JPH07173642A - 鏡面方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents
鏡面方向性珪素鋼板の製造方法Info
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- JPH07173642A JPH07173642A JP5322698A JP32269893A JPH07173642A JP H07173642 A JPH07173642 A JP H07173642A JP 5322698 A JP5322698 A JP 5322698A JP 32269893 A JP32269893 A JP 32269893A JP H07173642 A JPH07173642 A JP H07173642A
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- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 仕上焼鈍で鏡面かつ高磁束密度の方向性電磁
鋼板を製造し、磁区制御張力被膜付与により超低鉄損材
料を得る。 【構成】 Ｓｉ：２〜７重量％含む珪素鋼スラブを熱延
後、必要に応じて焼鈍し、１回の冷延または中間焼鈍を
はさむ２回以上の冷延を行い、脱炭焼鈍後、ビスマス単
体あるいはビスマスの化合物及び金属の塩素化合物を含
み、かつ金属酸化物及び金属水酸化物を主体とし、その
金属酸化物及び金属水酸化物中に占める金属水酸化物の
割合が１．０〜２５重量％である焼鈍分離剤を塗布・乾
燥して仕上焼鈍を行う。仕上焼鈍後、磁区制御、張力被
膜付与により超低鉄損が実現できる。 【効果】 トランス等電力用機器の鉄損が低減し、省エ
ネルギーが実現でき、社会的意義が大きい。
鋼板を製造し、磁区制御張力被膜付与により超低鉄損材
料を得る。 【構成】 Ｓｉ：２〜７重量％含む珪素鋼スラブを熱延
後、必要に応じて焼鈍し、１回の冷延または中間焼鈍を
はさむ２回以上の冷延を行い、脱炭焼鈍後、ビスマス単
体あるいはビスマスの化合物及び金属の塩素化合物を含
み、かつ金属酸化物及び金属水酸化物を主体とし、その
金属酸化物及び金属水酸化物中に占める金属水酸化物の
割合が１．０〜２５重量％である焼鈍分離剤を塗布・乾
燥して仕上焼鈍を行う。仕上焼鈍後、磁区制御、張力被
膜付与により超低鉄損が実現できる。 【効果】 トランス等電力用機器の鉄損が低減し、省エ
ネルギーが実現でき、社会的意義が大きい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、鋼板表面が鏡面で、鉄
損が極めて低い方向性珪素鋼板（以下、方向性電磁鋼板
という）の製造方法に関するものである。特にその表面
にフォルステライト（以下、グラスという）被膜を形成
させずに二次再結晶工程（仕上焼鈍工程）を完了させ、
その後、磁区細分化、張力コーティング等の処理を行
い、鉄損特性の改善を図ろうとするものである。
損が極めて低い方向性珪素鋼板（以下、方向性電磁鋼板
という）の製造方法に関するものである。特にその表面
にフォルステライト（以下、グラスという）被膜を形成
させずに二次再結晶工程（仕上焼鈍工程）を完了させ、
その後、磁区細分化、張力コーティング等の処理を行
い、鉄損特性の改善を図ろうとするものである。
【０００２】
【従来の技術】方向性電磁鋼板は、電気機器の磁気鉄芯
として多用され、エネルギーロスを少なくすべく、改善
が繰り返されてきた。方向性電磁鋼板の鉄損を低減する
手段として、仕上焼鈍後の材料表面にレーザービームを
照射し局部歪を与え、それによって磁区を細分化して鉄
損を低下させる方法が例えば特開昭５８−２６４０５号
公報に開示されている。また、応力除去焼鈍しても磁区
細分化効果が消失しない手段が、例えば特開昭６２−８
６１７号公報に開示されている。これらの技術により鉄
損レベルは極めて良好なものとなってきたが、さらに鉄
損値の低減を図るためには鋼板表面近傍の磁区の動きを
阻害する地鉄表面の凹凸を取り除くこと（平滑化）が重
要であるとの認識が生まれてきた。
として多用され、エネルギーロスを少なくすべく、改善
が繰り返されてきた。方向性電磁鋼板の鉄損を低減する
手段として、仕上焼鈍後の材料表面にレーザービームを
照射し局部歪を与え、それによって磁区を細分化して鉄
損を低下させる方法が例えば特開昭５８−２６４０５号
公報に開示されている。また、応力除去焼鈍しても磁区
細分化効果が消失しない手段が、例えば特開昭６２−８
６１７号公報に開示されている。これらの技術により鉄
損レベルは極めて良好なものとなってきたが、さらに鉄
損値の低減を図るためには鋼板表面近傍の磁区の動きを
阻害する地鉄表面の凹凸を取り除くこと（平滑化）が重
要であるとの認識が生まれてきた。
【０００３】しかしながら、珪素鋼板を通常の製造工程
で処理した場合、仕上焼鈍後の鋼板表面にはグラス被膜
が生成されており、表面平滑化のためにはグラス被膜を
除去する必要がある。グラス被膜を除去する方法として
は酸洗等の技術が古くからあり、その後表面平滑化する
方法として特開昭６４−８３６２０号公報に開示されて
いる化学研磨、電解研磨等がある。平滑な表面を得るた
めに、一度生成されたグラス被膜を除去し、さらに化学
研磨・機械研磨等を行うことは種々の困難を伴う。グラ
ス被膜は地鉄中にその根を深くおろしているため、酸洗
によって除去しなければならない量は鋼板板厚で１μｍ
以上もあり生産性が極めて悪い。さらに酸洗設備設置に
伴い例えば薬剤濃度管理、排水処理等の環境問題等もあ
る。
で処理した場合、仕上焼鈍後の鋼板表面にはグラス被膜
が生成されており、表面平滑化のためにはグラス被膜を
除去する必要がある。グラス被膜を除去する方法として
は酸洗等の技術が古くからあり、その後表面平滑化する
方法として特開昭６４−８３６２０号公報に開示されて
いる化学研磨、電解研磨等がある。平滑な表面を得るた
めに、一度生成されたグラス被膜を除去し、さらに化学
研磨・機械研磨等を行うことは種々の困難を伴う。グラ
ス被膜は地鉄中にその根を深くおろしているため、酸洗
によって除去しなければならない量は鋼板板厚で１μｍ
以上もあり生産性が極めて悪い。さらに酸洗設備設置に
