JPH07148569A

JPH07148569A - はんだ付け装置

Info

Publication number: JPH07148569A
Application number: JP29998593A
Authority: JP
Inventors: Motomasa Udagawa; 元正宇田川
Original assignee: Nihon Den Netsu Keiki Co Ltd
Current assignee: Nihon Den Netsu Keiki Co Ltd
Priority date: 1993-11-30
Filing date: 1993-11-30
Publication date: 1995-06-13
Anticipated expiration: 2016-04-23
Also published as: JP3157970B2

Abstract

(57)【要約】【目的】はんだ融液の液面に発生した酸化物等の固形
物の収集，除去およびはんだ融液の液位と噴流波の高さ
の安定化を図るはんだ付け装置を得る。【構成】はんだ槽本体３内のはんだ融液４を加圧装置
８で加圧して噴流する噴流槽５が設けられ、噴流槽５に
噴流した噴流波７を還流せしめる還流口１１が形成され
たはんだ付け装置において、はんだ槽本体３内のはんだ
融液４が溢流口３４から流入して一時に貯溜される流入
槽３２が設けられ、流入槽３２内のはんだ融液４を流入
槽３２から加圧装置８の入力側へ還流せしめる還流路３
５を設け、はんだ槽本体３内のはんだ融液４の減少を流
入層３２から補充する構成としたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、はんだ融液の噴流波の
安定と、はんだ融液内の酸化物の除去とを一挙になし得
るはんだ付け装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図１５，図１６は従来のはんだ付け装置
の一例を示すもので、図１５は側断面図、図１６は図１
５のＩ−Ｉ線による断面図である。これらの図におい
て、１は配線基板で、図示しない搬送チェーンの保持爪
に保持して搬送される。２ははんだ付け装置の全体を示
す。３ははんだ槽本体、４ははんだ融液、５は前記はん
だ槽本体３内に設置された噴流槽、６は前記噴流槽５の
噴流口で、図１５では破線によりその位置を示す。７は
噴流波、８は加圧装置で、はんだ融液４を加圧して噴流
口６から噴流波７を噴流する。加圧装置８は羽根車９と
駆動軸１０および図示しない駆動用のモータにより構成
される。

【０００３】１１は、前記羽根車９の下方で噴流槽５に
形成された還流口で、はんだ槽本体３内のはんだ融液４
を吸引して噴流槽５内に還流させる。１２は前記はんだ
融液４の液面に発生した酸化物や熱変化したフラックス
等により固体化した固形物である。

【０００４】なお、はんだ融液４を加熱するヒータは図
示を省略してある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところではんだ融液４
は空気と接触し酸化し不要な固形物１２となり、はんだ
融液４の表面に漂ったり、羽根車９によって噴流槽５内
に吸い込まれてから噴流波７とともに噴流したりする。

【０００６】また、はんだ融液４の噴流波７と配線基板
１とを接触させてはんだ付けを行うが、その際に、配線
基板１に塗布されていたフラックスの一部がはんだ融液
４の液面上に離脱し、はんだ融液４によって熱的変化を
生じて固形物１２となり、はんだ融液４の表面に漂うよ
うになる。もちろん、このような固形物１２も羽根車９
の回転によりはんだ融液４内に吸い込まれてから噴流波
７とともに噴流し配線基板１に付着して、配線基板１の
はんだ付けを阻害したり、はんだ付けの信頼性や品質を
低下させる原因となる等の問題点があった。

【０００７】また、加圧装置８ではんだ融液４を噴流さ
せて噴流波７を形成するはんだ付け装置２においては、
羽根車９の回転数が一定であったとしても、はんだ融液
４の深さＨ₁₁で決まるはんだ融液４の圧力に影響され
て、噴流口６から噴流する噴流波７の高さＨ₁₃が変化す
る。しかし、噴流波７の高さＨ₁₃の変化は配線基板１と
の接触条件を変え、はんだ付け性に直接的に影響を与え
るので好ましくない。また、はんだ融液４の深さＨ
₁₁は、はんだ付け作業に伴うはんだ融液４の消費，減少
によって低下する等の問題があった。

