JPH07161243A - 立体電極の形成方法 - Google Patents

立体電極の形成方法

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JPH07161243A
JPH07161243A JP5339966A JP33996693A JPH07161243A JP H07161243 A JPH07161243 A JP H07161243A JP 5339966 A JP5339966 A JP 5339966A JP 33996693 A JP33996693 A JP 33996693A JP H07161243 A JPH07161243 A JP H07161243A
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JP
Japan
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electrode
pattern
substrate
view
unnecessary
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Pending
Application number
JP5339966A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuji Kikuchi
一二 菊池
Motoi Yamauchi
基 山内
Yoshitaka Takahashi
芳孝 高橋
Hirokatsu Yoshida
宏勝 吉田
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TOWA ELECTRON CO Ltd
TOWA ELECTRON KK
Original Assignee
TOWA ELECTRON CO Ltd
TOWA ELECTRON KK
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Publication date
Application filed by TOWA ELECTRON CO Ltd, TOWA ELECTRON KK filed Critical TOWA ELECTRON CO Ltd
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Publication of JPH07161243A publication Critical patent/JPH07161243A/ja
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  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 単純なプロセスで、しかも特別な装置を要せ
ず、コストが安価なプロセスで、小型にして、かつ形状
複雑な立体電極の形成を可能とする。 【構成】 小型にして、かつ形状複雑な立体面を有する
機能材料(基板10)に電極及びパターン24を形成す
る。次いで、該電極及びパターンで不要電極及びパター
ンへの導通を遮断し、電着レジストとエッチングにより
不要電極及びパターンを除去して立体面への選択的電極
及びパターン24を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、立体電極の形成方法に
関し、更に詳しくは、チップ機能部品、圧電機能モジュ
ール、超小型プリント基板及びセンサー素子等に用いら
れる立体電極の形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の形成技術としては、例え
ば、 プリント基板でのスルーホール技術では、メッ
キ処理等により垂直面の電極形成を行うとか、 軟ら
かな弾性材料にパターン等を転写し、これを印刷対象物
に押し付けることにより、形状変化を起し、立体面への
パターン印刷を行うパット印刷とか、 予め全面に付
着させ導電膜とレジスト膜に、レーザービーム等を使っ
てパターン等を書かせることによって、ビームの通過部
が硬化し、エッチングすることによってパターンを形成
する方法とか、 更には、微細な構造を有する薄膜を
マスクなしに形成する方法として、集束イオンビームを
利用したアシスト蒸着法が用いられていた。
【0003】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、従来
の技術で述べたもののうちの技術においては、メッキ
処理の対象となった箇所は全てメッキされるため、極小
の立体面に選択的に電極やパターンを形成することがで
きないという問題点を有しており、の印刷によるパタ
ーン形成においては、極小物への印刷には不向きである
ばかりか、弾性材料の小型化により弾性材料が硬いもの
となり、したがって、押し圧を高めても対象物への形状
変化がしにくくなるという問題点を有していた。また、
のビームによるパターン形成方法においては、複雑な
立体面では他の面の影になってビームが当たらない所が
生じたり、一括でのパターン形成ができない。また、装
置が高価で、ランニングコストも高いという問題点を有
しており、更にの方法においては、分解したガスが成
膜中に入り込むため、成膜した金属の膜質は悪く、電気
的な接続には不適当であるばかりか、高速なイオンビー
ムが基板を叩くため、基板に損傷を与える等の問題点を
有していた。
【0004】本発明は、従来の技術が有するこのような
問題点に鑑みなされたもので、その目的とするところ
は、単純なプロセスで、しかも特別な装置を必要とせ
ず、コストが安価な加工プロセスで、小型にして、かつ
形状複雑な立体面に電極及びパターンを形成し得る方法
を提供することにある。
【0005】
【問題点を解決するための手段】この目的のため、本発
明は、小型にして、かつ形状の複雑な立体面を有する機
能材料に電極及びパターンを形成し、次いで、該電極及
びパターンで不要電極及びパターンへの導通を遮断し、
電着レジストとエッチングを用いることにより不要電極
及びパターンを除去して前記立体面への選択的電極及び
ハターンを形成する構成を特徴とするものである。
【0006】
【実施例】実施例について図面を参照し、その作用と共
に説明する。図1から図25は音叉型振動子の立体電極
の形成工程を示すもので、図中一部は全体を表わし、一
部は部分的図示に止めている。そこで、更に説明する
と、この形成工程は、 (イ)第一工程(図4):LiTaO3基板10に、ダ
イシングソーにより所定の等間隔で短棚状の切り込み部
11を形成して、立体電極を形成する振動子アーム部1
2、13を連続的にして、かつ規則的に形成する工程、 (ロ)第二工程(図5及び図6):基板10にスパッタ
