバーとして単結晶２０１より
切り離す部分のパターン２１６及びレーザー光を通すた
めの穴２１７をパターニングし異方性エッチングにより
シリコン基板を溶かして切り離す。
部電極２０９を同電圧として、中間電極２１２との間に
電圧を印加すると、全体がバイモルフとして動作し、カ
ンチレバー部２１９がたわんで、対物レンズ２１８を上
下に駆動する事が可能となる。次に、２酸化シリコン膜
２０６、２０８にカンチレバーとして単結晶２０１より
切り離す部分のパターン２１６及びレーザー光を通すた
めの穴２１７をパターニングし異方性エッチングにより
シリコン基板を溶かして切り離す。
【００１７】最後に対物レンズ２１８を開口部２１７の
上に固着し、個々の素子をＳｉ基板２０１をダイシング
またはスクライビングにより切り離して、カンチレバー
とスライダーが一体になったスライダーが得られる。対
物レンズ２１８は通常のガラスを研磨したレンズやプラ
スチックレンズ、あるいは屈折率を分布させたＧＲＩＮ
レンズを用いることができる。特にＧＲＩＮレンズを用
いると、小さな口径のレンズを得ることが可能で、全体
の小型化を図ることができる。
上に固着し、個々の素子をＳｉ基板２０１をダイシング
またはスクライビングにより切り離して、カンチレバー
とスライダーが一体になったスライダーが得られる。対
物レンズ２１８は通常のガラスを研磨したレンズやプラ
スチックレンズ、あるいは屈折率を分布させたＧＲＩＮ
レンズを用いることができる。特にＧＲＩＮレンズを用
いると、小さな口径のレンズを得ることが可能で、全体
の小型化を図ることができる。
【００１８】ところで、図２の作製プロセスで、凹部２
０５の底面部あるいは斜面部にリソグラフィーを行う必
要が生じる。通常、フォトマスクを、基板に密着あるい
は近接させておこなうリソグラフィーでは、このように
深い穴の底面部、あるいは側面部にリソグラフィーを行
うことができない。またレティクルを結像させて行う投
影露光は、マスクを基板に近接させる必要がないため、
原理的には底面部に露光が可能である。しかし、焦点深
度が浅いため、斜面部にパターニングを行うことはでき
ない。電子ビーム露光を用いると、焦点位置が可変であ
るため深い穴の底及び斜面にパターニングが可能である
が、この電子ビーム露光装置は極めて高価でかつ露光の
速度が遅く、量産には不向きである。
０５の底面部あるいは斜面部にリソグラフィーを行う必
要が生じる。通常、フォトマスクを、基板に密着あるい
は近接させておこなうリソグラフィーでは、このように
深い穴の底面部、あるいは側面部にリソグラフィーを行
うことができない。またレティクルを結像させて行う投
影露光は、マスクを基板に近接させる必要がないため、
原理的には底面部に露光が可能である。しかし、焦点深
度が浅いため、斜面部にパターニングを行うことはでき
ない。電子ビーム露光を用いると、焦点位置が可変であ
るため深い穴の底及び斜面にパターニングが可能である
が、この電子ビーム露光装置は極めて高価でかつ露光の
速度が遅く、量産には不向きである。
【００１９】そこで、深い穴の底面部あるいは斜面部に
リソグラフィーを行う方法を図３にしめす。図３は、シ
リコン単結晶３０２に、異方性エッチングにより凹部３
０７が形成されているとき、その底面部３０５、斜面部
３０６にリソグラフィーを行う方法を示したものであ
る。このために、凹部３０７と逆の形状３０７′を有す
るフォトマスク基板３０１上にパターン３０３を形成
し、凹部３０７に凸部３０７′が入り込むようにし、紫
外線３０８を照射してシリコン基板３０２に塗布したフ
ォトレジスト膜３０４に、パターン３０３の露光をおこ
なうものである。
リソグラフィーを行う方法を図３にしめす。図３は、シ
リコン単結晶３０２に、異方性エッチングにより凹部３
０７が形成されているとき、その底面部３０５、斜面部
３０６にリソグラフィーを行う方法を示したものであ
る。このために、凹部３０７と逆の形状３０７′を有す
るフォトマスク基板３０１上にパターン３０３を形成
し、凹部３０７に凸部３０７′が入り込むようにし、紫
外線３０８を照射してシリコン基板３０２に塗布したフ
ォトレジスト膜３０４に、パターン３０３の露光をおこ
なうものである。
【００２０】ここで、凹部３０７の深さと凸部３０７′
の高さは同じにし、凹部３０７と凸部３０７′がちょう
どはまりこむように設定する。また、フォトマスク基板
３０１の斜面部３０９の角度と、シリコン基板の斜面部
３０６の角度は同じにしておくのが好ましい。同じにし
ておいてマスク基板の斜面３０９にもパターンを設けて
おくと、斜面部３０６にもリソグラフィーが可能とな
る。
の高さは同じにし、凹部３０７と凸部３０７′がちょう
どはまりこむように設定する。また、フォトマスク基板
３０１の斜面部３０９の角度と、シリコン基板の斜面部
３０６の角度は同じにしておくのが好ましい。同じにし
ておいてマスク基板の斜面３０９にもパターンを設けて
おくと、斜面部３０６にもリソグラフィーが可能とな
る。
【００２１】斜面部３０６の角度は、単結晶シリコンの
異方性エッチングを用いて形成すると、常に一定の角度