【０００８】なお、Ｈ₁₂ははんだ融液４の液面から噴流
口６までの高さを示す。

【０００９】さらに、図１５，図１６のはんだ付け装置
２には、はんだ融液４の深さＨ₁₁あるいははんだ融液４
の液位の変化を図示しないセンサを設けて検出し、深さ
Ｈ₁₁が低下した場合に自動的にはんだを供給し、深さＨ
₁₁を一定に保つ検出装置を設けたものがある。すなわ
ち、この検出装置によって噴流波７の高さＨ₁₃の安定化
を図ったはんだ付け装置である。なお、はんだ融液４の
深さＨ₁₁を検出するセンサとしては、フロート型セン
サ、電極の設置高さにより前記電極とはんだ融液４との
接触の有無で検出する接触型センサの他に、光学型セン
サ，超音波型センサ，静電容量型センサ等がある。

【００１０】このように、はんだ融液４の深さＨ₁₁を一
定に保つ装置をはんだ付け装置２に付設した場合には、
はんだ付け装置２が大型化しやすいとともに装置コスト
を押し上げる問題点があった。

【００１１】上記のような問題点を解消するために、例
えば実公昭５３−５０７３７号公報に示すはんだ付け装
置が使用されていた。これを図１７，図１８により説明
する。

【００１２】図１７は斜視図、図１８は図１７のII−II
線による縦断面図である。これらの図において、１３は
はんだ槽で、このはんだ槽１３の中段部に仕切り板１４
を水平方向に設けるとともに、はんだ槽１３の上部に、
上記仕切板１４との間に流通間隙１５をおいて仕切壁１
６を設け、この仕切壁１６の上部に複数個の流通凹部１
７を形成し、これにより上記仕切板１４の下方に位置し
てはんだ槽１３の下部に下室１８を形成するとともに、
はんだ槽１３の上部に、上記仕切壁１６の一側方に位置
してノズル室１９を、仕切壁１６の他側方に位置してオ
ーバーフロー室２０をそれぞれ形成する。

【００１３】そして、上記オーバーフロー室２０の下部
の仕切板１４に開口部２１を設け、この開口部２１に臨
ませて回転翼２２を軸２３で軸架し、この軸２３は上記
はんだ槽１３外の一側部に設けたモータ（図示せず）に
連結されている。

【００１４】さらに、上記ノズル室１９の下部の仕切板
１４に開口部２４を設け、この開口部２４上に、上端に
噴流口２５を有するノズル体２６を取付ける。２７は溶
融はんだ、２８は酸化防止液で、図１８においては破線
で示してある。

【００１５】また、上記はんだ槽１３におけるオーバー
フロー室２０の一側壁上部に溢流口２９を凹設し、この
溢流口２９の外方下部に位置して上記はんだ槽１３の外
側に桶状の酸化防止液受体３０を取付けたものである。

【００１６】次に、動作について説明する。はんだ付け
作業に際し、はんだ槽１３内に溶融はんだ２７をノズル
体２６の噴流口２５の少し下方まで収納し、ヒータ（図
示しない）で加熱しつつモータによって回転翼２２を回
転する。これにより溶融はんだ２７は下室１８から開口
部２１を経てノズル体２６内に入り、噴流口２５から噴
流され、噴流された溶融はんだ２７はノズル室１９内に
入り、仕切壁１６の下部に設けられた流通間隙１５から
オーバーフロー室２０内に入り、開口部２１を通って循
環する。

