JPH07149770A - シラシクロヘキサン化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 効率的にシラシクロヘキサンを製造すること
ができる製造方法を提供する。 【構成】 一般式 で表わされる５−ハロ−３−置換−１−ペンテン化合物
と、一般式 で表わされるシラン化合物とを、遷移金属触媒の存在
下、ハイドロシリレーション反応によって、一般式 で表わされる５−ハロ−３−置換ペンチルシラン化合物
を得る第１工程と、一般式（III）で表わされる化合物
と金属を反応させて、分子内でのケイ素−炭素結合生成
反応により、一般式 で表わされる４−置換シラシクロヘキサン化合物を得る
第２工程の２つの工程とからなることを特徴とする４−
置換シラシクロヘキサン化合物の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に用いる
液晶組成物に含有するシラシクロヘキサン化合物の製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】シラシクロヘキサン環を有するシラシク
ロヘキサン化合物は、液晶表示装置に用いる液晶組成物
の構成成分として有用である。シラシクロヘキサン環を
合成する方法としては、Ｗｅｓｔ（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．，７６，６０１２（１９５４））によっ
て行われた１，５−ジハロペンタンから誘導されるビス
グリニヤール試薬とケイ素上に脱離基を持つシランとの
反応が知られている。しかし、４位に置換基を持つシラ
シクロヘキサンの合成例は少ない。

【０００３】桜井らは、シラシクロヘキサン系での立体
化学の研究のために、４−ｔｅｒｔ−ブチルシラシクロ
ヘキサン化合物を合成し、各種誘導体に導いた（Ｂｕｌ
ｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，４９，３１８５（１
９７６））。これらの合成例では、求核置換を受けるケ
イ素原子上にアルキル基が存在して脱離基である塩素原
子が減少すると、環化した目的物の収率が著しく低下す
ることが報告されている。従って、シラシクロヘキサン
化合物を工業的規模で経済的に製造する方法としては適
当な方法とは言えず、効率的にシラシクロヘキサンを製
造する方法が望まれていた。

【０００４】そこで本発明は、効率的にシラシクロヘキ
サンを製造することができる新規な製造方法を提供する
ことを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記の目的を解決するた
め鋭意検討した結果、本発明者らは次の第１工程及び第
２工程の２工程により、４−置換シラシクロヘキサン化
合物を工業的規模で経済的に製造できることを見出し、
本発明を完成させるに至った。

【０００６】（１）第１工程 一般式

【化１４】 （式中において、Ｚ^１は水素原子、ハロゲン原子、シア
ノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
基、ジフルオロメトキシ基、Ｒ基又はＯＲ基（Ｒは炭素
数１〜１０のアルキル基、又はアルコキシアルキル
基）、Ｚ^２はフッ素原子、Ｋは０〜２の整数、Ｌ及びＭ
は０又は１、

【化１５】 は、

【化１６】

【化１７】

【化１８】

【化１９】

【化２０】 または

【化２１】 （Ｊは０〜２の整数を表わす。））で表わされる５−ハ
ロ−３−置換−１−ペンテン化合物と、一般式

【化２２】 （式中において、Ｘ^２及びＸ^３は、各々独立にハロゲン
原子又は炭素数１〜４のアルコキシ基、Ｙは水素原子、
炭素数１〜１０のアルキル基、アルコキシアルキル基、
Ｘ^２又はＸ^３を表わす。）で表わされるシラン化合物と
を、遷移金属触媒の存在下、ハイドロシリレーション反
応によって、一般式

【化２３】 （式中において、Ｚ^１は水素原子、ハロゲン原子、シア
ノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
基、ジフルオロメトキシ基、Ｒ基又はＲＯ基（Ｒは炭素
数１〜１０のアルキル基、又はアルコキシアルキル
基）、Ｚ^２はフッ素原子、Ｋは０〜２の整数、Ｌは０〜
２の整数、Ｍは０又は１、