の面が得られる。例えば、単結晶シリコンの（１００）
面の＜１１０＞方向にパターンニグし、ＫＯＨでエッチ
ングすると溝の斜面は５４．７度となる、また、＜１０
０＞方向へ配置したパターンをＫＯＨとＩＰＡの混合溶
液またはＥＤＰ（エチレン−ジアミン−ピロカテコー
ル）でエッチングすると４５度になる。これらの角度は
シリコン単結晶の結晶構造により決まるため、極めて正
確であり不変のものである。従って、凸部３０７′の側
面３０９の角度はこれらのいずれかにあらかじめ正確に
設定しておくことができる。
異方性エッチングを用いて形成すると、常に一定の角度
の面が得られる。例えば、単結晶シリコンの（１００）
面の＜１１０＞方向にパターンニグし、ＫＯＨでエッチ
ングすると溝の斜面は５４．７度となる、また、＜１０
０＞方向へ配置したパターンをＫＯＨとＩＰＡの混合溶
液またはＥＤＰ（エチレン−ジアミン−ピロカテコー
ル）でエッチングすると４５度になる。これらの角度は
シリコン単結晶の結晶構造により決まるため、極めて正
確であり不変のものである。従って、凸部３０７′の側
面３０９の角度はこれらのいずれかにあらかじめ正確に
設定しておくことができる。
【００２２】このフォトマスク基板３０１の作成方法を
図４に示す。まず、石英あるいはガラス基板４０１に機
械加工により凸部４０２、凹部４０３を形成する。機械
加工の方法としては研削や研磨あるいはその併用で行う
ことができる。次にそのような加工を行った基板４０１
上に金属膜４０４、フォトレジスト膜４０５を形成す
る。金属膜４０４としてはＣｒ，Ｔａ，Ｎｉ，Ｃｕなど
を用いることが可能である。
図４に示す。まず、石英あるいはガラス基板４０１に機
械加工により凸部４０２、凹部４０３を形成する。機械
加工の方法としては研削や研磨あるいはその併用で行う
ことができる。次にそのような加工を行った基板４０１
上に金属膜４０４、フォトレジスト膜４０５を形成す
る。金属膜４０４としてはＣｒ，Ｔａ，Ｎｉ，Ｃｕなど
を用いることが可能である。
【００２３】次に通常の平坦な透明基板４０６に所望の
パターン４０７を形成したフォトマスクにより凸部４０
２の上面に紫外線４０８により露光し、現像、エッチン
グを行ってパターン４０９を基板４０１の凸部４０２の
上面に形成することができる。このフォトマスクを図３
における基板３０１として用いることができる。
パターン４０７を形成したフォトマスクにより凸部４０
２の上面に紫外線４０８により露光し、現像、エッチン
グを行ってパターン４０９を基板４０１の凸部４０２の
上面に形成することができる。このフォトマスクを図３
における基板３０１として用いることができる。
【００２４】図４で露光を行うときに、平坦なマスク４
０６により行ったが、ここで電子ビーム露光を用いて斜
面部４１０にも行うと、斜面部にパターンの形成された
マスクが得られる。電子ビーム装置は高価で露光速度が
遅いが、フォトマスクを作製するときに１回用いるだけ
であるので、作製コストの上昇にたいしてはわずかしか
影響しない。
０６により行ったが、ここで電子ビーム露光を用いて斜
面部４１０にも行うと、斜面部にパターンの形成された
マスクが得られる。電子ビーム装置は高価で露光速度が
遅いが、フォトマスクを作製するときに１回用いるだけ
であるので、作製コストの上昇にたいしてはわずかしか
影響しない。
【００２５】
【発明の効果】本発明の浮上スライダーを用いると、光
ピックアップが極めて軽量、小型化され、所望のトラッ
クに対するピックアップの移動時間（アクセス時間）が
短縮され、高速な記録装置が得られる。また、スライダ
ーとフォーカス方向への駆動機構が一体化されているの
で、部品点数が少なく作製コストが安くつく。
ピックアップが極めて軽量、小型化され、所望のトラッ
クに対するピックアップの移動時間（アクセス時間）が
短縮され、高速な記録装置が得られる。また、スライダ
ーとフォーカス方向への駆動機構が一体化されているの
で、部品点数が少なく作製コストが安くつく。
【００２６】また、基板を通して光を入射させるので、
記録媒体が表面に露出している必要がなく、信頼性にす
ぐれる。また基板にたいしてスライダーが浮上して間隔
を保持するので、ディスクの垂直方向への面振れにたい
してスライダーが自動的に追従し、フォーカスサーボの
能力が小さくてすむ。このため、フォーカス方向への駆
動機構が小型化できる。
記録媒体が表面に露出している必要がなく、信頼性にす
ぐれる。また基板にたいしてスライダーが浮上して間隔
を保持するので、ディスクの垂直方向への面振れにたい
してスライダーが自動的に追従し、フォーカスサーボの
能力が小さくてすむ。このため、フォーカス方向への駆
動機構が小型化できる。
【００２７】また、対物レンズを基板にきわめて接近さ
せて配置できるので、一定のＮＡ（開口数）のレンズを
用いる場合、レンズ口径が小さくできる。このため、レ
ーザー光の光束径が小さくでき、光学系全体を小型化で
きる。また、このスライダーを作製するのに、凹凸を有
するフォトマスクを用いているので、作製に通常の露光
装置を用いて、従来不可能であった斜面、底面部にリソ