【００１７】これとともに、酸化防止液２８がノズル室
１９の一側方部において溶融はんだ２７面に点滴され、
溶融はんだ２７の表面に膜状となって拡散浮遊する。そ
して、酸化防止液２８はノズル室１９から仕切壁１６の
流通凹部１７を介してオーバーフロー室２０に導かれ、
オーバーフロー室２０における溶融はんだ２７の表面を
被覆しつつ溢流口２９に向かって導かれたうえ溢流口２
９から溢出して酸化防止液受体３０に落下する。

【００１８】このように、酸化防止液２８をノズル室１
９からオーバフロー室２０へ溢流させ、さらに、オーバ
フロー室２０から溢流口２９を経て酸化防止液受体３０
へ溢出させて収納する。この過程において熱劣化した酸
化防止液２８とともに、熱劣化により酸化した溶融はん
だ２７を排出することができるはんだ付け装置である。

【００１９】ところで、実公昭５３−５０７３７号公報
に示すはんだ付け装置には、次のような問題点があっ
た。

【００２０】酸化した溶融はんだ２７の排出ととも
に酸化防止液２８も排出される。

【００２１】酸化防止液２８を常に供給する必要が
あるので、酸化防止液２８の消費に起因したランニング
コストが高くなる。

【００２２】噴流口２５から噴出した溶融はんだ２
７は、流通間隙１５を通ってその全てがオーバフロー室
２０に流れ込み、回転翼２２からなるポンプ機構に吸い
込まれて再び噴流口２５から噴流し循環する。したがっ
て、オーバフロー室２０に溢流させた酸化した溶融はん
だ２７等の浮遊異物をポンプ機構が吸い込みやすい。

【００２３】ポンプ機構の回転翼２２を回転してノ
ズル体２６の噴流口２５から溶融はんだ２７を噴流させ
ると、ノズル室１９の溶融はんだ２７の液位が低下し、
図示されていない噴流波と溶融はんだ２７の液位との落
差が増大する。このため、ノズル室１９内の溶融はんだ
２７の不要な流動が増加するとともに、溶融はんだ２７
と空気との接触時間が増大して酸化物が発生しやすくな
る。

【００２４】溶融はんだ２７の噴流を停止すると、
噴流口２５から噴流する溶融はんだ２７がノズル室１９
およびオーバフロー室２０に戻り、溶融はんだ２７の液
位が上昇する。このため、はんだ槽１３の上縁には溶融
はんだ２７の上昇によって溢れ出を生じない程度の深さ
が必要になる。したがって、この深さを越えて溶融はん
だ２７を供給し増量することができない。

【００２５】本発明は、上記従来の問題点を解決するた
めになされたもので、はんだ融液液面に発生した酸化物
等の固形物の収集，除去およびはんだ融液の液位と噴流
波の高さの安定化を図ったはんだ付け装置を得ることを
目的とする。

【００２６】

【課題を解決するための手段】本発明は、はんだ槽本体
から溢流させたはんだ融液を一時的に貯溜せしめる流入
槽と、この流入槽内に貯溜されたはんだ融液を流入槽の
下方から加圧装置の入力側に還流せしめる還流路とを具
備したものである。

【００２７】また、流入槽に、はんだ融液の液面に浮遊
する固形物を捕捉するフィルタが設けられたものであ
る。

【００２８】また、流入槽に設けられたフィルタは着脱
可能に取り付けられたものである。

【００２９】また、流入槽に、還流路を開閉せしめる開
閉板が設けられたものである。

【００３０】また、流入槽に、はんだ槽本体から溢流す
るはんだ融液を整流して流入せしめる案内板が設けられ
たものである。

【００３１】

【作用】本発明においては、はんだ融液が溢流し流入槽
内に流入するとき、はんだ融液の表面に浮遊する固形物
がはんだ融液とともに流入槽に流れ込むことにより収集
できる。また、はんだ槽本体内のはんだ融液が消費され
て減量しても流入槽内のはんだ融液をはんだ槽本体へ還
流することによって補充し所要の噴流量が保持できる。