【化２４】 は、前述と同じものを表わす。）で表わされる５−ハロ
−３−置換ペンチルシラン化合物を得る工程

【０００７】（２）第２工程 前記一般式（III）で表わされる化合物と金属を反応さ
せて、分子内でのケイ素−炭素結合形成反応により、一
般式

【化２５】 （式中において、Ｚ^１は水素原子、ハロゲン原子、シア
ノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
基、ジフルオロメトキシ基、Ｒ基又はＯＲ基（Ｒは炭素
数１〜１０のアルキル基、又はアルコキシアルキル
基）、Ｚ^２はフッ素原子、Ｋは０〜２の整数、Ｌ及びＭ
は０又は１、

【化２６】 は、前述と同じものを表わす。）で表わされる４−置換
シラシクロヘキサン化合物を得る工程

【０００８】本発明により製造されたシラシクロヘキサ
ン化合物類は、分子内にケイ素原子を持つ液晶化合物の
合成中間体として利用価値は非常に高い。

【０００９】次に本発明をさらに詳細に説明する。

【００１０】（１）第１工程 一般式（Ｉ）で表わされる５−ハロ−３−置換−１−ペ
ンテン化合物

【化２７】 は、Ｌ＝０、Ｍ＝０のとき、

【化２８】 となる。

【００１１】このとき、Ｚ¹はＲ又はＯＲであるのが好
ましい。

【００１２】Ｒとしては、以下の（ａ）〜（ｃ）が好ま
しい。 （ａ）Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖状のアルキル基、即ち、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基 （ｂ）Ｃ３〜Ｃ８の分枝状のアルキル基、即ち、イソプ
ロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−メチ
ルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、１−メチ
ルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基 （ｃ）アルコキシアルキル基、即ち、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシ
メチル基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、エ
トキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル
基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポ
キシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチル
基、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基

【００１３】またＸ¹はＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。

【００１４】特に好ましくは、Ｒとしては、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、ｎ−ヘプチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル
基、イソブチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブ
チル基、３−メチルブチル基、１−メチルペンチル基、
２−メチルペンチル基、２−エチルヘキシル基＜メトキ
シメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、
メトキシペンチル基、エトキシメチル基、エトキシエチ
ル基、プロポキシメチル基、ペントキシメチル基が好ま
しく、Ｘ^１はＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。

【００１５】Ｌ＝１，Ｍ＝０のとき、前記一般式（Ｉ）
で表わされる５−ハロ−３−置換−１−ペンテン化合物
は、

【化２９】 となる。

【００１６】Ｚ¹はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＣＦ₃、ＯＣＨＦ
₂、ＣＦ₃、ＣＮ、Ｒ又はＯＲが好ましい。

【００１７】Ｒとしては以下の（ａ）〜（ｃ）が好まし
い。 （ａ）Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖状のアルキル基、即ち、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基 （ｂ）Ｃ３〜Ｃ８の分枝状のアルキル基、即ち、イソプ
ロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−メチ
ルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、１−メチ
ルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基 （ｃ）アルコキシアルキル基、即ち、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシ
メチル基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、エ
トキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル
基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポ
キシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチル
基、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基

【００１８】Ｚ²はＦ又はＣＮが好ましい。Ｋは０〜２
が好ましい。Ｘ¹はＣｌ、Ｂｒ又はｌが好ましい。

【００１９】前記一般式（VI）で表わされる５−ハロ−
３−置換−１−ペンテン化合物として、具体的には以下
の〔化３０〕〜〔化４６〕が好ましい。

【化３０】

【化３１】

【化３２】

【化３３】

【化３４】

【化３５】

【化３６】

【化３７】

【化３８】

【化３９】

【化４０】

【化４１】

【化４２】

【化４３】

【化４４】

【化４５】

【化４６】

【００２０】前記一般式（VI）で表わされる５−ハロ−
３−置換−１−ペンテン化合物として、特に〔化３
０〕、〔化３１〕、〔化３３〕〜〔化３７〕、〔化３
９〕〜〔化４１〕、〔化４３〕、〔化４５〕及び〔化４
６〕が実用上好ましい。