伴い例えば薬剤濃度管理、排水処理等の環境問題等もあ
る。
【０００４】一方、一度生成されたグラス被膜を除去す
るのでなく、仕上焼鈍時にグラス被膜を生成させない方
法として、Ｕ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ ３７８５８８２に開
示されるＡｌ2 Ｏ3 、特公昭５６−３４１４号に開示さ
れる含水珪酸塩鉱物粉末等、ＳｉＯ2 と反応しない焼鈍
分離剤を用いる方法がある。この方法は、生成したグラ
ス被膜を酸洗除去する方法よりも優れている。しかしな
がら、この方法においても脱炭焼鈍時に形成されたＳｉ
Ｏ2 等の酸化物が表面に残存するため、表面を平滑化す
るために化学研磨・機械研磨等の処理が必要である。化
学的方法においては、前述の酸洗と同じく薬剤濃度管
理、排水処理等の環境問題があり、また機械研磨等物理
的方法においては工業的に大きな面積を持つ表面を同一
基準で平滑化することに困難がある。さらに特開昭６４
−６２４１７号、特開平２−２２８４８１号に開示され
る、塩化物を焼鈍分離剤中に添加し仕上焼鈍時にＭｇＯ
とＳｉＯ2 との反応を抑制する方法がある。この方法は
現在のところ最も工業的に優れているが、薄い酸化膜が
残存する点、得られる表面粗度が化学研磨を用いた場合
よりも粗い点が鉄損低減の妨げとなっていた。
るのでなく、仕上焼鈍時にグラス被膜を生成させない方
法として、Ｕ．Ｓ．Ｐａｔｅｎｔ ３７８５８８２に開
示されるＡｌ2 Ｏ3 、特公昭５６−３４１４号に開示さ
れる含水珪酸塩鉱物粉末等、ＳｉＯ2 と反応しない焼鈍
分離剤を用いる方法がある。この方法は、生成したグラ
ス被膜を酸洗除去する方法よりも優れている。しかしな
がら、この方法においても脱炭焼鈍時に形成されたＳｉ
Ｏ2 等の酸化物が表面に残存するため、表面を平滑化す
るために化学研磨・機械研磨等の処理が必要である。化
学的方法においては、前述の酸洗と同じく薬剤濃度管
理、排水処理等の環境問題があり、また機械研磨等物理
的方法においては工業的に大きな面積を持つ表面を同一
基準で平滑化することに困難がある。さらに特開昭６４
−６２４１７号、特開平２−２２８４８１号に開示され
る、塩化物を焼鈍分離剤中に添加し仕上焼鈍時にＭｇＯ
とＳｉＯ2 との反応を抑制する方法がある。この方法は
現在のところ最も工業的に優れているが、薄い酸化膜が
残存する点、得られる表面粗度が化学研磨を用いた場合
よりも粗い点が鉄損低減の妨げとなっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来法におけ
る上記問題を解消した、電磁鋼板の表面を平滑化し低鉄
損を得るための工業的手段を提供することを目的とす
る。本発明は、珪素鋼の仕上焼鈍において脱炭焼鈍時に
形成された酸化被膜を除去し、かつ鋼板表面を平滑化し
た後に張力被膜付与あるいは磁区細分化を施すことによ
り、鉄損を極限まで低減した超低鉄損の方向性電磁鋼板
の製造方法を提供するものである。
る上記問題を解消した、電磁鋼板の表面を平滑化し低鉄
損を得るための工業的手段を提供することを目的とす
る。本発明は、珪素鋼の仕上焼鈍において脱炭焼鈍時に
形成された酸化被膜を除去し、かつ鋼板表面を平滑化し
た後に張力被膜付与あるいは磁区細分化を施すことによ
り、鉄損を極限まで低減した超低鉄損の方向性電磁鋼板
の製造方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々の塩
素を含む化合物を焼鈍分離剤中に添加し、仕上焼鈍中の
鋼板表面の酸化膜が除去される過程を詳細に調査した。
その結果、Ｂｉを含む化合物と金属の塩化物を焼鈍分離
剤に添加すれば仕上焼鈍後の鋼板表面が鏡面化されるこ
とが分かった。また添加量が塩素重量部で０．２部以上
の場合に仕上焼鈍後の鋼板表面が鏡面のように平滑化さ
れることを見いだした。これらの方向性電磁鋼板の鉄損
特性は酸洗してグラス被膜を除去したもの、特開昭６４
−６２４１７号、特開平２−２２８４８１号に開示され
る塩化物を用いて酸化膜を除去したものに比べて低くな
ることを見いだし本発明を完成させた。
素を含む化合物を焼鈍分離剤中に添加し、仕上焼鈍中の
鋼板表面の酸化膜が除去される過程を詳細に調査した。
その結果、Ｂｉを含む化合物と金属の塩化物を焼鈍分離
剤に添加すれば仕上焼鈍後の鋼板表面が鏡面化されるこ
とが分かった。また添加量が塩素重量部で０．２部以上
の場合に仕上焼鈍後の鋼板表面が鏡面のように平滑化さ
れることを見いだした。これらの方向性電磁鋼板の鉄損
特性は酸洗してグラス被膜を除去したもの、特開昭６４
−６２４１７号、特開平２−２２８４８１号に開示され
る塩化物を用いて酸化膜を除去したものに比べて低くな
ることを見いだし本発明を完成させた。
【０００７】本発明の要旨とするところは、Ｓｉ：２〜
７重量％含む珪素鋼スラブを熱延後、必要に応じて焼鈍
し、１回の冷延または中間焼鈍をはさむ２回以上の冷延
を行い、脱炭焼鈍後、ビスマス単体あるいはビスマスの
化合物及び金属の塩素化合物を含み、かつ金属酸化物及
び金属水酸化物を主体とする物質を塗布・乾燥して仕上
焼鈍を行う方向性電磁鋼板の製造方法において、金属酸
化物及び金属水酸化物中に占める金属水酸化物の割合が
１．０〜２５重量％とすることである。金属酸化物とし
てはマグネシア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、バリ
ア、カルシア、酸化ストロンチウム及びフォルステライ
トが有効でその１種あるいは２種以上の混合物を用いる
ことが良い。
７重量％含む珪素鋼スラブを熱延後、必要に応じて焼鈍
し、１回の冷延または中間焼鈍をはさむ２回以上の冷延
を行い、脱炭焼鈍後、ビスマス単体あるいはビスマスの
化合物及び金属の塩素化合物を含み、かつ金属酸化物及
び金属水酸化物を主体とする物質を塗布・乾燥して仕上
焼鈍を行う方向性電磁鋼板の製造方法において、金属酸
化物及び金属水酸化物中に占める金属水酸化物の割合が
１．０〜２５重量％とすることである。金属酸化物とし
てはマグネシア、アルミナ、シリカ、ジルコニア、バリ
ア、カルシア、酸化ストロンチウム及びフォルステライ
トが有効でその１種あるいは２種以上の混合物を用いる