【００３２】また、流入槽にフィルタを設けることによ
って固形物をほとんど完全に捕捉でき、また、フィルタ
が着脱可能であることによって固形物を除去，排出でき
る。

【００３３】また、還流路に開閉板を設けることによっ
てはんだ融液の還流量を調整または停止することができ
る。

【００３４】さらに、案内板を設けることによって、は
んだ融液の流動を整流し安定化することができる。

【００３５】

【実施例】図１〜図３は本発明の第１の実施例を示すも
ので、図１は斜視図、図２は図１のIII 〜III 線による
断面図、図３は図２のIV〜IV線による断面図である。こ
れらの図において、図１５と同一符号は同一部分を示
し、３１ははんだ付け装置の全体を示す。３２は前記は
んだ槽本体３内のはんだ融液４の一部が溢流して流入
し、一時的に貯溜される流入槽で、はんだ槽本体３の一
部を溢流板３３で仕切って形成したものである。溢流板
３３の上部ははんだ槽本体３内のはんだ融液４が溢流し
て流入槽３２に流入する溢流口３４となている。

【００３６】また、流入槽３２内のはんだ融液４を流入
槽３２の底部位置から還流口１１に向けて還流させる還
流路３５が設けられている。

【００３７】次に、動作について説明する。はんだ融液
４がはんだ槽本体３から流入槽３２へ溢流して流入する
際に、その表面に浮遊する酸化したはんだや異物等の固
形物１２が一緒に流入槽３２へ流れ込む。したがって、
浮遊する固形物１２を流入槽３２に収集できる。

【００３８】また、はんだ槽本体３におけるはんだ融液
４のはんだ付け作業の初期の深さは溢流するはんだ融液
４の溢流口３４の位置で規制されて一定化する。この状
態で、はんだ融液４が消費されてその総量が減少しても
流入槽３２からはんだ融液４がはんだ槽本体３に補給さ
れるので、還流口１１に流入するはんだ融液４の圧力に
は変化がない。したがって、噴流波７の高さの変化を生
ずることがない。すなわち、はんだ融液４の減少は、流
入槽３２に一時的に貯溜されているはんだ融液４の量、
すなわち深さが変化することで吸収される。

【００３９】羽根車９の回転によって加圧されて送り出
されたはんだ融液４は噴流口６から噴流して噴流波７を
形成し、はんだ槽本体３内へ流入して加圧装置８の入力
側である還流口１１に還流して循環する。一方、はんだ
槽本体３から溢流口３４を越えて溢流したはんだ融液４
は流入槽３２へ流れ込み、還流路３５を通って還流口３
４に還流し循環する。

【００４０】すなわち、このようなはんだ付け装置３１
においては〔数１〕が成立する。

【００４１】

【数１】Ｑ₁ ＝Ｑ₂ ＋Ｑ₃ ただし、Ｑ₁ は噴流口６から噴流するはんだ融液４の流
量Ｑ₂ は流入槽３２以外のはんだ槽本体３から還流するは
んだ融液４の流量Ｑ₃ は流入槽３２から還流するはんだ融液４の流量≒溢
流口３４から溢流するはんだ融液４の流量そして、Ｑ₂ 》Ｑ₃ となるようその流量比を設定する。
ただし、前記Ｑ₂ とＱ₃ の大きさの関係は、絶対条件で
はなく、はんだ付け装置３１の使用状態に合わせて設定
すればよい事項である。なお、Ｑ₂ とＱ₃ の大きさの比
は、還流路３５の断面積、還流口１１との相対位置、等
で決まる。

