JPH07150078A - 帯電防止プラスチックプレートの製造方法 - Google Patents
帯電防止プラスチックプレートの製造方法Info
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- JPH07150078A JPH07150078A JP5301894A JP30189493A JPH07150078A JP H07150078 A JPH07150078 A JP H07150078A JP 5301894 A JP5301894 A JP 5301894A JP 30189493 A JP30189493 A JP 30189493A JP H07150078 A JPH07150078 A JP H07150078A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 生産ラインを長くすることなく反り等変形が
生じ難い帯電防止プラスチックプレートの製造方法を提
供すること。 【構成】 酸化錫を主成分とする導電性粉末、分子内に
少なくとも2個以上のアクリロイル基若しくはメタクリ
ロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物、光重合
開始剤及び有機溶剤が含まれた紫外線硬化型導電性塗料
をプラスチックプレートの表面に塗布し、乾燥した後、
紫外線を照射して硬化塗膜を形成する帯電防止プラスチ
ックプレートの製造方法であって、上記紫外線硬化型導
電性塗料に対して300nm以下と400nm以上の波
長領域の光を有しない紫外線を照射した後、300nm
以上の波長領域の光を有しない紫外線を照射して硬化塗
膜を形成することを特徴とする。この方法においては余
分な光をカットして硬化塗膜を得ているため紫外線照射
時におけるプラスチックプレートの温度上昇を防止で
き、かつ、硬化速度の低下も僅かとなる。
生じ難い帯電防止プラスチックプレートの製造方法を提
供すること。 【構成】 酸化錫を主成分とする導電性粉末、分子内に
少なくとも2個以上のアクリロイル基若しくはメタクリ
ロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物、光重合
開始剤及び有機溶剤が含まれた紫外線硬化型導電性塗料
をプラスチックプレートの表面に塗布し、乾燥した後、
紫外線を照射して硬化塗膜を形成する帯電防止プラスチ
ックプレートの製造方法であって、上記紫外線硬化型導
電性塗料に対して300nm以下と400nm以上の波
長領域の光を有しない紫外線を照射した後、300nm
以上の波長領域の光を有しない紫外線を照射して硬化塗
膜を形成することを特徴とする。この方法においては余
分な光をカットして硬化塗膜を得ているため紫外線照射
時におけるプラスチックプレートの温度上昇を防止で
き、かつ、硬化速度の低下も僅かとなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は帯電防止プラスチックプ
レートの製造方法に係り、特に、反り等変形が生じ難い
帯電防止プラスチックプレートの製造方法に関するもの
である。
レートの製造方法に係り、特に、反り等変形が生じ難い
帯電防止プラスチックプレートの製造方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハー保存容器、電子、電気部
材、半導体の製造工場の床材、壁材等は、その用途によ
って帯電防止効果を有することが必要である。そのため
に、従来はこれ等部材をカーボン粉末や金属粉末入り塗
料でコーティングしたり、あるいはカーボン粉末、カー
ボン繊維、金属繊維等を樹脂に練り込んで形成する方法
等が採られている。
材、半導体の製造工場の床材、壁材等は、その用途によ
って帯電防止効果を有することが必要である。そのため
に、従来はこれ等部材をカーボン粉末や金属粉末入り塗
料でコーティングしたり、あるいはカーボン粉末、カー
ボン繊維、金属繊維等を樹脂に練り込んで形成する方法
等が採られている。
【0003】しかし、これ等の従来法では塗膜及び成型
品自体が着色しているために不透明であり、内容物を透
視することができず、透明性が必要な用途には使用する
ことができないという欠点がある。
品自体が着色しているために不透明であり、内容物を透
視することができず、透明性が必要な用途には使用する
ことができないという欠点がある。
【0004】このような問題を解決するため、特開昭5
7−85866号公報には、酸化錫を主成分とする導電
性微粉末を塗料バインダー中に含有させた塗料が開示さ
れている。この塗料は透明でかつ帯電防止機能を有する
塗膜を形成し得るが、塗料バインダーが熱可塑性樹脂に
て構成されているため、得られた塗膜は一般に耐擦傷性
・耐溶剤性を発現し得ない欠点があった。
7−85866号公報には、酸化錫を主成分とする導電
性微粉末を塗料バインダー中に含有させた塗料が開示さ
れている。この塗料は透明でかつ帯電防止機能を有する
塗膜を形成し得るが、塗料バインダーが熱可塑性樹脂に