ことが良い。
【０００８】また金属水酸化物としては水酸化マグネシ
ウム、水酸化アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸
化バリウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム
等が有効で、その１種あるいは２種以上の混合物を用い
ることができる。また、シリカの水スラリーは金属酸化
物及び金属水酸化物の代替として用いることができる。
仕上焼鈍後の方向性電磁鋼板は焼鈍分離剤を除去し、磁
区細分化処理、張力被膜を付与することにより超低鉄損
が実現できる。
ウム、水酸化アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸
化バリウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム
等が有効で、その１種あるいは２種以上の混合物を用い
ることができる。また、シリカの水スラリーは金属酸化
物及び金属水酸化物の代替として用いることができる。
仕上焼鈍後の方向性電磁鋼板は焼鈍分離剤を除去し、磁
区細分化処理、張力被膜を付与することにより超低鉄損
が実現できる。
【０００９】この発明による仕上焼鈍後の鋼板表面は、
グラス被膜を酸洗除去しさらに化学研磨を行った鋼板表
面と同等の平滑度を示す。磁壁の移動に対して障害とな
るような表面の凹凸がない、磁気的に理想的な表面にな
る。ここで、金属酸化物及び金属水酸化物を主体とする
物質とは、通常、焼鈍分離剤と呼ばれる物質で、１２０
０℃までの温度域で凝結せずかつ鉄とも焼き付かない材
料である。なお、金属水酸化物は、通常、約１０００℃
までに水分（Ｈ2 Ｏ）を失い（分解し）、金属酸化物と
なり焼鈍分離の役割を果たす。水酸化マグネシウムの場
合、４００℃付近で下記の反応が起こり、水酸化マグネ
シウムはＭｇＯ（マグネシア）とＨ2 Ｏ（水）になり、
ＭｇＯは焼鈍分離剤として役に立つ。 Ｍｇ（ＯＨ）2 →ＭｇＯ＋Ｈ2 Ｏ
グラス被膜を酸洗除去しさらに化学研磨を行った鋼板表
面と同等の平滑度を示す。磁壁の移動に対して障害とな
るような表面の凹凸がない、磁気的に理想的な表面にな
る。ここで、金属酸化物及び金属水酸化物を主体とする
物質とは、通常、焼鈍分離剤と呼ばれる物質で、１２０
０℃までの温度域で凝結せずかつ鉄とも焼き付かない材
料である。なお、金属水酸化物は、通常、約１０００℃
までに水分（Ｈ2 Ｏ）を失い（分解し）、金属酸化物と
なり焼鈍分離の役割を果たす。水酸化マグネシウムの場
合、４００℃付近で下記の反応が起こり、水酸化マグネ
シウムはＭｇＯ（マグネシア）とＨ2 Ｏ（水）になり、
ＭｇＯは焼鈍分離剤として役に立つ。 Ｍｇ（ＯＨ）2 →ＭｇＯ＋Ｈ2 Ｏ
【００１０】以下、本発明について詳細に説明する。珪
素鋼中の珪素は極めて酸化されやすく、通常の仕上焼鈍
では鋼板表面にグラス被膜が形成される。発明者らは、
仕上焼鈍中にグラス被膜を形成させない方法の中でまず
特開昭６４−６２４１７号、特開平２−２２８４８１号
に開示される、塩化物を焼鈍分離剤中に添加し仕上焼鈍
時にＭｇＯとＳｉＯ2 との反応を抑制する方法を検討し
た。しかしながらこの技術は、鋼板表面のグラス被膜除
去による打抜性改善を目的としていたため、充分な表面
平滑度・鉄損が得られるものではなかった。
素鋼中の珪素は極めて酸化されやすく、通常の仕上焼鈍
では鋼板表面にグラス被膜が形成される。発明者らは、
仕上焼鈍中にグラス被膜を形成させない方法の中でまず
特開昭６４−６２４１７号、特開平２−２２８４８１号
に開示される、塩化物を焼鈍分離剤中に添加し仕上焼鈍
時にＭｇＯとＳｉＯ2 との反応を抑制する方法を検討し
た。しかしながらこの技術は、鋼板表面のグラス被膜除
去による打抜性改善を目的としていたため、充分な表面
平滑度・鉄損が得られるものではなかった。
【００１１】本発明者らは、種々の金属塩化物を焼鈍分
離剤中に添加し、仕上焼鈍中の鋼板表面を詳細に調査し
た。その結果、添加される物質がビスマスの塩化物で
ある場合、及びＡ群：ビスマス単体あるいはビスマス
の化合物及びＢ群：金属の塩素化合物とするときＡ群及
びＢ群両方を含む場合に限って、かつ添加量が塩素重量
部で０．２部以上の場合に、酸化膜はその根ごと除去さ
れること、引き続く高温焼鈍中に表面が平滑化されるこ
とを見いだした。ここでＡ群とＢ群が同一物質の場合も
含まれる。例えばＡ群としてＢｉＯＣｌ（オキシ塩化ビ
スマス）を用い、Ｂ群としてもオキシ塩化ビスマスを用
いることができる。
離剤中に添加し、仕上焼鈍中の鋼板表面を詳細に調査し
た。その結果、添加される物質がビスマスの塩化物で
ある場合、及びＡ群：ビスマス単体あるいはビスマス
の化合物及びＢ群：金属の塩素化合物とするときＡ群及
びＢ群両方を含む場合に限って、かつ添加量が塩素重量
部で０．２部以上の場合に、酸化膜はその根ごと除去さ
れること、引き続く高温焼鈍中に表面が平滑化されるこ
とを見いだした。ここでＡ群とＢ群が同一物質の場合も
含まれる。例えばＡ群としてＢｉＯＣｌ（オキシ塩化ビ
スマス）を用い、Ｂ群としてもオキシ塩化ビスマスを用
いることができる。
【００１２】さらに、検討を加えたところ、焼鈍分離剤
中の水分が重要な働きをしていることを見いだした。重
量で、Ｃ：０．０５％、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１
４％、Ｓ：０．００７％、Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：
０．００７％を含むスラブを、１１５０℃で加熱後熱延
し１．８mmの熱延板とした。１１２０℃で熱延板を焼鈍
後０．１６mmまで冷延し、８３０℃で脱炭焼鈍を行っ
た。その後、Ａ群として、Ｂｉ2 Ｏ3 ：５部、Ｂ群とし
て、ＦｅＣｌ2 （塩化鉄）：５部に焼鈍分離剤としてＡ
ｌ2 Ｏ3 （アルミナ）及びＭｇ（ＯＨ）2 （水酸化マグ
ネシウム）を表１に示すように混合して用いた。
中の水分が重要な働きをしていることを見いだした。重
量で、Ｃ：０．０５％、Ｓｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１