【００４２】ところで、はんだ融液４が溢流口３４を越
えて溢流して流入槽３２へ流入する際に、はんだ融液４
の表面に浮遊している酸化はんだ等の固形物１２も一緒
に流入する。そして、流入槽３２に収集されて流入槽３
２のはんだ融液４の表面に蓄積するようになる。また、
流入槽３２の底部位置から還流路３５を通って還流口１
１へ環流するはんだ融液４は、浮遊する固形物１２が存
在しない。なお、Ｑ₂》Ｑ₃ であるので、流入槽３２に
蓄積する固形物１２が羽根車９に吸い込まれることもな
い。したがって、固形物１２のないはんだ融液４のみを
噴流口６から噴流することができる。

【００４３】一方、はんだ槽本体３のはんだ融液４の深
さＨ₁ は、溢流板３３によって規制されて一定である。
したがって、還流口１１におけるはんだ融液４の圧力も
一定となり、その結果、噴流口６から噴流するはんだ融
液４の噴流波７の高さＨ₃ も一定となって安定した噴流
波７を得ることができる。

【００４４】また、はんだ槽本体３内のはんだ融液４の
液位と噴流波７との落差Ｈ₂ ＋Ｈ₃も一定となり、一
方、深さＨ₁ も一定であるので、この落差Ｈ₂ ＋Ｈ₃ を
小さくすることができる。したがって、噴流波７の落下
および流動によって発生する酸化はんだ等の固形物１２
がきわめて少なくなる。

【００４５】ところで、羽根車９の回転が停止している
場合は、図３に示す高さＨ₂ とＨ₃の部分に噴流してい
たはんだ融液４がなく、この部分のはんだ融液４の量は
流入槽３２へ流れ込む。この場合における流入槽３２の
はんだ融液４の深さがＨ₁ （まだ、はんだ付けによるは
んだ融液４の消耗がないとする）であるとし、羽根車９
が回転している場合における流入槽３２のはんだ融液４
の深さがｈ₂ になったとすると、Ｈ₁ とｈ₂ の差に相当
するはんだ融液４の体積と、高さＨ₂ とＨ₃ の部分に噴
流しているはんだ融液４の体積とは同一である。

【００４６】そして、はんだ付け作業に伴ってはんだ融
液４が消費されれば、その消費量に相当する体積分だけ
流入槽３２のはんだ融液４の深さが△ｈだけ低下し、は
んだ槽本体３内のはんだ融液４の深さは、溢流口３４に
規制された深さＨ₁ に保持される。したがって、はんだ
融液４の消費に伴って噴流波７の高さＨ₃ が変化するこ
とはない。このことから、はんだ融液４の量を常時監視
して一定量に保つような作業あるいは装置は不要であ
る。

【００４７】厳密には、羽根車９が吸い込むはんだ融液
４の量は、はんだ融液４の深さＨ₁の流入槽３２以外の
はんだ槽本体３から吸い込むはんだ融液４の流量Ｑ₂ と
はんだ融液４の深さｈ₂ の流入槽３２から吸い込むはん
だ融液４の流量Ｑ₃ との和であるから、ごくわずかでは
あるが、流入槽３２のはんだ融液４の深さｈ₂ の変化も
噴流波７の高さＨ₃ に影響を与える。

【００４８】一方、流入槽３２の容積は、はんだ槽本体
３全体の容積に比べて小さいものである。そのため、流
入槽３２内のはんだ融液４の深さの変化△ｈからはんだ
融液４の消費を明確に見て取れる。従って、流入槽３２
にはんだ融液４の量の管理装置すなわちはんだ融液４の
液位を管理する装置を付加するならば、流入槽３２のは
んだ融液４の深さを従来の精度で一定に保つことができ
るようになる。その結果、噴流波７の高さＨ₃ を極めて
高い精度で安定化することができるようになる。

【００４９】また、運転していた羽根車９を停止する
と、噴流口６から噴流していたはんだ融液４すなわち高
さＨ₂ とＨ₃ の部分に噴流していたはんだ融液４が溢流
口３４を越えて流入槽３２へ溢流する。したがって、は
んだ融液４の表面に浮遊していた酸化はんだ等の固形物
１２が一斉に流入槽３２へ流れ込み、流入槽３２に収集
される。すなわち、羽根車９の運転を停止することでは
んだ付け装置３１の清掃作業を行うことができる。な
お、はんだ槽本体３内の一部のはんだ融液４は還流路３
５を通って流入槽３２へ流入する。