て構成されているため、得られた塗膜は一般に耐擦傷性
・耐溶剤性を発現し得ない欠点があった。
【0005】一方、特開昭60−60166号公報に
は、上述した耐擦傷性・耐溶剤性を向上させるため、酸
化錫を主成分とする導電性微粉末を光硬化性塗料バイン
ダー中に含有させ紫外線又は可視光線等で硬化させる塗
料が提案されている。
は、上述した耐擦傷性・耐溶剤性を向上させるため、酸
化錫を主成分とする導電性微粉末を光硬化性塗料バイン
ダー中に含有させ紫外線又は可視光線等で硬化させる塗
料が提案されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、特開昭60
−60166号公報記載の塗料は、この塗料中に含まれ
る酸化錫を主成分とする導電性微粉末が紫外線を吸収す
る性質を有しているため塗膜の紫外線硬化速度が遅くな
る欠点があり、かつ、空気中で硬化させるために酸素阻
害を受けて上記硬化速度が更に低下する問題点を有して
いた。
−60166号公報記載の塗料は、この塗料中に含まれ
る酸化錫を主成分とする導電性微粉末が紫外線を吸収す
る性質を有しているため塗膜の紫外線硬化速度が遅くな
る欠点があり、かつ、空気中で硬化させるために酸素阻
害を受けて上記硬化速度が更に低下する問題点を有して
いた。
【0007】このため、多量の紫外線を照射する必要が
あるが、多量の紫外線を一度に照射すると発熱に伴うプ
ラスチックプレートの変形が問題となる。
あるが、多量の紫外線を一度に照射すると発熱に伴うプ
ラスチックプレートの変形が問題となる。
【0008】他方、紫外線照射ラインを長くして弱い紫
外線を徐々に照射する方法も考えられる。しかし、それ
を実現するためには生産ラインを長くする必要がありコ
スト面で不利となる問題を有していた。
外線を徐々に照射する方法も考えられる。しかし、それ
を実現するためには生産ラインを長くする必要がありコ
スト面で不利となる問題を有していた。
【0009】本発明はこのような問題点に着目してなさ
れたもので、その課題とするところは、生産ラインを長
くすることなく反り等変形が生じ難い帯電防止プラスチ
ックプレートの製造方法を提供することにある。
れたもので、その課題とするところは、生産ラインを長
くすることなく反り等変形が生じ難い帯電防止プラスチ
ックプレートの製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような技術的背景の
下、本発明者は上記問題を解決するため鋭意研究重ねた
ところ、被照射物に対し300nm以下と400nm以
上の波長領域の光を有しない紫外線を照射した場合には
被照射物の温度が若干上昇するのに対し、300nm以
上の波長領域の光を有しない紫外線を照射した場合には
被照射物の温度上昇が僅かであることを見出した。
下、本発明者は上記問題を解決するため鋭意研究重ねた
ところ、被照射物に対し300nm以下と400nm以
上の波長領域の光を有しない紫外線を照射した場合には
被照射物の温度が若干上昇するのに対し、300nm以
上の波長領域の光を有しない紫外線を照射した場合には
被照射物の温度上昇が僅かであることを見出した。
【0011】また、紫外線硬化型導電性塗料は、その塗
膜に対し紫外線を照射した時、硬化の初期は主に365
nm付近の紫外線で硬化が進むが、硬化が進むにつれて
200nm〜300nm付近の紫外線で硬化する割合が
増える性質を有していることを見出した。本発明はこれ
等発見に基づき完成されるに至ったものである。
膜に対し紫外線を照射した時、硬化の初期は主に365
nm付近の紫外線で硬化が進むが、硬化が進むにつれて
200nm〜300nm付近の紫外線で硬化する割合が
増える性質を有していることを見出した。本発明はこれ
等発見に基づき完成されるに至ったものである。
【0012】すなわち、請求項1に係る発明は、酸化錫
を主成分とする導電性粉末、分子内に少なくとも2個以
上のアクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有する
(メタ)アクリレート化合物、光重合開始剤及び有機溶
剤が含まれた紫外線硬化型導電性塗料をプラスチックプ
レートの表面に塗布し、乾燥した後、紫外線を照射して
硬化塗膜を形成する帯電防止プラスチックプレートの製
造方法を前提とし、上記紫外線硬化型導電性塗料に対し
て300nm以下と400nm以上の波長領域の光を有
しない紫外線を照射した後、300nm以上の波長領域
の光を有しない紫外線を照射して硬化塗膜を形成するこ
とを特徴とするものである。
を主成分とする導電性粉末、分子内に少なくとも2個以
上のアクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有する
(メタ)アクリレート化合物、光重合開始剤及び有機溶
剤が含まれた紫外線硬化型導電性塗料をプラスチックプ
レートの表面に塗布し、乾燥した後、紫外線を照射して
硬化塗膜を形成する帯電防止プラスチックプレートの製
造方法を前提とし、上記紫外線硬化型導電性塗料に対し
て300nm以下と400nm以上の波長領域の光を有