４％、Ｓ：０．００７％、Ａｌ：０．０２８％、Ｎ：
０．００７％を含むスラブを、１１５０℃で加熱後熱延
し１．８mmの熱延板とした。１１２０℃で熱延板を焼鈍
後０．１６mmまで冷延し、８３０℃で脱炭焼鈍を行っ
た。その後、Ａ群として、Ｂｉ2 Ｏ3 ：５部、Ｂ群とし
て、ＦｅＣｌ2 （塩化鉄）：５部に焼鈍分離剤としてＡ
ｌ2 Ｏ3 （アルミナ）及びＭｇ（ＯＨ）2 （水酸化マグ
ネシウム）を表１に示すように混合して用いた。
【００１３】この焼鈍分離剤をスラリー状で塗布し、１
２００℃で２０時間の仕上焼鈍を行った。仕上焼鈍後の
表面状況及びレーザーによる磁区制御、張力被膜（リン
酸−クロム酸−コロイダルシリカ系）付与後の鉄損を表
１に示す。なお、仕上焼鈍後の表面状況をザラザラと表
現している状態は金属表面に酸化物が存在し、金属（珪
素鋼）がサーマルエッチングされていないことを示し、
鏡面とは、サーマルエッチングにより鏡面化されている
ことを示す。
２００℃で２０時間の仕上焼鈍を行った。仕上焼鈍後の
表面状況及びレーザーによる磁区制御、張力被膜（リン
酸−クロム酸−コロイダルシリカ系）付与後の鉄損を表
１に示す。なお、仕上焼鈍後の表面状況をザラザラと表
現している状態は金属表面に酸化物が存在し、金属（珪
素鋼）がサーマルエッチングされていないことを示し、
鏡面とは、サーマルエッチングにより鏡面化されている
ことを示す。
【００１４】一般に金属表面は高温で表面の金属原子の
運動が活発化し平滑化するが、酸化物等の異物が表面に
存在すると、この平滑化が妨げられる。表１に見るよう
に焼鈍分離剤の水酸化物が３部以上、２５部以下で仕上
焼鈍後の表面は鏡面化する。なお、Ａｌ2 Ｏ3 （アルミ
ナ）だけの水スラリーを鋼板に塗布・乾燥した後剥離
し、これを１０００℃に加熱し、加熱前後の重量を測定
したが重量変化はなかった。すなわち、Ａｌ2 Ｏ3 （ア
ルミナ）は水和しなかった（水酸化物を作らなかっ
た）。
運動が活発化し平滑化するが、酸化物等の異物が表面に
存在すると、この平滑化が妨げられる。表１に見るよう
に焼鈍分離剤の水酸化物が３部以上、２５部以下で仕上
焼鈍後の表面は鏡面化する。なお、Ａｌ2 Ｏ3 （アルミ
ナ）だけの水スラリーを鋼板に塗布・乾燥した後剥離
し、これを１０００℃に加熱し、加熱前後の重量を測定
したが重量変化はなかった。すなわち、Ａｌ2 Ｏ3 （ア
ルミナ）は水和しなかった（水酸化物を作らなかっ
た）。
【００１５】
【表１】
【００１６】マグネシア（ＭｇＯ）の水スラリーについ
て同様な実験を行った。通常のマグネシア、電融マ
グネシア、水酸化マグネシウムを水スラリーにして１
０分間撹拌し、その後鋼板に塗布し、乾燥して剥離し
た。これをルツボに入れて１０００℃で２時間焼成し、
前後の重量差を求めたところ、市販の通常のマグネシ
アは４％、市販の電融マグネシアはほぼ０％、市販
の水酸化マグネシウムは約３０重量％減少した。また剥
離した試料をＸ線回折で同定したところ、市販の通常
のマグネシアでは、ＭｇＯ，Ｍｇ（ＯＨ）2 が認めら
れ、市販の電融マグネシアは、ＭｇＯしか認められ
ず、さらに市販の水酸化マグネシウムはＭｇ（ＯＨ）
2 しか認められなかった。これは市販のマグネシアを水
スラリーで用いる場合、一部は水和してＭｇ（ＯＨ）2
になっていることを示している。
て同様な実験を行った。通常のマグネシア、電融マ
グネシア、水酸化マグネシウムを水スラリーにして１
０分間撹拌し、その後鋼板に塗布し、乾燥して剥離し
た。これをルツボに入れて１０００℃で２時間焼成し、
前後の重量差を求めたところ、市販の通常のマグネシ
アは４％、市販の電融マグネシアはほぼ０％、市販
の水酸化マグネシウムは約３０重量％減少した。また剥
離した試料をＸ線回折で同定したところ、市販の通常
のマグネシアでは、ＭｇＯ，Ｍｇ（ＯＨ）2 が認めら
れ、市販の電融マグネシアは、ＭｇＯしか認められ
ず、さらに市販の水酸化マグネシウムはＭｇ（ＯＨ）
2 しか認められなかった。これは市販のマグネシアを水
スラリーで用いる場合、一部は水和してＭｇ（ＯＨ）2
になっていることを示している。
【００１７】すなわち、ＭｇＯ（マグネシア）の水スラ
リーはＭｇＯとＭｇ（ＯＨ）2 の混合物である。発明者
らはこの点についても詳しく調査した。ＣａＯ（カルシ
ア）は水に接すると直ちに水和してＣａ（ＯＨ）2 にな
る（発熱して高温になる）。従って、ＣａＯとＣａ（Ｏ
Ｈ）2 の混合物の水スラリーは作ることができない。Ｃ
ａＯとＣａ（ＯＨ）2 の混合物を焼鈍分離剤として用い
るためには非水系のスラリー、静電塗布等のドライ塗布
を用いなければならない。ＣａＯを金属酸化物として、
金属水酸化物としてＭｇ（ＯＨ）2 を用いる場合も、水
スラリーでは用いることができない。
リーはＭｇＯとＭｇ（ＯＨ）2 の混合物である。発明者
らはこの点についても詳しく調査した。ＣａＯ（カルシ
ア）は水に接すると直ちに水和してＣａ（ＯＨ）2 にな
る（発熱して高温になる）。従って、ＣａＯとＣａ（Ｏ
Ｈ）2 の混合物の水スラリーは作ることができない。Ｃ
ａＯとＣａ（ＯＨ）2 の混合物を焼鈍分離剤として用い
るためには非水系のスラリー、静電塗布等のドライ塗布
を用いなければならない。ＣａＯを金属酸化物として、
金属水酸化物としてＭｇ（ＯＨ）2 を用いる場合も、水
スラリーでは用いることができない。
【００１８】前記したように、この点Ａｌ2 Ｏ3 （アル
ミナ）等の水と反応しにくい物質は水スラリーとして用
い易い。これは水酸化物の量が添加時と塗布・乾燥後に
変わらないからである。このような物質には、アルミナ
の他にジルコニア等がある。ＭｇＯ（マグネシア）で代
表される水と比較的容易に反応する物質は水スラリーと
する場合、塗布時の水和物（水酸化物）の量を考慮し
て、焼鈍分離剤の成分を決めなければならない。また、
市販のマグネシアもメーカー、銘柄によって、水スラリ
ー時の水和の程度が異なり、その選択は重要である。
ミナ）等の水と反応しにくい物質は水スラリーとして用
い易い。これは水酸化物の量が添加時と塗布・乾燥後に
変わらないからである。このような物質には、アルミナ
の他にジルコニア等がある。ＭｇＯ（マグネシア）で代
表される水と比較的容易に反応する物質は水スラリーと
する場合、塗布時の水和物（水酸化物）の量を考慮し