【００５０】そして、はんだ融液４の深さＨ₁ は、羽根
車９の運転を停止しても増加しないので、該はんだ融液
４の液面とはんだ槽本体３の上縁との間隔Ｈ₄ に余分の
深目めの寸法を見込む必要がなくなる。

【００５１】したがって、落差Ｈ₂ ＋Ｈ₃ を小さくしつ
つ、噴流槽５の上縁と前記はんだ槽本体３の上縁との間
隔Ｈ₅ を大きくすることができる。このことは、配線基
板を搬送するコンベアとの関係において、配置選択性
（配置の自由度）が良好になることを意味する。

【００５２】図４，図５は本発明の第２の実施例を示す
もので、図４は斜視図、図５は図４のＶ−Ｖ線による断
面図である。これらの図において、図１〜３と同一符号
は同一部分を示す。この第２の実施例においては、流入
槽３２が噴流口６の長手方向の一側面に沿って平行に設
けられたものである。

【００５３】このように、第２の実施例では、はんだ融
液４上の固形物１２は噴流口６から噴流するはんだ融液
４の流れによって効率よく流入槽３２に流入させること
ができる。

【００５４】その他の動作は第１の実施例と同一であ
る。

【００５５】図６，図７は本発明の第３の実施例を示す
もので、図６は斜視図、図７は図６のVI−VI線による断
面図である。これらの図において、図１〜３と同一符号
は同一部分を示す。この第３の実施例においては、流入
槽３２が噴流槽５の長手方向の両側面に沿って平行に設
けられたもので、固形物１２の流入槽３２への流入が第
２の実施例のものよりも一層効率よく流入される。

【００５６】その他の動作は第１，第２の実施例と同一
である。

【００５７】図８は本発明の第４の実施例を示す斜視図
で、図１と同一符号は同一部分を示す。この第４の実施
例においては、溢流板３３に堰板３６を設けて開口部３
７から流入槽３２へ流入するはんだ融液４の流れを案内
するもので、その他の構成は図１と同じである。

【００５８】このような構成とすることによって、流入
槽３２へ流入するはんだ融液４の幅と流速を変えること
ができるようになる。すなわち、開口部３７の幅を狭め
ればはんだ融液４の流速を速めることができるようにな
り、噴流波７が落下する位置において発生した酸化はん
だ等の固形部１２を効率よく流入槽３２に収集すること
ができる。また、流入槽３２へ溢流するはんだ流量を少
なく設定したはんだ付け装置３１の場合にあっては、開
口部３７の幅を狭めることで目的とする流速を得ること
ができる。

【００５９】もちろん、図６，図７に示す第３の実施例
においても、堰板３６を使用することができる。すなわ
ち、両側面のそれぞれの溢流板３３に堰板３６を形成す
る。

【００６０】図９は本発明の第５の実施例を示す斜視図
で、図１と同一符号は同一部分を示し、はんだ槽本体３
の角部で、かつ加圧装置８が設けられている側に流入槽
３２を設けた構成で、その他は図１と同じ構成である。

【００６１】このような構成にすると、はんだ槽本体３
内の空きスペースを有効に利用することができるので、
はんだ槽本体３を大型化することなくはんだ付け装置３
１を構成することができる。また、既存のはんだ付け装
置に対して、オプション装置として付加することもでき
る。

【００６２】図１０は本発明の第６の実施例を示す斜視
図で、図１と同一符号は同一部分を示し、１つのはんだ
槽本体３に第１次噴流槽３８と第２次噴流槽３９とを備
えたはんだ付け装置４０であり、２つの加圧装置８を備
え、各加圧装置８側に流入槽３２を設けた構成である。
なお、図面の関係上、流入槽３２からそれぞれの加圧装
置８へ向けて還流路を備えているが図示していない。