しない紫外線を照射した後、300nm以上の波長領域
の光を有しない紫外線を照射して硬化塗膜を形成するこ
とを特徴とするものである。
【0013】このような技術的手段において300nm
以下と400nm以上の波長領域の光を有しない紫外線
は、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライド
ランプ等の紫外線ランプの300nm以下と400nm
以上の波長領域の光をカットすることにより得られる。
また、300nm以上の波長領域の光を有しない紫外線
は、上記と同様のランプの300nm以上の波長領域の
光をカットすることにより得られる。
以下と400nm以上の波長領域の光を有しない紫外線
は、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライド
ランプ等の紫外線ランプの300nm以下と400nm
以上の波長領域の光をカットすることにより得られる。
また、300nm以上の波長領域の光を有しない紫外線
は、上記と同様のランプの300nm以上の波長領域の
光をカットすることにより得られる。
【0014】300nm以下と400nm以上の波長領
域の光を有しない紫外線を照射すると若干温度が上がる
が、300nm以上の波長領域の光を有しない紫外線は
照射してもほとんど被照射物の温度は上がらない。
域の光を有しない紫外線を照射すると若干温度が上がる
が、300nm以上の波長領域の光を有しない紫外線は
照射してもほとんど被照射物の温度は上がらない。
【0015】従って、300nm以下と400nm以上
の波長領域の光を有しない紫外線を温度が上がり過ぎな
い程度に照射した後、300nm以上の波長領域の光を
有しない紫外線を照射することにより、被照射物の温度
を上げないで紫外線硬化させることが可能となる。尚、
光をカットした場合、塗膜の硬化速度の低下が問題とな
ることが多いが、光を全くカットしない場合に較べてラ
イン速度は70%〜80%に低下するだけであり、ライ
ン速度的には影響が少ない。
の波長領域の光を有しない紫外線を温度が上がり過ぎな
い程度に照射した後、300nm以上の波長領域の光を
有しない紫外線を照射することにより、被照射物の温度
を上げないで紫外線硬化させることが可能となる。尚、
光をカットした場合、塗膜の硬化速度の低下が問題とな
ることが多いが、光を全くカットしない場合に較べてラ
イン速度は70%〜80%に低下するだけであり、ライ
ン速度的には影響が少ない。
【0016】また、この技術的手段においては、酸化錫
を主成分とする導電性粉末、分子内に少なくとも2個以
上のアクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有する
(メタ)アクリレート化合物、光重合開始剤及び有機溶
剤が含まれた紫外線硬化型導電性塗料を適用することを
前提としている。そして、2個以上のアクリロイル基若
しくはメタクリロイル基を有する(メタ)アクリレート
化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テ
トラプロピレンエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ノナプロピレンエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、トリス−
(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステル
(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−(アクリロ
キシジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔4−(メタクリロキシジエトキシ)フェニル〕プロパ
ン、3−フェノキシ−2−プロパノイルアクリレート、
1,6−ビス(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロ
ピル)−ヘキシルエーテル等が挙げられる。
を主成分とする導電性粉末、分子内に少なくとも2個以
上のアクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有する
(メタ)アクリレート化合物、光重合開始剤及び有機溶
剤が含まれた紫外線硬化型導電性塗料を適用することを
前提としている。そして、2個以上のアクリロイル基若
しくはメタクリロイル基を有する(メタ)アクリレート
化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テ
トラプロピレンエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ノナプロピレンエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、トリス−
(2−ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸エステル
(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−(アクリロ
キシジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔4−(メタクリロキシジエトキシ)フェニル〕プロパ
ン、3−フェノキシ−2−プロパノイルアクリレート、
1,6−ビス(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロ
ピル)−ヘキシルエーテル等が挙げられる。
【0017】一方、上記導電性粉末は酸化錫を主成分と
するものであり、アンチモンを0.1〜20重量%含有
する酸化錫が好適に使用される。また、その粒径が大き
くなると可視光線を散乱し、得られた塗膜の透明性が低
下するのでその粒径は0.4μm以下に限定される。
するものであり、アンチモンを0.1〜20重量%含有
する酸化錫が好適に使用される。また、その粒径が大き
くなると可視光線を散乱し、得られた塗膜の透明性が低
下するのでその粒径は0.4μm以下に限定される。
【0018】また、この技術的手段において適用される
光重合開始剤としては、例えば、ジフェニルモノサルフ
ァイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及び、ジ
サルファイド等のサルファイド類;チオキサントン、2
−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、
2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘
導体;ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のア
ゾ化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルア
ミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアント
ラキノン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアン
トラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノア
ントラキノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カ
ルボニル化合物;p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、
p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミ
ノ安息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプ
ロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステル;ベンゾ
インパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサ
イド等の過酸化物;9−フェニルアクリジン、9−p−
メトキシフェニルアクリジン、9−アセチルアミノアク
リジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体;9,
10−ジメチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフ
ェナジン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナ
ジン誘導体;6,4’,4”−トリメトキシ−2,3−
ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体;2,
4,5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロ
フルオレン、2、4、6−トリフェニルピリリウム四弗
化ホウ素塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)
−1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビス
クマリン、チオミヒラーケトン等が適用できる。
光重合開始剤としては、例えば、ジフェニルモノサルフ
ァイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド及び、ジ
サルファイド等のサルファイド類;チオキサントン、2
−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、
2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘
導体;ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニトリル等のア