て、焼鈍分離剤の成分を決めなければならない。また、
市販のマグネシアもメーカー、銘柄によって、水スラリ
ー時の水和の程度が異なり、その選択は重要である。
【００１９】市販のマグネシアを用いて前記同様の焼鈍
実験を行った。マグネシアを水スラリーにして塗布・乾
燥後の水和水分は３．９重量％で、金属酸化物と金属水
酸化物中に占める金属水酸化物の量は９．１重量％であ
る。このような焼鈍分離剤（ＭｇＯ：１００部）にＢｉ
2 Ｏ3 （酸化ビスマス）：５部、ＦｅＣｌ2 （塩化
鉄）：５部添加して焼鈍分離剤として塗布・乾燥して仕
上焼鈍した結果は極めて良好な鏡面が得られた。
実験を行った。マグネシアを水スラリーにして塗布・乾
燥後の水和水分は３．９重量％で、金属酸化物と金属水
酸化物中に占める金属水酸化物の量は９．１重量％であ
る。このような焼鈍分離剤（ＭｇＯ：１００部）にＢｉ
2 Ｏ3 （酸化ビスマス）：５部、ＦｅＣｌ2 （塩化
鉄）：５部添加して焼鈍分離剤として塗布・乾燥して仕
上焼鈍した結果は極めて良好な鏡面が得られた。
【００２０】上記の水和水分という観点からシリカ粉末
の吸水（吸着水分）が有効である。これは、シリカに水
分が吸着して比較的高温まで保持するという特徴を利用
できるためである。一般にシリカの表面は水分と出会う
とＳｉＯＨ基（シノラール基）で覆われていると考えら
れている。このシノラール基は高温で隣合ったシノラー
ル基同士でＨ2 Ｏを放出するといわれている。これは金
属の水酸化物の挙動と同じであり、シリカ粉末を利用す
る焼鈍分離剤も有効である。但し、シノラール基は固体
の表面のみに存在するのでシリカ粒子の状態にその水分
量が影響し、粒度の影響が大きく左右する。表面積の大
きい粒子すなわち、一般的には細かい粒子の場合にはそ
の水分量は増大する。
の吸水（吸着水分）が有効である。これは、シリカに水
分が吸着して比較的高温まで保持するという特徴を利用
できるためである。一般にシリカの表面は水分と出会う
とＳｉＯＨ基（シノラール基）で覆われていると考えら
れている。このシノラール基は高温で隣合ったシノラー
ル基同士でＨ2 Ｏを放出するといわれている。これは金
属の水酸化物の挙動と同じであり、シリカ粉末を利用す
る焼鈍分離剤も有効である。但し、シノラール基は固体
の表面のみに存在するのでシリカ粒子の状態にその水分
量が影響し、粒度の影響が大きく左右する。表面積の大
きい粒子すなわち、一般的には細かい粒子の場合にはそ
の水分量は増大する。
【００２１】金属酸化物としてはマグネシア、アルミ
ナ、シリカ、ジルコニア、バリア、カルシア、酸化スト
ロンチウム、フォルステライト等が有効であり、２種以
上の混合物もまた有効である。酸化膜が除去され、表面
が鏡面状態になる機構についてはまだ明らかではない
が、次のように考えている。
ナ、シリカ、ジルコニア、バリア、カルシア、酸化スト
ロンチウム、フォルステライト等が有効であり、２種以
上の混合物もまた有効である。酸化膜が除去され、表面
が鏡面状態になる機構についてはまだ明らかではない
が、次のように考えている。
【００２２】Ａ群：ビスマス単体あるいはビスマスの化
合物及びＢ群：金属の塩素化合物とするときＡ群及びＢ
群両方を含む焼鈍分離剤では少なくとも１８３℃以上で
Ｂｉの塩化物：ＢｉＯＣｌを形成する。このＢｉＯＣｌ
は仕上焼鈍の昇温中にＢｉＣｌ3 の蒸気を発生しつつ分
解する。ＢｉＣｌ3 は平衡解離塩素分圧が高いので、コ
イル板間で容易にＣｌガスを発生する。Ｃｌガスは鋼板
表面の酸化層を拡散し、地鉄に達するとＦｅ＋２Ｃｌ→
ＦｅＣｌ2 の反応に従ってＦｅＣｌ2 の蒸気を発生す
る。
合物及びＢ群：金属の塩素化合物とするときＡ群及びＢ
群両方を含む焼鈍分離剤では少なくとも１８３℃以上で
Ｂｉの塩化物：ＢｉＯＣｌを形成する。このＢｉＯＣｌ
は仕上焼鈍の昇温中にＢｉＣｌ3 の蒸気を発生しつつ分
解する。ＢｉＣｌ3 は平衡解離塩素分圧が高いので、コ
イル板間で容易にＣｌガスを発生する。Ｃｌガスは鋼板
表面の酸化層を拡散し、地鉄に達するとＦｅ＋２Ｃｌ→
ＦｅＣｌ2 の反応に従ってＦｅＣｌ2 の蒸気を発生す
る。
【００２３】酸化膜／地鉄界面である体積のＦｅＣｌ2
ガスが生成されると、酸化層と地鉄が剥離する。地鉄表
面は酸化層と分離するため、表面Ｆｅ原子の移動が容易
になり１０００℃以上の高温で鏡面状態になるものと推
測している。Ｂｉの塩化物を用いるときも同様で、Ｂｉ
の塩化物を水と混合させ、乾燥するとＢｉＯＣｌを形成
する。以下、前記同様の反応により鏡面化すると推測し
ている。
ガスが生成されると、酸化層と地鉄が剥離する。地鉄表
面は酸化層と分離するため、表面Ｆｅ原子の移動が容易
になり１０００℃以上の高温で鏡面状態になるものと推
測している。Ｂｉの塩化物を用いるときも同様で、Ｂｉ
の塩化物を水と混合させ、乾燥するとＢｉＯＣｌを形成
する。以下、前記同様の反応により鏡面化すると推測し
ている。
【００２４】Ｂ群：金属の塩素化合物に用いる金属の塩
化物は、沸点あるいは昇華点が１８３℃以上であること
が必要である。これは塩化第２スズ（ＳｎＣｌ4 ）のよ
うに低い沸点（１１４℃）ではＡ群と反応する以前にガ
ス化して体積が増大し消失してしまうからである。有効
な塩化物としては塩化鉄（ＦｅＣｌ2 ，ＦｅＣｌ3 ）、
塩化コバルト（ＣｏＣｌ2 ，ＣｏＣｌ3 ）、塩化ニッケ
ル（ＮｉＣｌ2 ）、塩化アンチモン等があり、これらは
混合して用いても良い。
化物は、沸点あるいは昇華点が１８３℃以上であること
が必要である。これは塩化第２スズ（ＳｎＣｌ4 ）のよ
うに低い沸点（１１４℃）ではＡ群と反応する以前にガ
ス化して体積が増大し消失してしまうからである。有効
な塩化物としては塩化鉄（ＦｅＣｌ2 ，ＦｅＣｌ3 ）、
塩化コバルト（ＣｏＣｌ2 ，ＣｏＣｌ3 ）、塩化ニッケ
ル（ＮｉＣｌ2 ）、塩化アンチモン等があり、これらは
混合して用いても良い。
【００２５】なお、塩化アルミニウム（ＡｌＣｌ3 ）昇
華点：１８３℃、三塩化アンチモン（ＳｂＣｌ3 ）沸
点：２２１℃、塩化ニッケル（ＮｉＣｌ2 ）沸点：９９
３℃、塩化鉄（ＦｅＣｌ2 ）沸点：１０２４℃、塩化コ
バルト（ＣｏＣｌ2 ）沸点：１０４９℃であり、塩化ア
ルミニウムの沸点あるいは昇華点以上で鏡面化に有効で
ある。