【００２１】Ｒとしては、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル
基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メ
チルブチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペン
チル基、２−エチルヘキシル基、メトキシメチル基、メ
トキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシペンチ
ル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、プロポキ
シメチル基、ペントキシメチル基が実用上望ましい。

【００２２】Ｌ＝０，Ｍ＝１のとき、前記一般式（Ｉ）
で表わされる５−ハロ−３−置換−１−ペンテン化合物
は、

【化４７】

【化４８】

【化４９】

【化５０】

【化５１】 または

【化５２】 となる。上記のうち特に好ましいのは、〔化４７〕、
〔化４９〕及び〔化５２〕である。

【００２３】〔化４７〕及び〔化４９〕においては、Ｚ
¹はＲが好ましい。Ｒとしては、以下の（ａ）〜（ｃ）
が好ましい。 （ａ）Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖状のアルキル基、即ち、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基 （ｂ）Ｃ３〜Ｃ８の分枝状のアルキル基、即ち、イソプ
ロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−メチ
ルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、１−メチ
ルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基 （ｃ）アルコキシアルキル基、即ち、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、プロポキシルメチル基、ブトキ
シメチル基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、
エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチ
ル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロ
ポキシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチル
基、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基 Ｘ¹はＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。

【００２４】〔化５２〕においては、Ｚ¹はＦ、Ｃｌ、
Ｂｒ、ＯＣＦ₃、ＯＣＨＦ₂、ＣＦ₃、ＣＮ、Ｒ又はＯＲ
が好ましい。Ｒとしては、以下の（ａ）〜（ｃ）が好ま
しい。 （ａ）Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖状のアルキル基、即ち、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、 （ｂ）Ｃ３〜Ｃ８の分枝状のアルキル基、即ち、イソプ
ロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−メチ
ルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、１−メチ
ルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基 （ｃ）アルコキシアルキル基、即ち、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシ
メチル基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、エ
トキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル
基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポ
キシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチル
基、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基 Ｚ²はフッ素原子が好ましい。Ｊ及びＫは０〜２である
のが好ましい。Ｘ¹はＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。

【００２５】〔化５２〕として、特に以下の〔化５３〕
〜〔化６９〕が好ましい。

【化５３】

【化５４】

【化５５】

【化５６】

【化５７】

【化５８】

【化５９】

【化６０】

【化６１】

【化６２】

【化６３】

【化６４】

【化６５】

【化６６】

【化６７】

【化６８】

【化６９】

【００２６】Ｒとしては、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル
基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メ
チルブチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペン
チル基、２−エチルヘキシル基、メトキシメチル基、メ
トキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシペンチ
ル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、プロポキ
シメチル基、ペントキシメチル基が実用上特に好まし
い。Ｘ¹はＣ、Ｂｒ又はＩが好ましい。

【００２７】Ｌ＝１，Ｍ＝１のとき、前記一般式（Ｉ）
で表わされる５−ハロ−３−置換−１−ペンテン化合物
は、以下の〔化７０〕〜〔化７５〕となる。

【化７０】

【化７１】

【化７２】

【化７３】

【化７４】 または

【化７５】

【００２８】Ｚ¹は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＣＦ₃、ＯＣＨ
Ｆ₂、ＣＦ₃、ＣＮ、Ｒ又はＯＲが好ましい。Ｒとして
は、以下の（ａ）〜（ｃ）が好ましい。 （ａ）Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖状のアルキル基、即ち、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、 （ｂ）Ｃ３〜Ｃ８の分枝状のアルキル基、即ち、イソプ
ロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−メチ
ルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、１−メチ
ルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基 （ｃ）アルコキシアルキル基、即ち、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシ
メチル基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、エ
トキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル
基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポ
キシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチル
基、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基 Ｚ²はフッ素原子が好ましい。Ｊ及びＫは０〜２が好ま
しい。Ｘ¹はＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。