ゾ化合物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルア
ミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアント
ラキノン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアン
トラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノア
ントラキノン、2−クロロアントラキノン等の芳香族カ
ルボニル化合物;p−ジメチルアミノ安息香酸メチル、
p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミ
ノ安息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イソプ
ロピル等のジアルキルアミノ安息香酸エステル;ベンゾ
インパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサ
イド等の過酸化物;9−フェニルアクリジン、9−p−
メトキシフェニルアクリジン、9−アセチルアミノアク
リジン、ベンズアクリジン等のアクリジン誘導体;9,
10−ジメチルベンズフェナジン、9−メチルベンズフ
ェナジン、10−メトキシベンズフェナジン等のフェナ
ジン誘導体;6,4’,4”−トリメトキシ−2,3−
ジフェニルキノキサリン等のキノキサリン誘導体;2,
4,5−トリフェニルイミダゾイル二量体、2−ニトロ
フルオレン、2、4、6−トリフェニルピリリウム四弗
化ホウ素塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)
−1,3,5−トリアジン、3,3’−カルボニルビス
クマリン、チオミヒラーケトン等が適用できる。
【0019】また、有機溶剤としては特に限定されない
が、沸点が低いもの若しくは揮発性の高いものは塗工中
の蒸発により塗料粘度が変化する問題があり、高沸点の
ものは乾燥工程に時間を要することになる。そのため、
沸点60〜160℃程度の溶剤が好ましく、また、導電
体との親和性のため酸素を含有するものを含むことが望
ましい。例えば、シクロヘキサノン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレン
グリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、
イソプロピルアセトン、メチルエチルケトン、アニソー
ル等が挙げられ、これ等は単一で使用してもよいし混合
して使用してもよい。
が、沸点が低いもの若しくは揮発性の高いものは塗工中
の蒸発により塗料粘度が変化する問題があり、高沸点の
ものは乾燥工程に時間を要することになる。そのため、
沸点60〜160℃程度の溶剤が好ましく、また、導電
体との親和性のため酸素を含有するものを含むことが望
ましい。例えば、シクロヘキサノン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)、エチレン
グリコールモノエチルエーテル(エチルセロソルブ)、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、
イソプロピルアセトン、メチルエチルケトン、アニソー
ル等が挙げられ、これ等は単一で使用してもよいし混合
して使用してもよい。
【0020】この他に、分散剤、界面活性剤、紫外線吸
収剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等の各種添加剤と加え
てもよい。
収剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤等の各種添加剤と加え
てもよい。
【0021】この技術的手段の塗料の調製は、上記酸化
錫を主成分とする導電性粉末、分子内に少なくとも2個
以上のアクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有す
る(メタ)アクリレート化合物、光重合開始剤及び有機
溶剤等について、微粉末を塗料中に十分分散させるため
に塗料の分散や配合に通常用いられる機器、例えば、サ
ンドミル、ボールミル、アトライター、高速回転攪拌装
置、三本ロール等を用いて行われる。
錫を主成分とする導電性粉末、分子内に少なくとも2個
以上のアクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有す
る(メタ)アクリレート化合物、光重合開始剤及び有機
溶剤等について、微粉末を塗料中に十分分散させるため
に塗料の分散や配合に通常用いられる機器、例えば、サ
ンドミル、ボールミル、アトライター、高速回転攪拌装
置、三本ロール等を用いて行われる。
【0022】このようにして調製された導電性塗料組成
物は、ロールコート法、スプレー法、バーコート法、ド
クターブレード法、ディッピング法等の一般的な塗布方
法により塗布され、また、塗布される対象物としては、