華点：１８３℃、三塩化アンチモン（ＳｂＣｌ3 ）沸
点：２２１℃、塩化ニッケル（ＮｉＣｌ2 ）沸点：９９
３℃、塩化鉄（ＦｅＣｌ2 ）沸点：１０２４℃、塩化コ
バルト（ＣｏＣｌ2 ）沸点：１０４９℃であり、塩化ア
ルミニウムの沸点あるいは昇華点以上で鏡面化に有効で
ある。
【００２６】Ａ群：ビスマス単体あるいはビスマスの化
合物は、Ｂｉ元素が含まれれば良く、特にビスマスの化
合物が、Ｂｉ粉末、酸化ビスマス、水酸化ビスマス、硫
化ビスマス、硫酸ビスマス、リン酸ビスマス、炭酸ビス
マス、硝酸ビスマス、有機酸ビスマス、ハロゲン化ビス
マスの１種あるいは２種以上の混合物が有効である。
合物は、Ｂｉ元素が含まれれば良く、特にビスマスの化
合物が、Ｂｉ粉末、酸化ビスマス、水酸化ビスマス、硫
化ビスマス、硫酸ビスマス、リン酸ビスマス、炭酸ビス
マス、硝酸ビスマス、有機酸ビスマス、ハロゲン化ビス
マスの１種あるいは２種以上の混合物が有効である。
【００２７】ここで、焼鈍分離剤中の金属水酸化物が重
要になるのは、Ｍを金属元素とするとき、下記の反応で
Ｈ2 Ｏ（水分）を放出する。 Ｍ（ＯＨ）2 →ＭＯ＋Ｈ2 Ｏ このＨ2 Ｏ（水分）は下記の反応を抑制する（高温側に
シフトする）と考えている。 ２・ＢｉＯＣｌ＋Ｈ2 →２・Ｂｉ＋Ｃｌ2 ＋２・Ｈ2 Ｏ
要になるのは、Ｍを金属元素とするとき、下記の反応で
Ｈ2 Ｏ（水分）を放出する。 Ｍ（ＯＨ）2 →ＭＯ＋Ｈ2 Ｏ このＨ2 Ｏ（水分）は下記の反応を抑制する（高温側に
シフトする）と考えている。 ２・ＢｉＯＣｌ＋Ｈ2 →２・Ｂｉ＋Ｃｌ2 ＋２・Ｈ2 Ｏ
【００２８】すなわちＨ2 Ｏの生成がこの反応を抑制し
ていると考えている。高温でＣｌ2を放出することは反
応速度を早め効率的な利用につながると推定している。
金属水酸化物としては水酸化マグネシウムの他に、水酸
化アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸化バリウ
ム、水酸化カルシウム、及び水酸化ストロンチウム等が
有効でありその混合物も有効であった。金属の塩素化合
物の添加量が塩素重量部で０．２部よりも少ない場合に
は、コイル幅方向全域に渡って酸化膜を除去することが
できない。添加量を多くしても板間に存在し得るＣｌガ
スの体積は一定であるので余分に添加されたＢｉＣｌ3
はコイル板間より流出し、効果を持たない。また、仕上
焼鈍中に鋼板焼き付きが発生しないためには、ビスマス
塩化物が蒸発した後に分離剤がある程度残存しているこ
とも必要である。従って、Ｂｉ塩化物の添加量の上限
は、塩素重量部で１５部とした。
ていると考えている。高温でＣｌ2を放出することは反
応速度を早め効率的な利用につながると推定している。
金属水酸化物としては水酸化マグネシウムの他に、水酸
化アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸化バリウ
ム、水酸化カルシウム、及び水酸化ストロンチウム等が
有効でありその混合物も有効であった。金属の塩素化合
物の添加量が塩素重量部で０．２部よりも少ない場合に
は、コイル幅方向全域に渡って酸化膜を除去することが
できない。添加量を多くしても板間に存在し得るＣｌガ
スの体積は一定であるので余分に添加されたＢｉＣｌ3
はコイル板間より流出し、効果を持たない。また、仕上
焼鈍中に鋼板焼き付きが発生しないためには、ビスマス
塩化物が蒸発した後に分離剤がある程度残存しているこ
とも必要である。従って、Ｂｉ塩化物の添加量の上限
は、塩素重量部で１５部とした。
【００２９】本発明により得られる鋼板表面は鏡のよう
な光沢を保ち、従来のアルカリ金属及びアルカリ土類金
属の塩化物を利用する技術に比べて、鋼板表面の平滑度
が良くなり鉄損が低減される。本発明は低鉄損を得るこ
とを目的とするものであるが、それ以外の目的で、例え
ば二次再結晶を安定化する等の目的でビスマスの塩化物
以外の化合物すなわち窒化物、硫化物等を添加しても良
い。
な光沢を保ち、従来のアルカリ金属及びアルカリ土類金
属の塩化物を利用する技術に比べて、鋼板表面の平滑度
が良くなり鉄損が低減される。本発明は低鉄損を得るこ
とを目的とするものであるが、それ以外の目的で、例え
ば二次再結晶を安定化する等の目的でビスマスの塩化物
以外の化合物すなわち窒化物、硫化物等を添加しても良
い。
【００３０】分離剤の塗布方法は公知の方法で良く、特
に限定しない。水へ添加・撹拌して塗っても、静電塗布
しても良い。但し、前記するように、金属の酸化物が水
和する場合は、これを考慮しなくてはならない。なお、
本発明の範囲は、金属酸化物がＭｇＯのときのように水
スラリーにしたときに水酸化物を生成するような場合
も、この水酸化物が発明の範囲に入り、良好な鏡面を得
ることができる。
に限定しない。水へ添加・撹拌して塗っても、静電塗布
しても良い。但し、前記するように、金属の酸化物が水
和する場合は、これを考慮しなくてはならない。なお、
本発明の範囲は、金属酸化物がＭｇＯのときのように水
スラリーにしたときに水酸化物を生成するような場合
も、この水酸化物が発明の範囲に入り、良好な鏡面を得
ることができる。
【００３１】本発明に供される方向性電磁鋼板は、公知
の方法によって鋳造、熱延、冷延、焼鈍を施される電磁
鋼板である。低鉄損を得る目的でＳｉを２％以上７％以
下添加したスラブを用いる。上限は工業的に圧延が可能
なＳｉ量であり、下限は鏡面化を生じさせ得る高温仕上
焼鈍で変態を生じさせないＳｉ量である。仕上焼鈍まま
の状態では、鋼板表面は金属面が露出しているため、板
と板を積層したときの板間の絶縁を保つために公知の方
法により絶縁張力被膜を付与する。占積率を高めるため
にＰＶＤ，ＣＶＤ，イオンプレーティング等の薄手高張
力被膜を形成する技術を用いても良い。
の方法によって鋳造、熱延、冷延、焼鈍を施される電磁
鋼板である。低鉄損を得る目的でＳｉを２％以上７％以
下添加したスラブを用いる。上限は工業的に圧延が可能
なＳｉ量であり、下限は鏡面化を生じさせ得る高温仕上
焼鈍で変態を生じさせないＳｉ量である。仕上焼鈍まま
の状態では、鋼板表面は金属面が露出しているため、板
と板を積層したときの板間の絶縁を保つために公知の方
法により絶縁張力被膜を付与する。占積率を高めるため
