JPH07148482A - 薬品注入による下水の硫化水素の制御方法と装置 - Google Patents
薬品注入による下水の硫化水素の制御方法と装置Info
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- JPH07148482A JPH07148482A JP32082393A JP32082393A JPH07148482A JP H07148482 A JPH07148482 A JP H07148482A JP 32082393 A JP32082393 A JP 32082393A JP 32082393 A JP32082393 A JP 32082393A JP H07148482 A JPH07148482 A JP H07148482A
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- chemical
- injection
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/008—Control or steering systems not provided for elsewhere in subclass C02F
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- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 圧送される下水内の硫化水素をほぼ零に抑制
処理すると共に、処理済の下水による下流側への悪影響
をなくし、かつ薬品使用量の低減を図る薬品注入による
下水の硫化水素の制御方法と装置を提供する。 【構成】 圧送される下水を一時的に蓄溜するポンプ井
６と、ポンプ井６内の下水１２の水温，水位，溶存酸素
量を検出する検出手段２と、それ等の検出値と圧送管１
４内の滞留時間と予め記録した薬品注入量マスタテーブ
ル８のデータとにより供給すべき薬品（塩化第二鉄）の
注入量を決定するＣＰＵ１と、ＣＰＵ１の指令により薬
品注入ポンプ９を駆動する薬品制御部７等からなる。薬
品注入ポンプ９から一定の注入量の塩化第二鉄を供給す
ることにより硫化水素はほぼ零に抑制処理される。ま
た、硫化水素と塩化第二鉄の反応により生じた硫化鉄は
下水内に浮遊し管内に堆積しない。また、処理済の下水
のｐＨは一定値以上に保持され酸化還元電位は大巾に向
上する。
処理すると共に、処理済の下水による下流側への悪影響
をなくし、かつ薬品使用量の低減を図る薬品注入による
下水の硫化水素の制御方法と装置を提供する。 【構成】 圧送される下水を一時的に蓄溜するポンプ井
６と、ポンプ井６内の下水１２の水温，水位，溶存酸素
量を検出する検出手段２と、それ等の検出値と圧送管１
４内の滞留時間と予め記録した薬品注入量マスタテーブ
ル８のデータとにより供給すべき薬品（塩化第二鉄）の
注入量を決定するＣＰＵ１と、ＣＰＵ１の指令により薬
品注入ポンプ９を駆動する薬品制御部７等からなる。薬
品注入ポンプ９から一定の注入量の塩化第二鉄を供給す
ることにより硫化水素はほぼ零に抑制処理される。ま
た、硫化水素と塩化第二鉄の反応により生じた硫化鉄は
下水内に浮遊し管内に堆積しない。また、処理済の下水
のｐＨは一定値以上に保持され酸化還元電位は大巾に向
上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、圧送管で排水される下
水から発生する硫化水素による弊害を除去するに好適な
薬品注入による下水の硫化水素の制御方法と装置に関す
る。
水から発生する硫化水素による弊害を除去するに好適な
薬品注入による下水の硫化水素の制御方法と装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】下水は下水発生源から圧送管で下流側に
送られ、終末処理場で再生処理される。再曝気による酸
素の溶解が十分に見込める自然流下の場合には管壁のス
ライムで生成される硫化物が下水中に溶解しても当該硫
化物は再曝気によって溶解した酸素により酸化されて消
滅するため有害な硫化水素が発生しない。しかしながら
下水が圧送管で排出される場合には再曝気が殆ど期待出
来ないため硫化水素が発生する。この硫化水素は鉄筋や
コンクリートを腐食，劣化させて寿命を低下させると共
に硫化水素ガスが気相に放散され悪臭を発生する問題点
が生ずる。また、下水圧送後に形成される人孔の内部の
コンクリートが腐食され、足掛金具の脱落や鉄筋の露出
が生じ危険である。これ等の問題点を解消する手段とし
て従来技術では圧送管内に空気を供給したり、硫化水素
ガスの発生部位を隔壁等で覆う手段が施されるに過ぎな
かった。
送られ、終末処理場で再生処理される。再曝気による酸
素の溶解が十分に見込める自然流下の場合には管壁のス
ライムで生成される硫化物が下水中に溶解しても当該硫
化物は再曝気によって溶解した酸素により酸化されて消
滅するため有害な硫化水素が発生しない。しかしながら
下水が圧送管で排出される場合には再曝気が殆ど期待出
来ないため硫化水素が発生する。この硫化水素は鉄筋や
コンクリートを腐食，劣化させて寿命を低下させると共