例えば、塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリ
レート、ABS樹脂等のプラスチック板が挙げられる。
物は、ロールコート法、スプレー法、バーコート法、ド
クターブレード法、ディッピング法等の一般的な塗布方
法により塗布され、また、塗布される対象物としては、
例えば、塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリ
レート、ABS樹脂等のプラスチック板が挙げられる。
【0023】
【作用】請求項1に係る発明によれば、プラスチックプ
レートの表面に塗布され、かつ、乾燥された紫外線硬化
型導電性塗料に対して300nm以下と400nm以上
の波長領域の光を有しない紫外線を照射した後、300
nm以上の波長領域の光を有しない紫外線を照射して硬
化塗膜を形成している。
レートの表面に塗布され、かつ、乾燥された紫外線硬化
型導電性塗料に対して300nm以下と400nm以上
の波長領域の光を有しない紫外線を照射した後、300
nm以上の波長領域の光を有しない紫外線を照射して硬
化塗膜を形成している。
【0024】そして、上記紫外線硬化型導電性塗料は、
その塗膜に紫外線を照射した時、硬化初期は主に365
nm付近の紫外線で硬化が進が、硬化が進むにつれて2
00nm〜300nm付近の紫外線で硬化する割合が増
える性質を有している。
その塗膜に紫外線を照射した時、硬化初期は主に365
nm付近の紫外線で硬化が進が、硬化が進むにつれて2
00nm〜300nm付近の紫外線で硬化する割合が増
える性質を有している。
【0025】従って、上記紫外線硬化型導電性塗料に対
し300nm以下と400nm以上の波長領域の光を有
しない紫外線を照射してから、300nm以上の波長領
域の光を有しない紫外線を照射しても硬化速度の低下は
僅かであり、また、余分な光をカットするためプラスチ
ックプレートの温度上昇を防止することが可能となる。
し300nm以下と400nm以上の波長領域の光を有
しない紫外線を照射してから、300nm以上の波長領
域の光を有しない紫外線を照射しても硬化速度の低下は
僅かであり、また、余分な光をカットするためプラスチ
ックプレートの温度上昇を防止することが可能となる。
【0026】
【実施例】以下、具体的実施例を挙げて、本発明をさら
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【0027】まず、以下の要領で紫外線硬化型導電性塗
料を調製した。
料を調製した。
【0028】(紫外線硬化型導電性塗料を調製)一次粒
径0.02μmの酸化アンチモン含有酸化錫粉末(三菱
マテリアル製、T−1)100重量部、残存水酸基34
mol%のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
40重量部、2,4−ジエチルチオキサントン1重量
部、ジメチルアミノアセトフェノン1重量部、エチルセ
ロソルブ250重量部、アセタール樹脂10重量部、及
び、ヒドロキノン0.1重量部をボールミルに仕込み、
10時間分散を行って紫外線硬化型導電性塗料を調製し
た。
径0.02μmの酸化アンチモン含有酸化錫粉末(三菱
マテリアル製、T−1)100重量部、残存水酸基34
mol%のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
40重量部、2,4−ジエチルチオキサントン1重量
部、ジメチルアミノアセトフェノン1重量部、エチルセ
ロソルブ250重量部、アセタール樹脂10重量部、及
び、ヒドロキノン0.1重量部をボールミルに仕込み、
10時間分散を行って紫外線硬化型導電性塗料を調製し
た。
【0029】[実施例1]厚みが3mmでその大きさが
1m×1mの透明アクリル板上に、ロールコーターを用
いて乾燥後の膜厚が1.5μmになるように上記紫外線
硬化型導電性塗料を塗布し、常温で30分間乾燥させた
後、50℃で10分間熱風乾燥させた。
1m×1mの透明アクリル板上に、ロールコーターを用
いて乾燥後の膜厚が1.5μmになるように上記紫外線
硬化型導電性塗料を塗布し、常温で30分間乾燥させた
後、50℃で10分間熱風乾燥させた。
【0030】次に、120W/cmの高圧水銀ランプを
用いて、まず、300nm以下と400nm以上の波長
領域の光をカットして高さ200mmから10秒間紫外
線を照射した。次に、300nm以上の波長領域の光を
有しない紫外線を同様に20秒間照射し塗膜を硬化させ
て帯電防止プラスチックプレートを得た。
用いて、まず、300nm以下と400nm以上の波長
領域の光をカットして高さ200mmから10秒間紫外
線を照射した。次に、300nm以上の波長領域の光を
有しない紫外線を同様に20秒間照射し塗膜を硬化させ
て帯電防止プラスチックプレートを得た。
【0031】そして、上記紫外線照射時におけるアクリ
ル板の最高温度と最大反りを測定すると共に、硬化後の
塗膜について鉛筆硬度を測定した。
ル板の最高温度と最大反りを測定すると共に、硬化後の