グラフィーを行うことができる。このため、電子ビーム
装置を用いるより、はるかに安価に製造することができ
る。
せて配置できるので、一定のＮＡ（開口数）のレンズを
用いる場合、レンズ口径が小さくできる。このため、レ
ーザー光の光束径が小さくでき、光学系全体を小型化で
きる。また、このスライダーを作製するのに、凹凸を有
するフォトマスクを用いているので、作製に通常の露光
装置を用いて、従来不可能であった斜面、底面部にリソ
グラフィーを行うことができる。このため、電子ビーム
装置を用いるより、はるかに安価に製造することができ
る。
【図１】本発明による浮上型光ヘッドの構成を示す図で
ある。
ある。
【図２】本発明による浮上型光ヘッドの作製プロセスを
示す図である。
示す図である。
【図３】本発明による浮上型光ヘッドの作製に用いるフ
ォトマスク構造を示す図である。
ォトマスク構造を示す図である。
【図４】本発明による浮上型光ヘッドの作製のためのフ
ォトマスクの作製工程を示す図である。
ォトマスクの作製工程を示す図である。
１０１ 基板 １０２ 記録媒体 １０３ スライダー １０４ カンチレバー １０５ 対物レンズ １０６ 圧電素子 １０７ 板ばね １０８ キャリッジ １０９ 固定光学系 １１０ レーザー光 １１１ ４５度ミラー
フロントページの続き (72)発明者 石井 頼成 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 太田 賢司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】透明基板と、該透明基板上に形成された記
録媒体と、前記透明基板の前記記録媒体が形成された面
と反対側の面に空気力学的に浮上するスライダーと、前
記スライダーに配置された対物レンズとを有することを
特徴とする浮上型光ヘッド。 - 【請求項２】表面に対して凹部を有する基板と、該基板
の凹部深さと同じ高さの凸部を有し、その凸部の頂面ま
たは斜面に光透過性のパターンを有するマスク基板を用
いて基板に露光を行うことを特徴とする光記録装置の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5319896A JPH07176069A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 浮上型光ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5319896A JPH07176069A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 浮上型光ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07176069A true JPH07176069A (ja) | 1995-07-14 |
Family
ID=18115447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5319896A Pending JPH07176069A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 浮上型光ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07176069A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999023648A1 (fr) * | 1997-11-05 | 1999-05-14 | Nikon Corporation | Tete optique, enregistreur optique, microlentille et fabrication de cette microlentille |
| KR100772361B1 (ko) * | 2001-06-08 | 2007-11-01 | 삼성전자주식회사 | 광픽업 장치 |
-
1993
- 1993-12-20 JP JP5319896A patent/JPH07176069A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999023648A1 (fr) * | 1997-11-05 | 1999-05-14 | Nikon Corporation | Tete optique, enregistreur optique, microlentille et fabrication de cette microlentille |
| KR100772361B1 (ko) * | 2001-06-08 | 2007-11-01 | 삼성전자주식회사 | 광픽업 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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