にＰＶＤ，ＣＶＤ，イオンプレーティング等の薄手高張
力被膜を形成する技術を用いても良い。
【００３２】
（実施例１）重量で、Ｃ：０．０５％、Ｓｉ：３．３
％、Ｍｎ：０．１４％、Ｓ：０．００８％、Ａｌ：０．
０２９％、Ｎ：０．００７％を含むスラブを、１１５０
℃で加熱後熱延し１．８mmの熱延板とした。１１２０℃
で熱延板を焼鈍後０．１５mmまで冷延し、８３０℃で脱
炭焼鈍を行った。表２に示す組成の焼鈍分離剤をスラリ
ー状で塗布し、１２００℃で２０時間の仕上焼鈍を行っ
た。焼鈍後鋼板表面を水洗し、グラス被膜が形成された
ものには硝酸によりこれを除去し歪取焼鈍後、単板で磁
気測定を行った。結果を表２に示す。本発明技術によれ
ば、仕上焼鈍後酸洗で酸化膜を除去するよりも低い鉄損
が得られることが分かる。これは前述したように表面が
平滑になったことによって、磁壁移動が容易になったた
めと考えている。
％、Ｍｎ：０．１４％、Ｓ：０．００８％、Ａｌ：０．
０２９％、Ｎ：０．００７％を含むスラブを、１１５０
℃で加熱後熱延し１．８mmの熱延板とした。１１２０℃
で熱延板を焼鈍後０．１５mmまで冷延し、８３０℃で脱
炭焼鈍を行った。表２に示す組成の焼鈍分離剤をスラリ
ー状で塗布し、１２００℃で２０時間の仕上焼鈍を行っ
た。焼鈍後鋼板表面を水洗し、グラス被膜が形成された
ものには硝酸によりこれを除去し歪取焼鈍後、単板で磁
気測定を行った。結果を表２に示す。本発明技術によれ
ば、仕上焼鈍後酸洗で酸化膜を除去するよりも低い鉄損
が得られることが分かる。これは前述したように表面が
平滑になったことによって、磁壁移動が容易になったた
めと考えている。
【００３３】
【表２】
【００３４】（実施例２）実施例１のNo．１〜No．５の
試験片に、リン酸アルミニウム、クロム酸及びコロイダ
ルシリカを主成分とする溶液を塗布・乾燥し、張力被膜
を形成した。単板で磁気測定を行った結果を表３に示
す。張力被膜形成により鉄損が改善されるが、本発明技
術ではその到達鉄損値が最も低い。表面が平滑化され磁
壁移動が容易になった効果は、張力被膜形成後も残って
いる。
試験片に、リン酸アルミニウム、クロム酸及びコロイダ
ルシリカを主成分とする溶液を塗布・乾燥し、張力被膜
を形成した。単板で磁気測定を行った結果を表３に示
す。張力被膜形成により鉄損が改善されるが、本発明技
術ではその到達鉄損値が最も低い。表面が平滑化され磁
壁移動が容易になった効果は、張力被膜形成後も残って
いる。
【００３５】
【表３】
【００３６】（実施例３）実施例２のNo．１〜No．５の
試験片の圧延方向と直角方向に、５mmの間隔でレーザー
照射した。単板で磁気測定を行った結果を表３に示す。
張力被膜形成後のレーザー照射により鉄損がさらに改善
されるが、本発明技術ではその到達鉄損値が最も低い。
表面が平滑化され磁壁移動が容易になった効果は、張力
被膜形成・レーザー照射による磁区細分化後も残ってい
る。
試験片の圧延方向と直角方向に、５mmの間隔でレーザー
照射した。単板で磁気測定を行った結果を表３に示す。
張力被膜形成後のレーザー照射により鉄損がさらに改善
されるが、本発明技術ではその到達鉄損値が最も低い。
表面が平滑化され磁壁移動が容易になった効果は、張力
被膜形成・レーザー照射による磁区細分化後も残ってい
る。
【００３７】
【表４】
【００３８】（実施例４）実施例１中No．１とNo．４に
ついて分離剤を水洗除去した後、歯車型ロールにより板
表面に圧延方向と直角方向に破線状の凹部を形成した。
引き続きリン酸アルミニウム、クロム酸及びコロイダル
シリカを主成分とする溶液を塗布・焼鈍した。焼鈍温度
は８００℃である。単板磁気測定結果を表５に示す。凹
部形成後の焼鈍で導入された異方位微小粒による磁区細
分化後も、表面が平滑化され磁壁移動が容易になった効
果が残ることが分かる。
ついて分離剤を水洗除去した後、歯車型ロールにより板
表面に圧延方向と直角方向に破線状の凹部を形成した。
引き続きリン酸アルミニウム、クロム酸及びコロイダル
シリカを主成分とする溶液を塗布・焼鈍した。焼鈍温度
は８００℃である。単板磁気測定結果を表５に示す。凹
部形成後の焼鈍で導入された異方位微小粒による磁区細
分化後も、表面が平滑化され磁壁移動が容易になった効
果が残ることが分かる。
【００３９】
【表５】
【００４０】（実施例５）重量で、Ｃ：０．０６％、Ｓ
ｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１４％、Ｓ：０．００７％、
Ａｌ：０．０２９％、Ｎ：０．００７％を含むスラブ
を、１１５０℃で加熱後熱延し１．８mmの熱延板とし
た。１１２０℃で熱延板を焼鈍後０．１６mmまで冷延
し、８３０℃で脱炭焼鈍を行った。表６に示す組成の焼
鈍分離剤を水スラリー状で塗布し、１２００℃で２０時
間の仕上焼鈍を行った。焼鈍分離剤はマグネシア（Ｍｇ
Ｏ）：１００重量部に対して、Ｂｉの化合物：５重量
部、金属の塩素化合物：５重量部であり、金属の塩素化
合物が２種のときは２．５重量部ずつである。なお、マ
グネシア（ＭｇＯ）は、ＫＹ社の市販品を用い、水スラ
リー状態で、１０分撹拌後、鋼板に塗布・乾燥して剥離
し、１０００℃で１時間焼成したところ、２．８重量％
の減少があり、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）2 ）
のＭｇＯ＋Ｍｇ（ＯＨ）2 中に占める割合は９．１重量
％であった。
ｉ：３．３％、Ｍｎ：０．１４％、Ｓ：０．００７％、
Ａｌ：０．０２９％、Ｎ：０．００７％を含むスラブ
を、１１５０℃で加熱後熱延し１．８mmの熱延板とし
た。１１２０℃で熱延板を焼鈍後０．１６mmまで冷延
し、８３０℃で脱炭焼鈍を行った。表６に示す組成の焼
鈍分離剤を水スラリー状で塗布し、１２００℃で２０時
間の仕上焼鈍を行った。焼鈍分離剤はマグネシア（Ｍｇ
Ｏ）：１００重量部に対して、Ｂｉの化合物：５重量
部、金属の塩素化合物：５重量部であり、金属の塩素化
合物が２種のときは２．５重量部ずつである。なお、マ
グネシア（ＭｇＯ）は、ＫＹ社の市販品を用い、水スラ
リー状態で、１０分撹拌後、鋼板に塗布・乾燥して剥離
し、１０００℃で１時間焼成したところ、２．８重量％