リングによりNiCr、Pd等のメッキ下地用の導電膜
14を形成する工程、 (ハ)第三工程(図7及び図8):導電膜14の形成し
た基板全面に金メッキ処理によりAu15を付着させる
工程、 (ニ)第四工程(図9及び図10):液槽内の電着レジ
スト液16中に対向電極17、18を配置し、定電流電
源19を用いて基板10側を(+)とし、対向電極1
7、18側を(−)として、定電流源で約90秒間電着
を行って、基板金メッキ15上にポジタイプ電着レジス
ト20を電着する工程、 (ホ)第五工程(図11及び図12):電極パターンを
形成するため、予め電極部21、引き出し線部22及び
パッド部23を含む電極パターン24を作製した表裏の
ガラスマスク25、26を基板10の表面に当て、垂直
露光(表、裏)を行う工程、なお、表ガラスマスクの電
極パターンにおけるa部と裏ガラスマスク26の電極パ
ターンにおけるb部は側面につながるようにする。ま
た、垂直露光を行うときは、不要電極を切断するため、
露光時に基板10を縦方向に角度θ(約25度)だけ傾
けて表、裏の露光を行う。 (ヘ)第六工程(図13から図16):現像を行い、電
着レジスト20の電極パターン24を形成する工程、 (ト)第七工程(図17から図20):エッチングを行
って、表、裏の不要部を取り除き、電着レジスト20を
除去する工程、 (チ)第八工程(図21):基板10における各振動子
アーム部12の外側面cと内側面dに付着している不要
電極を除去するため、液槽内の電着レジスト液16中に
対向電極17、18を配置すると共に、一対の電極板2
7、28を基板10における各電極パターンのパッド部
23の両面に当て、定電流電源19を用いて一対の電極
板27、28、換言すれば基板10側を(+)とし、対
向電極17、18側を(−)としてパッド部23より給
電し、再度レジストを電着する工程、なお、このとき、
又部面eで不要電極を切断してあるため、必要部だけに
電着レジストが電着する。 (リ)第九工程(図22から図24):エッチングによ
り不要電極を除去し、その後、レジストを除去する工
程、 (ヌ)第十工程(図25):ダイシングソーにより基板
10を縦方向に切断する工程 からなり、これによって図1から図3に示されているよ
うに、振動検出の効率を上げるため、振動子アーム部1
2の外側面cと内側面dの電極を除去し、他側面と振動
子アーム部13の側面に電極及びパターン24を有する
音叉型振動子が得られる。
【0007】
【発明の効果】しかして、本発明によれば、小型でかつ
形状の複雑な立体面を有する機能材料に、容易に選択的
電極及びパターンを形成することができ、しかも特別な
装置を必要とせず、量産的にして安価に立体電極を形成
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明方法によって形成された立体電極を有す
る音叉型振動子の斜視図的説明図である。
【図2】図1のA矢視図である。
【図3】図1のB矢視図である。
【図4】一つの機能基板より音叉型形状素子を形成する
工程説明図である。
【図5】スパッタ工程の説明図である。
【図6】図5の平面的説明図である。
【図7】金メッキ工程の説明図である。
【図8】図7の平面的説明図である。
【図9】電着レジスト工程の説明図である。
【図10】図9における音叉型形状素子の平面的説明図
である。
【図11】露光工程の説明図である。
【図12】裏面側電極パターンの説明図である。
【図13】現像工程の平面的説明図である。
【図14】図13のC矢視図である。
【図15】図13のD矢視図である。
【図16】図13のE−E線に沿った断面図である。
【図17】エッチング工程の平面的説明図である。
【図18】図17のF矢視図である。
【図19】図17のG矢視図である。
【図20】図17のH−H線に沿った断面図である。
【図21】再度レジスト電着工程の説明図である。
【図22】図21のI矢視図である。
【図23】図21のJ矢視図である。
【図24】図23のK−K線に沿った断面図である。
【図25】切断工程の説明図である。
【符号の説明】
10 基板(機能材料) 14 導電膜 15 金メッキ 20 電着レジスト 21 電極部 22 引き出し線部 23 パッド部 24 電極パターン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 宏勝 神奈川県秦野市室町2番44号 東和エレク トロン株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 小型にして、かつ形状の複雑な立体面を
    有する機能材料に電極及びパターンを形成し、次いで、
    該電極及びパターンで不要電極及びパターンへの導通を
    遮断し、電着レジストとエッチングを用いることにより
    不要電極及びパターンを除去して前記立体面への選択的
    電極及びパターンを形成する構成を特徴とする立体電極
    の形成方法。
JP5339966A 1993-12-07 1993-12-07 立体電極の形成方法 Pending JPH07161243A (ja)

Priority Applications (1)

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JP5339966A JPH07161243A (ja) 1993-12-07 1993-12-07 立体電極の形成方法

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JP5339966A JPH07161243A (ja) 1993-12-07 1993-12-07 立体電極の形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07161243A true JPH07161243A (ja) 1995-06-23

Family

ID=18332458

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JP5339966A Pending JPH07161243A (ja) 1993-12-07 1993-12-07 立体電極の形成方法

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JP (1) JPH07161243A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005532689A (ja) * 2002-07-09 2005-10-27 スマート エレクトロニクス インク ヒューズ抵抗器及びその製造方法

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