【００６３】この第６の実施例では、加圧装置８側に設
けた１つの流入槽３２から２つの加圧装置８へ向けてそ
れぞれ還流路を備えているが、流入槽３２を複数設けた
構成であってもかまわない。また、流入槽３２を設ける
位置についても、第１の実施例乃至第５の実施例に示す
ように、はんだ融液４の噴流波７の位置や流れる方向、
はんだ槽本体３の大きさ等を考慮して最適の設計をすれ
ばよい。

【００６４】図１１は本発明の第７の実施例を示す側断
面図で、図２と同一符号は同一部分を示し、流入槽３２
と還流路３５との間に開閉板４１を設けた構成である。
なお、開閉板４１の開閉手段については図示を省略して
ある。

【００６５】このような構成は、特に、図１０に示す第
６の実施例のような第１次噴流槽３８と第２次噴流槽３
９とを備えたはんだ付け装置４０において特に有効であ
る。すなわち、図１１の開閉板４１（図１０では図示が
省略されている）を使用して一方の還流路を閉鎖するこ
とで、流入槽３２からそれぞれの還流口へはんだ融液４
の還流を停止したり還流する流量を減少させたりして調
整することができるからである。例えば、第２次噴流槽
３９側の開閉板を作動して還流路を閉鎖し、第１次噴流
槽３８の開閉板を開いて第１次噴流槽３８のみに流入槽
３２のはんだ融液４を還流させるならば、第２次噴流槽
３９の噴流波７を極めて安定に保持することができるよ
うになる。

【００６６】図１２，図１３は、本発明の第８の実施例
を示すもので、図１２は側断面図、図１３は図１２の要
部を示す斜視図で、これらの図において図２と同一符号
は同一部分を示す。

【００６７】すなわち、流入槽３２に篭４２を設けたも
ので、篭４２の底の部分にはフィルタ４３を形成する孔
４４が設けてある。すなわち、酸化はんだ等の固形物１
２はフィルタ４３で捕捉し、はんだ融液４のみを流入槽
３２に設けた還流路３５へ導く構成である。

【００６８】また流入槽３２に設けた係止片４５に篭４
２を係止する構成であり、篭４２の着脱は、抜き差し作
業で行うことができる。したがって、流入槽３２から篭
４２を抜き出すことで固形物１２の除去作業を簡単に行
うことができる。

【００６９】図１４は、本発明の第９の実施例を示す側
断面図である。この図において、図２と同一符号は同一
部分を示す。

【００７０】すなわち、溢流口３４の流入槽３２側に溢
流するはんだ融液４の流れを案内する案内板４６を備え
た構成である。そしてこのような構成とすることで、は
んだ融液４を整流して穏やかに流入槽４へ流れ込ませる
ことができるようになり、はんだ融液４の不必要な流動
を抑制することができる。すなわち、はんだ融液４の飛
び跳ね等を抑制することができる。

【００７１】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、はんだ槽
本体から溢流させたはんだ融液を一時的に貯溜せしめる
流入槽と、この流入槽内に貯溜されたはんだ融液を流入
槽の下方から加圧装置の入力側に還流せしめる還流路と
が設けられたので、はんだ槽本体の固形化した浮遊不純
物を流入槽へ流して除去できる。また、はんだ融液の液
位が加圧装置の駆動と停止に関係なく一定に設定でき
る。したがって、噴流波とはんだ融液液面との落差が小
さくなり、酸化はんだの発生を少なくすることができ
る。また、はんだ槽本体の上縁とはんだ融液の液位との
差を小さくしてもはんだ融液がはんだ槽本体から外部へ
流れ出すことがなく、このため噴流波とはんだ融液液面
の落差が小さいにもかかわらず、噴流槽の上縁とはんだ
槽本体の上縁との間隔を長くすることができる。