【００２９】〔化７０〕として特に好ましくは、以下の
〔化７６〕〜〔化９２〕である。

【化７６】

【化７７】

【化７８】

【化７９】

【化８０】

【化８１】

【化８２】

【化８３】

【化８４】

【化８５】

【化８６】

【化８７】

【化８８】

【化８９】

【化９０】

【化９１】

【化９２】

【００３０】〔化７１〕として特に好ましくは、以下の
〔化９３〕〜〔化１０９〕である。

【化９３】

【化９４】

【化９５】

【化９６】

【化９７】

【化９８】

【化９９】

【化１００】

【化１０１】

【化１０２】

【化１０３】

【化１０４】

【化１０５】

【化１０６】

【化１０７】

【化１０８】

【化１０９】

【００３１】〔化７２〕として特に好ましくは、以下の
〔化１１０〕〜〔化１２６〕である。

【化１１０】

【化１１１】

【化１１２】

【化１１３】

【化１１４】

【化１１５】

【化１１６】

【化１１７】

【化１１８】

【化１１９】

【化１２０】

【化１２１】

【化１２２】

【化１２３】

【化１２４】

【化１２５】

【化１２６】

【００３２】〔化７３〕として特に好ましくは、以下の
〔化１２７〕〜〔化１５７〕である。

【化１２７】

【化１２８】

【化１２９】

【化１３０】

【化１３１】

【化１３２】

【化１３３】

【化１３４】

【化１３５】

【化１３６】

【化１３７】

【化１３８】

【化１３９】

【化１４０】

【化１４１】

【化１４２】

【化１４３】

【化１４４】

【化１４５】

【化１４６】

【化１４７】

【化１４８】

【化１４９】

【化１５０】

【化１５１】

【化１５２】

【化１５３】

【化１５４】

【化１５５】

【化１５６】

【化１５７】

【００３３】〔化７４〕として特に好ましくは、以下の
〔化１５８〕〜〔化１７４〕である。

【化１５８】

【化１５９】

【化１６０】

【化１６１】

【化１６２】

【化１６３】

【化１６４】

【化１６５】

【化１６６】

【化１６７】

【化１６８】

【化１６９】

【化１７０】

【化１７１】

【化１７２】

【化１７３】

【化１７４】

【００３４】〔化７５〕として特に好ましくは、以下の
〔化１７５〕〜〔化２０５〕である。

【化１７５】

【化１７６】

【化１７７】

【化１７８】

【化１７９】

【化１８０】

【化１８１】

【化１８２】

【化１８３】

【化１８４】

【化１８５】

【化１８６】

【化１８７】

【化１８８】

【化１８９】

【化１９０】

【化１９１】

【化１９２】

【化１９３】

【化１９４】

【化１９５】

【化１９６】

【化１９７】

【化１９８】

【化１９９】

【化２００】

【化２０１】

【化２０２】

【化２０３】

【化２０４】

【化２０５】

【００３５】Ｒとしては、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル
基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メ
チルブチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペン
チル基、２−エチルヘキシル基、メトキシメチル基、メ
トキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシペンチ
ル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、プロポキ
シメチル基、ペントキシメチル基が実用上特に好まし
い。Ｘ^１はＣ、Ｂｒ又はＩが好ましい。

【００３６】シランとしては

【化２０６】 （式中において、Ｘ²及びＸ³は各々独立に、ハロゲン原
子又は炭素数１〜４のアルコキシ基、Ｙは水素原子、炭
素数１〜１０のアルキル基、アルコキシアルキル基、Ｘ
²又はＸ³を表わす。）が挙げられる。