塗膜について鉛筆硬度を測定した。
【0032】これ等の結果を以下の表1に記載する。
【0033】[実施例2]300nm以下と400nm
以上の波長領域の光をカットして15秒間紫外線を照射
した点と、300nm以上の波長領域の光を有しない紫
外線を15秒間照射した点を除き実施例1と同様の条件
で帯電防止プラスチックプレートを得、かつ、紫外線照
射時におけるアクリル板の最高温度と最大反り、並び
に、硬化後の塗膜について鉛筆硬度を測定した。
以上の波長領域の光をカットして15秒間紫外線を照射
した点と、300nm以上の波長領域の光を有しない紫
外線を15秒間照射した点を除き実施例1と同様の条件
で帯電防止プラスチックプレートを得、かつ、紫外線照
射時におけるアクリル板の最高温度と最大反り、並び
に、硬化後の塗膜について鉛筆硬度を測定した。
【0034】これ等の結果を以下の表1に記載する。
【0035】[比較例1]カットフィルターを適用せず
に上記120W/cmの高圧水銀ランプにより30秒間
紫外線を照射した点を除き実施例1と同様の条件で帯電
防止プラスチックプレートを得、かつ、紫外線照射時に
おけるアクリル板の最高温度と最大反り、並びに、硬化
後の塗膜について鉛筆硬度を測定した。
に上記120W/cmの高圧水銀ランプにより30秒間
紫外線を照射した点を除き実施例1と同様の条件で帯電
防止プラスチックプレートを得、かつ、紫外線照射時に
おけるアクリル板の最高温度と最大反り、並びに、硬化
後の塗膜について鉛筆硬度を測定した。
【0036】これ等の結果を以下の表1に記載する。
【0037】[比較例2]上記120W/cmの高圧水
銀ランプにより300nm以下と400nm以上の波長
領域の光がカットされた紫外線を30秒間照射した点を
除き実施例1と同様の条件で帯電防止プラスチックプレ
ートを得、かつ、紫外線照射時におけるアクリル板の最
高温度と最大反り、並びに、硬化後の塗膜について鉛筆
硬度を測定した。
銀ランプにより300nm以下と400nm以上の波長
領域の光がカットされた紫外線を30秒間照射した点を
除き実施例1と同様の条件で帯電防止プラスチックプレ
ートを得、かつ、紫外線照射時におけるアクリル板の最
高温度と最大反り、並びに、硬化後の塗膜について鉛筆
硬度を測定した。
【0038】これ等の結果を以下の表1に記載する。
【0039】[比較例3]上記120W/cmの高圧水
銀ランプにより300nm以上の波長領域の光がカット
された紫外線を30秒間照射した点を除き実施例1と同
様の条件で帯電防止プラスチックプレートを得、かつ、
紫外線照射時におけるアクリル板の最高温度と最大反
り、並びに、硬化後の塗膜について鉛筆硬度を測定し
た。
銀ランプにより300nm以上の波長領域の光がカット
された紫外線を30秒間照射した点を除き実施例1と同
様の条件で帯電防止プラスチックプレートを得、かつ、
紫外線照射時におけるアクリル板の最高温度と最大反
り、並びに、硬化後の塗膜について鉛筆硬度を測定し
た。
【0040】これ等の結果を以下の表1に記載する。
【0041】
【表1】 『評価』実施例1〜2については、紫外線照射時におけ
る最高温度が60℃以下、また、これに伴いアクリル板
の最大反りも0mmであり、かつ、硬化後の塗膜硬度も
5Hであることから、本発明に係る製造方法を適用する
ことにより反り等の変形がなく耐擦傷性に優れた帯電防
止プラスチックプレートを簡便に得られることが確認で
きた。
る最高温度が60℃以下、また、これに伴いアクリル板
の最大反りも0mmであり、かつ、硬化後の塗膜硬度も
5Hであることから、本発明に係る製造方法を適用する
ことにより反り等の変形がなく耐擦傷性に優れた帯電防
止プラスチックプレートを簡便に得られることが確認で
きた。
【0042】これに対し、比較例1〜2については、紫
外線照射時における最高温度が75〜100℃と高くこ
れに起因してアクリル板の最大反りが10〜35mm程
度確認された。また、比較例3については、紫外線照射
時における最高温度が36℃と低く各実施例と同様にア
クリル板の最大反りが0mmであったが、硬化後の塗膜
硬度がH以下と低く耐擦傷性に劣ることも確認された。
外線照射時における最高温度が75〜100℃と高くこ
れに起因してアクリル板の最大反りが10〜35mm程
度確認された。また、比較例3については、紫外線照射
時における最高温度が36℃と低く各実施例と同様にア
クリル板の最大反りが0mmであったが、硬化後の塗膜
硬度がH以下と低く耐擦傷性に劣ることも確認された。
【0043】
【発明の効果】請求項1に係る発明によれば、プラスチ
ックプレートの表面に塗布されかつ乾燥された紫外線硬
化型導電性塗料に対して300nm以下と400nm以
上の波長領域の光を有しない紫外線を照射した後、30
0nm以上の波長領域の光を有しない紫外線を照射して
硬化塗膜を形成しているため、硬化速度の低下を僅かに
抑えながら上記プラスチックプレートの温度上昇を防止
することが可能となる。
ックプレートの表面に塗布されかつ乾燥された紫外線硬
化型導電性塗料に対して300nm以下と400nm以