【００７２】その結果、配線基板を搬送するためのコン
ベアとはんだ槽との間の配置自由度（配置選択性）が良
好となる。例えば、配線基板を搬送する搬送チェーン等
の搬送機構のレベルと噴流口のレベルとを近づけること
ができ、したがって、配線基板を保持する保持爪の長さ
を短くできる等の利点を有する。

【００７３】また、流入槽にフィルタを設けたことによ
りはんだ槽本体内の固形化した浮遊物の除去がほぼ完全
にできる利点を有する。

【００７４】さらに、フィルタを着脱可能に設けたこと
によりフィルタに付着した固形物の除去と排出が容易に
できる利点を有する。

【００７５】また、還流路に開閉板を設けたことにより
還流路へ流れるはんだ融液の還流量の調整と閉止が可能
となり、最適な運転条件を選定できる利点を有する。

【００７６】さらに、流入槽に、はんだ槽本体から溢流
するはんだ融液を整流して流入せしめる案内板が設けら
れたので、はんだ融液を整流して穏やかに流入槽へ流す
ことができ、はんだ融液の飛び跳ねなどの不要な運動，
流動を抑制することができる利点を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す斜視図である。

【図２】図１のIII −III 線による断面図である。

【図３】図１のIV−IV線による断面図である。

【図４】本発明の第２の実施例を示す斜視図である。

【図５】図４のＶ−Ｖ線による断面図である。

【図６】本発明の第３の実施例を示す斜視図である。

【図７】図６のVI−VI線による断面図である。

【図８】本発明の第４の実施例を示す斜視図である。

【図９】本発明の第５の実施例を示す斜視図である。

【図１０】本発明の第６の実施例を示す斜視図である。

【図１１】本発明の第７の実施例を示す側断面図であ
る。

【図１２】本発明の第８の実施例を示す断面図である。

【図１３】図１２の要部を示す斜視図である。

【図１４】本発明の第９の実施例を示す側断面図であ
る。

【図１５】従来のはんだ付け装置の一例を示す側断面図
である。

【図１６】図１５のＩ−Ｉ線による断面図である。

【図１７】従来のはんだ付け装置の他の例を示す斜視図
である。

【図１８】図１７のII−IIにによる縦断面図である。

【符号の説明】

１配線基板３はんだ槽本体４はんだ融液５噴流槽６噴流口７噴流波８加圧装置１１還流口１２固形物３１はんだ付け装置３２流入槽３３溢流板３４溢流口３５還流路４１開閉板４３フィルタ４６案内板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】はんだ槽本体内に収容されたはんだ融液
を加圧装置により前記はんだ槽本体内に設けられた噴流
槽から噴流せしめてハンダ付けを行うとともに、前記は
んだ融液を前記噴流槽に還流せしめるはんだ付け装置に
おいて、前記はんだ槽本体から溢流させた前記はんだ融液を一時
的に貯溜せしめる流入槽と、この流入槽内に貯溜された
前記はんだ融液を前記流入槽の下方から前記加圧装置の
入力側に環流せしめる還流路とを具備したことを特徴と
するはんだ付け装置。
【請求項２】流入槽には、はんだ融液の液面に浮遊す
る固形物を捕捉するフィルタが設けられたことを特徴と
する請求項１記載のはんだ付け装置。
【請求項３】流入槽に設けられたフィルタは、着脱可
能に取り付けられたことを特徴とする請求項２記載のは
んだ付け装置。
【請求項４】流入槽に、還流路を開閉せしめる開閉板
が設けられたことを特徴とする請求項１記載のはんだ付
け装置。
【請求項５】流入槽に、はんだ槽本体から溢流するは
んだ融液を整流して流入せしめる案内板が設けられたこ
とを特徴とする請求項１記載のはんだ付け装置。