【００３７】Ｘ²及びＸ³として、メトキシ基、エトキシ
基、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。Ｙ
は以下の（ａ）〜（ｃ）が好ましい。 （ａ）Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖状のアルキル基、即ち、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基 （ｂ）Ｃ３〜Ｃ８の分枝状のアルキル基、即ち、イソプ
ロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−メチ
ルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、１−メチ
ルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３
−メチルヘプチル基 （ｃ）アルコキシアルキル基、即ち、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシ
メチル基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、エ
トキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル
基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポ
キシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチル
基、メトキシペンチル基、エトキシペンチル基

【００３８】アルコキシ基としてメトキシ基又はエトキ
シ基が好ましく、ハロゲン原子としてフッ素原子、塩素
原子又は臭素原子が好ましい。

【００３９】さらに上記のうち、ｎ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチ
ル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−
メチルブチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペ
ンチル基、２−エチルヘキシル基、メトキシメチル基、
メトキシエチル基、メトキシプロピル基、メトキシペン
チル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基、プロポ
キシメチル基、ペントキシメチル基、メトキシ基、エト
キシ基、フッ素原子、塩素原子が実用上特に好ましい。

【００４０】ハイドロシリレーション用遷移金属触媒と
して、白金、パラジウム、ロジウム及びルテニウムの化
合物がよい。例えば、塩化白金酸、塩化ルテニウム、硝
酸パラジウム、塩化ロジウムカルボニル、塩化トリス
（トリフェニルホスフィン）ロジウム等が挙げられる。
好ましくは白金化合物であり、より好ましくは塩化白金
酸である。

【００４１】使用される触媒の量としては１０ｐｐｍ〜
１．２ｗｔ％、好ましくは５０〜１００ｐｐｍである。
ハイドロシリレーション反応は、大抵の場合溶媒を使用
しなくてもよいが、反応原料の種類により使用する場合
もある。このとき、溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系の溶媒が好ましい。反応温
度として０℃〜２００℃が好ましく、特に２０℃〜１２
０℃が好ましい。反応圧力は使用するシランの蒸気圧に
より変わるが、０〜１ＭＰａ（ゲージ圧）が好ましく、
特に０〜０．５ＭＰａ（ゲージ圧）が好ましい。このと
き、常圧ならば反応装置として開放系の装置でもよい
が、加圧条件下であればオートクレーブ等の密閉系の装
置を使用してもよい。

【００４２】（２）第２工程 環化反応は、次の反応式に示されているように進行す
る。

【化２０７】

【００４３】金属とハロゲン化アルキルが反応して有機
金属化合物を生成する。すると、直ちに分子内のケイ素
原子を求核攻撃してＸ³が脱離し、ケイ素−炭素結合が
形成される。

【００４４】この反応に使用される金属として、リチウ
ム、マグネシウム、ナトリウム、カリウム、亜鉛及び銅
−亜鉛合金が好ましい。特にマグネシウム、亜鉛及び銅
−亜鉛合金が好ましい。

【００４５】反応に使用される溶媒として、ジエチルエ
ーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジメトシキエタン等のエーテル類やｎ−ヘキサン、
ｎ−ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン
等の炭化水素類を単独あるいは混合して用いることがで
きる。

【００４６】反応の開始や促進のために、加熱下で反応
を行ったり超音波を与えたりすることも有効である。反
応温度は０℃〜１５０℃程度の範囲が好ましいが、反応
速度や収率を考慮すると５０℃〜１２０℃の範囲がより
好ましい。

【００４７】得られたシラシクロヘキサン化合物は、反
応混合物から反応溶媒を蒸留等の方法で除去した後、反
応で生じた金属塩をろ別することで得られる。さらに目
的物の純度を高めたい場合には、減圧蒸留や再結晶等の
方法で精製することができる。