上の波長領域の光を有しない紫外線を照射した後、30
0nm以上の波長領域の光を有しない紫外線を照射して
硬化塗膜を形成しているため、硬化速度の低下を僅かに
抑えながら上記プラスチックプレートの温度上昇を防止
することが可能となる。
【0044】従って、生産ラインを長くすることなく反
り等変形が生じ難い帯電防止プラスチックプレートを製
造できる効果を有している。
り等変形が生じ難い帯電防止プラスチックプレートを製
造できる効果を有している。
Claims (1)
- 【請求項1】酸化錫を主成分とする導電性粉末、分子内
に少なくとも2個以上のアクリロイル基若しくはメタク
リロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物、光重
合開始剤及び有機溶剤が含まれた紫外線硬化型導電性塗
料をプラスチックプレートの表面に塗布し、乾燥した
後、紫外線を照射して硬化塗膜を形成する帯電防止プラ
スチックプレートの製造方法において、 上記紫外線硬化型導電性塗料に対して300nm以下と
400nm以上の波長領域の光を有しない紫外線を照射
した後、300nm以上の波長領域の光を有しない紫外
線を照射して硬化塗膜を形成することを特徴とする帯電
防止プラスチックプレートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5301894A JPH07150078A (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | 帯電防止プラスチックプレートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5301894A JPH07150078A (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | 帯電防止プラスチックプレートの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07150078A true JPH07150078A (ja) | 1995-06-13 |
Family
ID=17902412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5301894A Pending JPH07150078A (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | 帯電防止プラスチックプレートの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07150078A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0795565A1 (en) * | 1995-09-29 | 1997-09-17 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Actinic radiation-curable and heat ray-shielding resin composition and film coated with the same |
-
1993
- 1993-12-01 JP JP5301894A patent/JPH07150078A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0795565A1 (en) * | 1995-09-29 | 1997-09-17 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Actinic radiation-curable and heat ray-shielding resin composition and film coated with the same |
EP0795565A4 (en) * | 1995-09-29 | 1998-12-23 | Nippon Kayaku Kk | RESIN COMPOSITION CURABLE BY ACTINIC RADIATION AND BARRIER TO THERMAL RADIATION, AND FILM COATED WITH THIS COMPOSITION |
US6107360A (en) * | 1995-09-29 | 2000-08-22 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Active radiation ray curable, solar radiation blocking resin compositions and films coated therewith |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040127 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |