JPH07166364A - 水平走行連続浸漬処理装置 - Google Patents

水平走行連続浸漬処理装置

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JPH07166364A
JPH07166364A JP31015893A JP31015893A JPH07166364A JP H07166364 A JPH07166364 A JP H07166364A JP 31015893 A JP31015893 A JP 31015893A JP 31015893 A JP31015893 A JP 31015893A JP H07166364 A JPH07166364 A JP H07166364A
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JP
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gate
tank
liquid
reserve tank
work
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Application number
JP31015893A
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English (en)
Inventor
Tatsuya Tomioka
辰也 冨岡
Yasuo Sekiguchi
泰生 関口
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TAISHO KOGYO KK
Original Assignee
TAISHO KOGYO KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 メッキ等の浸漬処理装置において、ワークを
水平移動を可能とし、且つ液処理槽の容積を小さくす
る。 【構成】 水平走行連続メッキ装置10のメッキ槽18
及び水洗中和回収槽26の前後にリザーブ槽20、22
及び24、28を配置し、これらの境界をゲート30〜
36によって開閉させ、リザーブ槽と外部、リザーブ槽
相互間のワークの移動時にはリザーブ槽の液面レベルを
低くして且つゲートを開きワークを移動させ、リザーブ
槽とメッキ槽18又は水洗中和回収槽26との間の移動
時には、ゲートを閉じて各リザーブ槽の液面レベルをメ
ッキ槽18及び水洗中和回収槽26と同一レベルとして
ワークを移動させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、メッキ、アルマイト
処理、電解研磨、電解酸洗、プリント基板スルーホール
メッキ、フロン代替洗浄、治具剥離等の、液処理槽にワ
ークを浸漬して処理を行うための浸漬処理装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば、メッキ処理、電解酸洗等
の工程は、複数種類の液処理槽を並べて、ワークをエレ
ベータあるいはキャリヤと称される搬送装置(ラック及
びバレル)により吊り下げて、1つの液処理槽に一定時
間浸漬した後、これを上方に吊り上げて、そのまま隣接
する液処理槽上方に移動した後降下させ、該液処理槽に
浸漬させるという手順で、順次所定の液処理槽に浸漬し
て処理を行うものである。このようなワークの搬送方法
は、従来、空中移行と称されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の装置は、空
中移行するために、ロスタイムが大きく、通常、空中移
行の際のワークの上昇及び下降、水平移動の工程で各々
5秒の時間を要し、液処理時間を8時間とすると、空中
での上下動及び水平移動の時間が10時間となり、非常
に作業能率が低いという問題点があった。
【0004】又、このように空中移行によるロスタイム
を補うために、多くのワークを1つのラックに取付けて
移動させるので、必然的に各液処理槽が大きくなり、こ
のため、装置スペースが過大となるのみならず、多量の
処理液を必要とするという問題点があった。