【００４８】

【実施例】以下に実施例を示すが、本発明はこの実施例
の記載に限定されるものではない。

【００４９】「実施例１」４−（４−フルオロフェニ
ル）−１−クロロ−１−シラシクロヘキサンの合成５−
クロロ−３−（４−フルオロフェニル）−１−ペンテン
１９．９ｇ（１００ｍｍｏｌ）、ジクロロシラン１２．
１ｇ（１２０ｍｍｏｌ）及び触媒量の塩化白金酸の混合
物をオートクレーブ中で反応させて、５−クロロ−３−
（４−フルオロフェニル）ペンチルジクロロシラン２
７．８ｇ（収率８７％）を得た。続いて、得られた５−
クロロ−３−（４−フルオロフェニル）ペンチルジクロ
ロシラン１５．０ｇ（５０ｍｍｏｌ）とマグネシウム
１．５ｇ（６２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５０ｍ
ｌ中で、環流下、８時間反応させた。得られた反応混合
物から反応溶媒を減圧下で除去した後、ｎ−ヘキサンを
加え、生じた沈殿をろ別した。ろ液を濃縮し、減圧蒸留
により目的物９．１ｇ（収率８０％）を得た。分析結果
は以下の通りであった。 ＩＲ（ＣＣｌ₄溶液） ２９２５，２８６５，２１７
５，１６１０，１４１０，１２３５，９９０，８８５ｃ
ｍ^-1 ＧＣ−ＭＳ（ＥＩ） １７２，２００｛（Ｍ−Ｃ２Ｈ
４）⁺｝，２２８（Ｍ⁺）

【００５０】実施例１と同様の手順で実施例２〜２７の
シラシクロヘキサン化合物を合成した。

【００５１】「実施例２」原料オレフィン：

【化２０８】 シラン： ＨＳｉ（ＯＣＨ₃）₃ 金属： Ｌｉ 生成物：

【化２０９】 収率： ８５％

【００５２】「実施例３」原料オレフィン：

【化２１０】 シラン： ＨＳｉ（ＯＣＨ₃）₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２１１】 収率： ９０％

【００５３】「実施例４」原料オレフィン：

【化２１２】 シラン： ＨＳｉＣｌ₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２１３】 収率： ８０％

【００５４】「実施例５」原料オレフィン：

【化２１４】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２１５】 収率： ８７％

【００５５】「実施例６」原料オレフィン：

【化２１６】 シラン： ＨＳｉ（ＯＣＨ₃）₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２１７】 収率： ９１％

【００５６】「実施例７」原料オレフィン：

【化２１８】 シラン： Ｃ₅Ｈ₁₁ＳｉＨＣｌ₂ 金属： Ｚｎ 生成物：

【化２１９】 収率： ７０％

【００５７】「実施例８」原料オレフィン：

【化２２０】 シラン： ＳｉＨ（ＯＣＨ₃）₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２２１】 収率： ８０％

【００５８】「実施例９」原料オレフィン：

【化２２２】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２２３】 収率： ８１％

【００５９】「実施例１０」原料オレフィン：

【化２２４】 シラン： Ｃ₃Ｈ₇ＳｉＨＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２２５】 収率： ６８％

【００６０】「実施例１１」原料オレフィン：

【化２２６】 シラン： ＨＳｉ（ＯＣＨ₃）₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２２７】 収率： ７５％

【００６１】「実施例１２」原料オレフィン：

【化２２８】 シラン： Ｈ ＳｉＣｌ₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２２９】 収率： ７８％

【００６２】「実施例１３」原料オレフィン：

【化２３０】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２３１】 収率： ８２％

【００６３】「実施例１４」原料オレフィン：

【化２３２】 シラン： Ｃ₃Ｈ₇ＳｉＨ（ＯＣＨ₃）₂ 金属： Ｚｎ−Ｃｕ 生成物：

【化２３３】 収率： ６０％

【００６４】「実施例１５」原料オレフィン：

【化２３４】 シラン： Ｈ Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２３５】 収率： ８１％

【００６５】「実施例１６」原料オレフィン：

【化２３６】 シラン： Ｈ ＳｉＣｌ₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２３７】 収率： ７７％

【００６６】「実施例１７」原料オレフィン：

【化２３８】 シラン： Ｈ ＳｉＦ₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２３９】 収率： ６０％