の減少があり、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）2 ）
のＭｇＯ＋Ｍｇ（ＯＨ）2 中に占める割合は９．１重量
％であった。
【００４１】仕上焼鈍後の素材に、リン酸アルミニウム
とコロイダルシリカを主成分とする溶液を塗布・乾燥
し、張力被膜を形成した。さらに圧延方向と直角方向
に、５mmの間隔でレーザー照射した。単板で磁気測定を
行った結果を表６に示す。本発明技術ではその到達鉄損
値が低い。表面が平滑化され磁壁移動が容易になった効
果は、張力被膜形成・レーザー照射による磁区細分化後
も残っている。
とコロイダルシリカを主成分とする溶液を塗布・乾燥
し、張力被膜を形成した。さらに圧延方向と直角方向
に、５mmの間隔でレーザー照射した。単板で磁気測定を
行った結果を表６に示す。本発明技術ではその到達鉄損
値が低い。表面が平滑化され磁壁移動が容易になった効
果は、張力被膜形成・レーザー照射による磁区細分化後
も残っている。
【００４２】
【表６】
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、一度生成されたグラス
被膜を酸洗する必要がなく、フォルステライト被膜がな
くかつ鏡面である方向性電磁鋼板が仕上焼鈍で得られ
る。この材料に磁区制御、張力被膜付与を行うと、極め
て低鉄損の方向性電磁鋼板となる。さらにこの材料はグ
ラス被膜を酸洗したものよりも優れた鉄損値が得られる
ので工業的価値は極めて大きい。
被膜を酸洗する必要がなく、フォルステライト被膜がな
くかつ鏡面である方向性電磁鋼板が仕上焼鈍で得られ
る。この材料に磁区制御、張力被膜付与を行うと、極め
て低鉄損の方向性電磁鋼板となる。さらにこの材料はグ
ラス被膜を酸洗したものよりも優れた鉄損値が得られる
ので工業的価値は極めて大きい。
Claims (7)
- 【請求項１】 Ｓｉ：２〜７重量％含む珪素鋼スラブを
熱延後、必要に応じて焼鈍し、１回の冷延または中間焼
鈍をはさむ２回以上の冷延を行い、脱炭焼鈍後、ビスマ
ス単体あるいはビスマスの化合物及び金属の塩素化合物
を含み、かつ金属酸化物及び金属水酸化物を主体とする
物質を塗布・乾燥して仕上焼鈍を行う方向性珪素鋼板の
製造方法において、金属酸化物及び金属水酸化物中に占
める金属水酸化物の割合を１．０〜２５重量％とするこ
とを特徴とする鏡面方向性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項２】 金属酸化物がマグネシア、アルミナ、シ
リカ、ジルコニア、バリア、カルシア、酸化ストロンチ
ウム及びフォルステライトの１種あるいは２種以上の混
合物を主体とすることを特徴とする請求項１記載の鏡面
方向性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項３】 金属水酸化物が水酸化マグネシウム、水
酸化アルミニウム、水酸化ジルコニウム、水酸化バリウ
ム、水酸化カルシウム、及び水酸化ストロンチウムの１
種あるいは２種以上の混合物を主体とすることを特徴と
する請求項１記載の鏡面方向性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項４】 Ｓｉ：２〜７重量％含む珪素鋼スラブを
熱延後、必要に応じて焼鈍し、１回の冷延または中間焼
鈍をはさむ２回以上の冷延を行い、脱炭焼鈍後、ビスマ
ス単体あるいはビスマスの化合物及び金属の塩素化合物
を含む焼鈍分離剤を塗布・乾燥して仕上焼鈍を行う方向
性珪素鋼板の製造方法において、焼鈍分離剤としてシリ
カ粉末の水スラリーを用いることを特徴とする鏡面方向
性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項５】 仕上焼鈍後、焼鈍分離剤を除去し、張力
被膜を付与することを特徴とする請求項ｌ〜４のいずれ
かに記載の鏡面方向性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項６】 仕上焼鈍後、焼鈍分離剤を除去し、磁区
細分化処理をすることを特徴とする請求項ｌ〜４のいず
れかに記載の鏡面方向性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項７】 仕上焼鈍後、焼鈍分離剤を除去し、磁区
細分化処理及び張力被膜を付与することを特徴とする請
求項ｌ〜４のいずれかに記載の鏡面方向性珪素鋼板の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5322698A JP2667110B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 鏡面方向性珪素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5322698A JP2667110B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 鏡面方向性珪素鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07173642A true JPH07173642A (ja) | 1995-07-11 |
| JP2667110B2 JP2667110B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=18146622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5322698A Expired - Fee Related JP2667110B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 鏡面方向性珪素鋼板の製造方法 |
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|---|---|
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Cited By (5)
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