【0005】又、このように、液処理槽の容量が大きい
と、処理液を管理する管理槽を別途に設けることが困難
であるため、液処理槽内の処理液を頻繁に検査して、そ
の液質低下を防止しなければならないという問題点があ
った。
【0006】これらに対して、例えば特開平2−182
895号公報に開示されるように、ワークを水平方向に
連続的に走行させつつメッキ処理を行う装置がある。
【0007】しかしながら、この装置は、条体(線材)
等の連続体を処理するものであり、機械部品等の独立し
た形状を有するものは処理することができないという問
題点がある。
【0008】この発明は、上記従来の問題点に鑑みてな
されたものであって、機械部品等であっても、連続的に
水平走行させて液処理することができる水平走行連続浸
漬処理装置を提供することを目的とする。
【0009】又、液処理槽の容量を小さくすることがで
きる水平走行連続浸漬処理装置を提供することを目的と
する。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明は、ワークを一
定範囲で水平送りラインに沿って水平に搬送する搬送手
段と、液処理槽、この液処理槽の前後に配置された前側
及び後側リザーブ槽、及び液処理槽とリザーブ槽内の処
理液の量を調整する液量調整手段、を含んで一組とされ
て、前記水平送りラインに沿って水平、且つ、連続的に
配置された、各処理液につき少なくとも一組の液処理槽
群と、各液処理槽とリザーブ槽の境界壁及び前側リザー
ブ槽の入側境界壁、後側リザーブ槽の出側境界壁に配置
され、前記境界壁を開閉するシャッタープレートを備
え、開状態で前記ワークの水平通過を許容すると共に、
閉じ状態で処理液の流出を阻止するゲートと、ゲートへ
のワーク接近時に該ゲートを開き、ワーク通過後に該ゲ
ートを閉じ、前側リザーブ槽の入側ゲートと後側リザー
ブ槽の出側ゲートを、液処理槽の入側ゲートと出側ゲー
トに対して逆位相で開閉させるゲート駆動制御装置と、
を有してなり、前記液量調整手段は、液処理槽とリザー
ブ槽間をワークが出入りするとき両槽の液処理レベルを
同一とし、リザーブ槽とリザーブ槽外間を出入りすると
き該リザーブ槽の液処理レベルを、ゲート開状態におけ
るゲート開口下端以下とすることを特徴とする水平走行
連続浸漬処理装置により上記目的を達成するものであ
る。
【0011】又、請求項2のように、前記ゲート駆動制
御装置は、一組の液処理槽群における液処理槽の入側ゲ
ートと出側ゲートを同期して開閉させるようにしてもよ
い。
【0012】更に、請求項3のように、前記ゲートは、
前記ワークの水平送りラインと直交する鉛直面内で該通
過ラインに対して進退する一対のシャッタープレートを
備え、これらシャッタープレートの対向端縁が接触する
ことにより閉じ状態、離間することにより開状態となる
ようにしてもよい。
【0013】又、請求項4のように、前記ゲート駆動制
御装置は、前記ワークの水平送りラインに沿って前記液
処理槽群の側面に配置された動力軸と、この動力軸の駆
動力を前記ゲートに伝達する伝達装置と、を有してなる
ようにしてもよい。
【0014】更に、請求項5のように、前記ゲートは、
前記シャッタープレートを前記ワークの水平送りライン
と直交する鉛直面内で移動自在に案内するガイドを備
え、前記伝達装置は、前記動力軸の回転運動を往復動に
して前記ゲートに伝達する動力変換装置としてもよい。
【0015】又、請求項6のように、前記ゲートの前記
シャッタープレートは、前記ワークの水平送りラインと
直交する鉛直面内で揺動自在に支持され、前記伝達装置
は、前記動力軸の回転運動を前記移動プレートの揺動運
動として伝達する動力変換装置としてもよい。
【0016】更に、請求項7のように、前記少なくとも
一組の液処理槽群が、1本の動力軸を共有し、前記伝達
装置は各ゲート毎に設けられるようにしてもよい。
【0017】更に、請求項8のように、前記各組の液処
理槽群における液処理槽とリザーブ槽は、直線状に配置
され、且つ、隣接する組は、その水平送りラインの相対
角度が任意に調節自在とされるようにしてもよい。
【0018】
【作用及び効果】請求項1の発明によれば、液処理槽の
前後にリザーブ槽が設けられ、前側リザーブ槽の入側境
界壁、後側リザーブ槽の出側境界壁及び液処理槽とリザ
ーブ槽の境界壁を、それぞれシャッタープレートを備え
たゲートにより開閉自在とし、液処理槽に入る前のワー
クを、液面が低下し、入側境界壁のゲートが開いた状態
で前側リザーブ槽に導いた後に入側境界壁のゲートを閉
じ、ここに液処理槽と同一レベルまで処理液を満し、次
に前側リザーブ槽、液処理槽との境界壁のゲートを開
き、前側リザーブ槽内のワークを液処理槽に導き、次に
前記境界壁のゲートを閉じ、該液処理槽内で所定の処理
が施されたワークは、液処理槽の出側の、後側リザーブ
槽との境界壁のゲートから、予め処理液が満された後側
リザーブ槽内に移送され、しかる後、液処理槽と後側リ
ザーブ槽の境界ゲートを閉じて、該後側リザーブ槽内の
壁面を低下し、後側リザーブ槽の出側境界壁のゲートを
開いてワークを排出するという工程により、ワークを水
平に移動させつつ、液処理を順次連続的に行うことがで
きる。
【0019】従って、従来の空中移行のロスタイムがな
く、又、ワークをバッチ処理する必要がないので、液処
理槽及びリザーブ槽を小さくすることができ、これによ
り、使用する処理液量も低減させることができる。
【0020】請求項2の発明によれば、液処理槽の入側
ゲートと出側ゲートが同期して開閉されるので、ワーク
を搬送手段に固定的に吊り下げて連続的に処理すること
ができる。
【0021】請求項3によれば、ゲートがワークの通過
ラインに対して直交する面内で進退する一対のプレート
から構成され、これらの対向端縁が接触するとき閉じら
れ、離間するとき開かれるので、ワークを通過させるた
めに、該ワークの形状に応じて、一対のシャッタープレ
ートの対向端縁間を調整して、開き量を最小限として、
ワークのゲート通過の際の時間を短くすることができ
る。
【0022】請求項4の発明によれば、ゲート駆動制御
装置の動力軸がワークの水平送りラインに沿って液処理
槽群の側面に配置されているので、該動力軸から滴下し
た油滴等が液処理槽あるいはリザーブ槽内に落下するこ
とがなく、又、搬送手段と干渉することもなく、更に、
この動力軸の任意の箇所から伝達装置を介してゲートに
駆動力を伝達できるので、ゲートを任意の箇所に設置す
ることができる。
【0023】請求項5の発明によれば、シャッタープレ
ートが往復動されるので、該シャッタープレート先端形
状を、ワークの形状に合わせて、開時に最小の隙間を形
成してワーク通過時間を短くすることができる。
【0024】請求項6の発明によれば、シャッタープレ
ートが揺動されるので、動力軸の回転運動を容易に揺動
運動に変換することができる。
【0025】請求項7の発明によれば、一組の液処理槽
群が同一の動力軸を共有しているので、同期して容易に
各ゲートを開閉させることができる。
【0026】請求項8の発明によれば、液処理槽群毎に
任意に配置することができるので、工場内のレイアウト
を、周囲の装置、スペースに合わせて任意に設定するこ
とができる。
【0027】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
【0028】この実施例は、本発明を図1に示される金
メッキのための水平走行連続メッキ装置10に適用した
ものである。
【0029】この水平走行連続メッキ装置10は、ワー
クを水平送りライン12Aに沿って搬送する搬送手段1
2と、前記水平送りライン12Aに沿って、その下側
に、連続して配置されたメッキ槽群14と、水洗中和回
収槽群16とを備えて構成されている。
【0030】前記メッキ槽群14は、メッキ槽18と、
このメッキ槽18の前後に配置された前側及び後側リザ
ーブ槽20、22とから構成され、又、前記水洗中和回
収槽群16は、前記後側リザーブ槽22に隣接する前側
回収リザーブ槽24と水洗中和回収槽26と、その後側
に配置された後側回収リザーブ槽28と、から構成され
ている。
【0031】前記前側リザーブ槽20の入側の境界壁2
0Aと、この前側リザーブ槽20とメッキ槽18との間
の境界壁18Aと、後側リザーブ槽22との境界壁18
Bと、この後側リザーブ槽22と前側回収リザーブ槽2
4との間の境界壁22Aと、前側回収リザーブ槽24と
水洗中和回収槽26との境界壁26Aと、この水洗中和
回収槽26と後側回収リザーブ槽28との境界壁26B
と、前記後側回収リザーブ槽28の出側の境界壁28A
とには、それぞれゲート30〜36が配置され、これら
境界壁18A、18B、22A、26A、26B及び2
8Aが開閉されるようになっている。
【0032】前記ゲート30〜36は、図4に拡大して
示されるように、前記ワークの水平送りライン12Aと
直交する鉛直面内で、ワークの通過ラインに対して水平
方向に同期して進退する一対のシャッタープレート38
を備え、これらシャッタープレート対向端縁38Aが接
触することにより境界壁を閉じ、又、離間することによ
ってワークが通過できる程度の隙間を形成する開状態と
なるようにされている。前記対向端縁38Aは、柔軟な
ゴムシール材から構成されている。
【0033】前記一対のシャッタープレート38は、図
4に示されるように、境界壁に形成されたU字形状の開
口40を左右から開閉するものであり、該境界壁の下側
に、開口40の下方を通って横断して配置された水平ガ
イド42により案内され、境界壁の一側面に沿って水平
方向に進退できるようにされている。
【0034】前記シャッタープレート38の上端には、
図4に示されるように、境界壁の上端縁を跨いで、該境
界壁とシャッタープレート38の上端を挾み込むように
して配置された移動シュー44が取付けられ、これによ
り、シャッタープレート38の上端は、境界壁の上端に
沿って移動できるようにされている。
【0035】前記シャッタープレート38は、ゲート駆
動制御装置46により開閉されるようになっている。こ
のゲート駆動制御装置46は、前記シャッタープレート
38上端の移動シュー44の上面から吐出したピン44
Aに摺動自在に係合する円筒カム48と、この円筒カム
48に同軸的に結合されたウオームホイール50と、こ
のウオームホイール50を駆動するウオームギヤー52
と、このウオームギヤー52が取付けられた回転軸52
Aを駆動するモータ56Aを含む駆動装置56と、を備
えて構成されている。
【0036】又、円筒カム48のカム溝48Aは、18
0度の範囲で移動シュー44をゲート閉位置に、残りの
180度の範囲で移動シュー44を往復動させるように
それぞれ形成され、ゲート30、33、36が同期し
て、又、ゲート31、32、34、35は、ゲート3
0、33、36と180度ずれて同期して、それぞれ開
閉されるように、円筒カム48が設定されている。又、
駆動装置56は間欠的に回転軸52Aを駆動するもので
あるが、1回の駆動時間で円筒カム48を半回転させる
ように設定されている。
【0037】更に、前記円筒カム48は下端が軸方向ス
リット状に開口したカバー49Aにより被われた状態
で、前記境界壁の上側に、支持カバー54により支持さ
れている。
【0038】この支持カバー54は、前記メッキ槽群1
4及び水洗中和回収槽群16の両側壁17に固定されて
いる。前記ウオームホイール50は、支持カバー54の
外側で、同じく側壁17の外側に水平送りライン12A
と平行に配置された前記ウオームギヤー52と噛合って
いる。
【0039】前記支持カバー54は、側壁17から上方
に突出するウオームホイール50とメッキ槽群14及び
水洗中和回収槽群16の上方空間との間を遮蔽するもの
である。
【0040】前記搬送手段12は、図1〜図3に示され
るように、モータ56A、スプロケットホイール58及
びこれに巻きかけられるチェーン60を備え、左右のチ
ェーン60間に張り渡された吊下げプレート64の下側
にワークWを吊り下げ支持して、ガイドフレーム62に
沿って前記メッキ槽群14及び水洗中和回収槽群16の
上方を水平に、図2において左から右方向に搬送するも
のである。
【0041】図2の符号66は水洗中和回収槽群16か
ら出てきたワークWを下方のバケット67に払い落とす
払い出し装置を示す。
【0042】図5に示されるように、前記メッキ槽1
8、前側、後側リザーブ槽20、22、前側回収リザー
ブ槽24、水洗中和回収槽26及び後側回収リザーブ槽
28の下側には、それぞれの容積に対応した管理槽6
8、70、72、74、76及び78が配置されてい
る。
【0043】前記前側リザーブ槽20と管理槽70、後
側リザーブ槽22と管理槽72、前側回収リザーブ槽2
4と管理槽74、後側回収リザーブ槽28と管理槽78
との間には、図5に示されるように、バルブ70A、7
2A、74A、78Aがそれぞれ、各リザーブ槽の底壁
に配置され、対応する管理槽の上端と連通できるように
されている。
【0044】又、前記各管理槽68〜78の下端は、フ
ィルタ80を介してポンプ82の吸入側に連通され、又
これらポンプ82の吐出口84は対応するメッキ槽、リ
ザーブ槽及び水洗中和回収槽の上方に位置され、管理槽
から吸入した処理液を上方の対応する槽に循環させるこ
とができるようにされている。
【0045】図5の符号86A〜86Fは上側の各槽の
液面レベルを検出する液面センサ、88は前記液面セン
サ86A〜86Fからの信号、ゲート30〜36からの
ゲート開閉信号に基づいて、バルブ70A、72A、7
4A、78Aの開閉及びポンプ82の駆動を制御するた
めの制御装置をそれぞれ示す。ゲート開閉信号は、円筒
カム48の回転から取出される。
【0046】又、図4の符号37は各ゲート30〜36
の入側位置で側壁17に取付けられ、これらゲート30
〜36にワークWが接近したときこれを検出して、信号
を、前記ゲートの駆動装置56のためのゲート制御装置
57に出力するセンサを示す。ゲート制御装置57はセ
ンサ37からのワークW接近信号により、該ワークWが
ゲートを通過する時間だけ、該ゲートを開くように駆動
装置56をオンさせるようになっている。
【0047】ここで、前記リザーブ槽の水平送りライン
12A方向の長さは、搬送手段12によるワークWの最
小搬送単位を収容できる程度とされている。従って、ワ
ークWが図2に示されるように線状材の場合は、例えば
3本を1単位として、この3本を収容できるような長さ
にする。
【0048】次に、上記実施例に係る水平走行連続メッ
キ装置10の作用について説明する。
【0049】まず、前記メッキ槽18及び水洗中和回収
槽26は、それぞれメッキ及び回収処理に必要な液面レ
ベルに維持しておく。
【0050】ワークWが搬送手段12によりゲート30
に接近するとき、前側リザーブ槽20は、バルブ70A
を予め開いてメッキ液を図5に示されるように、境界壁
31の開口40の下端位置以下にしておく。
【0051】この状態でワークWの接近がセンサ37に
検知されたとき、ゲート30を開き(図5〜図8におい
て破線はゲート開、実線はゲート閉の状態をそれぞれ示
すものとする)、前側リザーブ槽20内にワークWを移
動させて停止させる。
【0052】ワークWが通過すると、図6に示されるよ
うに開いていたゲート30が閉じ、次にポンプ82によ
り、管理槽72内のメッキ液をその上側の前側リザーブ
槽20内に、メッキ槽18と同一液面レベルまで注入す
る。
【0053】液面センサ86Aが液面レベル上昇を検知
すると、次に、ワークWが進行され、ゲート31に接近
するとこれが図7に示されるように開き、ワークWがメ
ッキ槽18内に進行すると、図8に示されるように開い
ていたゲート31が閉じられ、ワークWがメッキ槽18
内で間欠的に進行しつつメッキ処理がなされる。メッキ
処理が終了したワークWは、予め液面レベルがメッキ槽
18と同一とされた後側リザーブ槽22内に、図7に示
されるようにゲート32を開いて移動される。
【0054】ワークWの通過後にゲート32が閉じら
れ、後側リザーブ槽22内のメッキ液が下方の管理槽7
2内に排出されて液面レベルが下がり、同じく液面レベ
ルが下げられている前側回収リザーブ槽24内に移動さ
れる。
【0055】ワークWは、前記メッキ槽群14における
と同様に、水洗中和回収槽群16においても前側回収リ
ザーブ槽24、水洗中和回収槽26及び後側回収リザー
ブ槽28を上記と同様の工程で進行し、最後に、後側回
収リザーブ槽28のゲート36から外部に搬出される。
【0056】上記の過程において、4つのリザーブ槽の
液面レベルは、同期して上下され、又前側リザーブ槽2
0の入側のゲート30、後側リザーブ槽22の出側ゲー
ト33、後側回収リザーブ槽28の出側ゲート36は同
期して開閉され、又、これらと円筒カム48の回転方向
に180度ずれて、メッキ槽18の入側及び出側のゲー
ト31、32と、水洗中和回収槽26の入側及び出側の
ゲート34、35は、同期して開閉される。
【0057】この実施例では、各液処理槽群の下側に液
処理槽及びリザーブ槽に対応して管理槽が配置されてい
るので、処理液の管理が容易であると共に、工場内での
装置容積を小さくすることができる。
【0058】なお、上記実施例においては、メッキ槽群
14と水洗中和回収槽群16が直線状の水平送りライン
12Aに沿って配置されているが、本発明はこれに限定
されるものでなく、例えば図9に示されるように、複数
の液処理槽群101〜103をコ字状あるいはクランク
状等に配置してもよい。この場合、各処理液槽群の中で
はリザーブ槽と液処理槽の配置を直線状とする。
【0059】又、前記実施例において、各リザーブ槽の
幅はメッキ槽18及び水洗中和回収槽26の幅と同一と
されているが、これは、例えば図10の実施例に示され
るように、リザーブ槽104、105の幅をワークWが
通過する必要最小限としてもよい。液処理槽106は通
常の幅としておく。
【0060】この場合、側壁17の内側に、ワークWの
通過幅の通路を残して、例えば耐食性樹脂からなるブロ
ック107を設けるようにしてもよい。図10の符号1
08はゲートを示す。
【0061】このように、リザーブ槽104、105の
容積を小さくすると、処理液の迅速な排出注入を行うこ
とができると共に、使用処理液量を低減させることがで
きる。
【0062】なお、上記実施例において、リザーブ槽の
ゲート及びメッキ槽と水洗中和回収槽のゲートはそれぞ
れ同期して開閉されるようになっているが、本発明はこ
れに限定されるものでなく、メッキ等の処理時間及び距
離とワークWの寸法との関係において、必ずしも同期し
て開閉させる必要はない。但し、この場合は、ゲートの
開閉の位相を調整する必要がある。
【0063】更に、上記実施例は、金メッキの場合のも
のであって、メッキ槽18と水洗中和回収槽26のみを
備えるものであるが、本発明はこれに限定されるもので
なく、他のメッキ、アルマイト処理、電解研磨、電解酸
洗、プリント基板スルーホールメッキ、フロン代替洗
浄、治具剥離等の液処理槽にワークを浸漬して処理を行
うための浸漬処理装置全般に適用され得るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係る水平走行連続メッキ装置
を示す斜視図
【図2】同実施例装置を示す略示正面図
【図3】同装置の略示側面図
【図4】同実施例装置におけるゲート開閉機構を拡大し
て示す斜視図
【図5】同実施例装置における各槽の液面レベルの制御
とゲートの開閉制御との関係を示す一部ブロック図を含
む略示断面図
【図6】同実施例装置における各槽の液面レベルの制御
とゲートの開閉制御との関係を示す略示断面図
【図7】同実施例装置における各槽の液面レベルの制御
とゲートの開閉制御との関係を示す略示断面図
【図8】同実施例装置における各槽の液面レベルの制御
とゲートの開閉制御との関係を示す略示断面図
【図9】本発明の第2実施例を示す略示平面図
【図10】実施例装置におけるリザーブ槽の変形例を示
す略示平面図
【符号の説明】
W…ワーク 10…水平走行連続メッキ装置 12…搬送手段 12A…水平送りライン 14…メッキ槽群 16…水洗中和回収槽群 17…側壁 18…メッキ槽 18A、18B、22A、26A、26B、28A…境
界壁 20…前側リザーブ槽 22…後側リザーブ槽 24…前側回収リザーブ槽 26…水洗中和回収槽 28…後側回収リザーブ槽 30、31、32、33、34、35、36…ゲート 38…シャッタープレート 38A…対向端縁 40…開口 42…水平ガイド 46…ゲート駆動制御装置 68、70、72、74、76、78…管理槽 70A、72A、74A、78A…バルブ 82…ポンプ 86A〜86F…液面センサ 88…制御装置

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ワークを一定範囲で水平送りラインに沿っ
    て水平に搬送する搬送手段と、液処理槽、この液処理槽