【００６７】「実施例１８」原料オレフィン：

【化２４０】 シラン： （ＣＨ₃）₂ＣＨＣＨ₂ＳｉＨＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２４１】 収率： ５８％

【００６８】「実施例１９」原料オレフィン：

【化２４２】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２４３】 収率： ７４％

【００６９】「実施例２０」原料オレフィン：

【化２４４】 シラン： Ｈ Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２４５】 収率： ７７％

【００７０】「実施例２１」原料オレフィン：

【化２４６】 シラン： ＣＨ₃ＯＣ₃Ｈ₆ＳｉＨ（ＯＣＨ₃）₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２４７】 収率： ５１％

【００７１】「実施例２２」原料オレフィン：

【化２４８】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２４９】 収率： ７４％

【００７２】「実施例２３」原料オレフィン：

【化２５０】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２５１】 収率： ８１％

【００７３】「実施例２４」原料オレフィン：

【化２５２】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２５３】 収率： ６８％

【００７４】「実施例２５」原料オレフィン：

【化２５４】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２５５】 収率： ６５％

【００７５】「実施例２６」原料オレフィン：

【化２５６】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２５７】 収率： ６９％

【００７６】「実施例２７」原料オレフィン：

【化２５８】 シラン： Ｈ₂ＳｉＣｌ₂ 金属： Ｍｇ 生成物：

【化２５９】 収率： ７１％

【００７７】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、シ
ラシクロヘキサン化合物を工業的規模で効率的且つ経済
的に製造することができる。

フロントページの続き (72)発明者 金生 剛 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の １ 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 石原 俊信 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の １ 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 以下の第１工程及び第２工程の２つの工
   程とからなることを特徴とする４−置換シラシクロヘキ
   サン化合物の製造方法。 （１）第１工程 一般式 【化１】 （式中において、Ｚ¹は水素原子、ハロゲン原子、シア
   ノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
   基、ジフルオロメトキシ基、Ｒ基又はＯＲ基（Ｒは炭素
   数１〜１０のアルキル基、又はアルコキシアルキル
   基）、Ｚ²はフッ素原子、Ｋは０〜２の整数、Ｌ及びＭ
   は０又は１、 【化２】 は、 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 【化７】 または 【化８】 （Ｊは０〜２の整数を表わす。））で表わされる５−ハ
   ロ−３−置換−１−ペンテン化合物と、一般式 【化９】 （式中において、Ｘ²及びＸ³は、各々独立にハロゲン原
   子又は炭素数１〜４のアルコキシ基、Ｙは水素原子、炭
   素数１〜１０のアルキル基、アルコキシアルキル基、Ｘ
   ²又はＸ³を表わす。）で表わされるシラン化合物とを、
   遷移金属触媒の存在下、ハイドロシリレーション反応に
   よって、一般式 【化１０】 （式中において、Ｚ¹は水素原子、ハロゲン原子、シア
   ノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
   基、ジフルオロメトキシ基、Ｒ基又はＯＲ基（Ｒは炭素
   数１〜１０のアルキル基、又はアルコキシアルキル
   基）、Ｚ²はフッ素原子、Ｋは０〜２の整数、Ｌは０〜
   ２の整数、Ｍは０又は１、 【化１１】 は、前述と同じものを表わす。）で表わされる５−ハロ
   −３−置換ペンチルシラン化合物を得る工程 （２）第２工程 前記一般式（III）で表わされる化合物と金属を反応さ
   せて、分子内でのケイ素−炭素結合生成反応により、一
   般式 【化１２】 （式中において、Ｚ¹は水素原子、ハロゲン原子、シア
   ノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
   基、ジフルオロメトキシ基、Ｒ基又はＯＲ基（Ｒは炭素
   数１〜１０のアルキル基、又はアルコキシアルキル
   基）、Ｚ²はフッ素原子、Ｋは０〜２の整数、Ｌ及びＭ
   は０又は１、 【化１３】 は、前述と同じものを表わす。）で表わされる４−置換
   シラシクロヘキサン化合物を得る工程