    の前後に配置された前側及び後側リザーブ槽、及び液処
    理槽とリザーブ槽内の処理液の量を調整する液量調整手
    段、を含んで一組とされて、前記水平送りラインに沿っ
    て水平、且つ、連続的に配置された、各処理液につき少
    なくとも一組の液処理槽群と、各液処理槽とリザーブ槽
    の境界壁及び前側リザーブ槽の入側境界壁、後側リザー
    ブ槽の出側境界壁に配置され、前記境界壁を開閉するシ
    ャッタープレートを備え、開状態で前記ワークの水平通
    過を許容すると共に、閉じ状態で処理液の流出を阻止す
    るゲートと、ゲートへのワーク接近時に該ゲートを開
    き、ワーク通過後に該ゲートを閉じ、前側リザーブ槽の
    入側ゲートと後側リザーブ槽の出側ゲートを、液処理槽
    の入側ゲートと出側ゲートに対して逆位相で開閉させる
    ゲート駆動制御装置と、を有してなり、前記液量調整手
    段は、液処理槽とリザーブ槽間をワークが出入りすると
    き両槽の液処理レベルを同一とし、リザーブ槽とリザー
    ブ槽外間を出入りするとき該リザーブ槽の液処理レベル
    を、ゲート開状態におけるゲート開口下端以下とするこ
    とを特徴とする水平走行連続浸漬処理装置。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記ゲート駆動制御装
    置は、一組の液処理槽群における液処理槽の入側ゲート
    と出側ゲートを同期して開閉させるものであることを特
    徴とする水平走行連続浸漬処理装置。
  3. 【請求項3】請求項1又は2において、前記ゲートは、
    前記ワークの水平送りラインと直交する鉛直面内で該通
    過ラインに対して進退する一対のシャッタープレートを
    備え、これらシャッタープレートの対向端縁が接触する
    ことにより閉じ状態、離間することにより開状態となる
    ことを特徴とする水平走行連続浸漬処理装置。
  4. 【請求項4】請求項1、2又は3において、前記ゲート
    駆動制御装置は、前記ワークの水平送りラインに沿って
    前記液処理槽群の側面に配置された動力軸と、この動力
    軸の駆動力を前記ゲートに伝達する伝達装置と、を有し
    てなることを特徴とする水平走行連続浸漬処理装置。
  5. 【請求項5】請求項1乃至4のいずれかにおいて、前記
    ゲートは、前記シャッタープレートを前記ワークの水平
    送りラインと直交する鉛直面内で移動自在に案内するガ
    イドを備え、前記伝達装置は、前記動力軸の回転運動を
    往復動にして前記ゲートに伝達する動力変換装置である
    ことを特徴とする水平走行連続浸漬処理装置。
  6. 【請求項6】請求項1乃至4のいずれかにおいて、前記
    ゲートの前記シャッタープレートは、前記ワークの水平
    送りラインと直交する鉛直面内で揺動自在に支持され、
    前記伝達装置は、前記動力軸の回転運動を前記移動プレ
    ートの揺動運動として伝達する動力変換装置であること
    を特徴とする水平走行連続浸漬処理装置。
  7. 【請求項7】請求項1乃至6のいずれかにおいて、少な
    くとも一組の液処理槽群の各ゲートが、同一の動力軸を
    共有し、前記伝達装置は各ゲート毎に設けられているこ
    とを特徴とする水平走行連続浸漬処理装置。
  8. 【請求項8】請求項1乃至7のいずれかにおいて、前記
    各組の液処理槽群における液処理槽とリザーブ槽は、直
    線状に配置され、且つ、隣接する組は、その水平送りラ
    インの相対角度が任意に調節自在とされたことを特徴と
    する水平走行連続浸漬処理装置。
JP31015893A 1993-12-10 1993-12-10 水平走行連続浸漬処理装置 Pending JPH07166364A (ja)

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Cited By (5)

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