に硫化水素ガスが気相に放散され悪臭を発生する問題点
が生ずる。また、下水圧送後に形成される人孔の内部の
コンクリートが腐食され、足掛金具の脱落や鉄筋の露出
が生じ危険である。これ等の問題点を解消する手段とし
て従来技術では圧送管内に空気を供給したり、硫化水素
ガスの発生部位を隔壁等で覆う手段が施されるに過ぎな
かった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】圧送管が短い場合や直
線的に配設されている場合には空気の供給により硫化水
素の発生は一時的に抑制される。しかしながら、一般に
圧送管は長く、かつ屈曲して配設されるのが普通であ
る。また、隔壁等で被包する手段は姑息な手段であり硫
化水素ガスが洩れ、悪臭防止の効果は少ない。そこで、
屈曲して配設され、かつ管長の長い圧送管内に発生する
硫化水素を抑制する手段として薬品を注入する方法が検
討された。基礎的研究と現場実験により、硫化水素の抑
制に効果的な薬品として塩化第二鉄と硝酸塩が上げら
れ、これ等の薬品を所定量供給することにより圧送管内
の硫化水素がほぼ零に抑制処理されることがわかった。
また、薬品の注入量は下水の水温，滞留時間，溶存酸素
量により決められ、特に水温と滞留時間に強い相関関係
を有することがわかった。一方、薬品の注入により硫化
水素が抑制されても処理済の下水が下流側の処理手段や
処理場に悪影響を与えることを防止する必要がある。具
体的にはｐＨの値が余り下廻らないことが必要であり、
かつ下水の嫌気的な雰囲気（酸化還元電位）を改善する
ことが必要である。一方、塩化第二鉄と硝酸塩とを比較
すると前者は硫化水素の抑制反応が鋭敏であり、水質が
酸性に変化し酸化還元電位の著しい向上が認められ、臭
気発生がない特徴を有するが、後者は反応が緩慢であ
り、水質の変化がなく、かつアンモニア臭が発生する等
の欠点を有する。
線的に配設されている場合には空気の供給により硫化水
素の発生は一時的に抑制される。しかしながら、一般に
圧送管は長く、かつ屈曲して配設されるのが普通であ
る。また、隔壁等で被包する手段は姑息な手段であり硫
化水素ガスが洩れ、悪臭防止の効果は少ない。そこで、
屈曲して配設され、かつ管長の長い圧送管内に発生する
硫化水素を抑制する手段として薬品を注入する方法が検
討された。基礎的研究と現場実験により、硫化水素の抑
制に効果的な薬品として塩化第二鉄と硝酸塩が上げら
れ、これ等の薬品を所定量供給することにより圧送管内
の硫化水素がほぼ零に抑制処理されることがわかった。
また、薬品の注入量は下水の水温，滞留時間，溶存酸素
量により決められ、特に水温と滞留時間に強い相関関係
を有することがわかった。一方、薬品の注入により硫化
水素が抑制されても処理済の下水が下流側の処理手段や
処理場に悪影響を与えることを防止する必要がある。具
体的にはｐＨの値が余り下廻らないことが必要であり、
かつ下水の嫌気的な雰囲気（酸化還元電位）を改善する
ことが必要である。一方、塩化第二鉄と硝酸塩とを比較
すると前者は硫化水素の抑制反応が鋭敏であり、水質が
酸性に変化し酸化還元電位の著しい向上が認められ、臭
気発生がない特徴を有するが、後者は反応が緩慢であ
り、水質の変化がなく、かつアンモニア臭が発生する等
の欠点を有する。
【０００４】本発明は以上の事情に鑑みて創案されたも
のであり、硫化水素の抑制処理として塩化第二鉄の薬品
を注入することにし、かつ所定量の薬品を注入すべく薬
品の注入量の自動設定と、下水の排出と薬品注入とを同
期制御して硫化水素の抑制の完全化を図ると共に、薬品
の使用量の低減が出来、下流側に悪影響を与えない薬品
注入による下水の硫化水素の制御方法と装置を提供する
ことを目的とする。
のであり、硫化水素の抑制処理として塩化第二鉄の薬品
を注入することにし、かつ所定量の薬品を注入すべく薬
品の注入量の自動設定と、下水の排出と薬品注入とを同
期制御して硫化水素の抑制の完全化を図ると共に、薬品
の使用量の低減が出来、下流側に悪影響を与えない薬品
注入による下水の硫化水素の制御方法と装置を提供する
ことを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、以上の目的を
達成するために、圧送される下水から生ずる硫化水素を
薬品の注入によりほぼ零に抑制処理すると共に処理済の
下水の下流側への影響を低減するための下水の硫化水素
の制御方法であって、所定量の下水を下流側に自動的に
排出すべく下水を一時蓄溜するポンプ井内の下水の水
温，水位，溶存酸素量を検出すると共に、それ等の検出
値に対応する前記薬品の注入量を自動的に設定し、所定
の注入量の薬品の前記ポンプ井内への供給と当該ポンプ
井からの下水の排水を同期制御する薬品注入による下水
の硫化水素の制御方法を特徴とする。また、この制御方
法を実現する具体的手段として、圧送される下水から生
ずる硫化水素を薬品の注入によりほぼ零に制御処理する
と共に処理済の下水の下流側への影響を低減するための
下水の硫化水素の制御装置であって、圧送される下水を
一定の排出レベルまで一時的に蓄溜するポンプ井と、該
ポンプ井内の下水の水温，水位，溶存酸素量を検出する
検出手段と、当該手段の検出値に対応する薬品の注入量
を自動的に求めるＣＰＵと、該ＣＰＵに係合し、前記ポ
ンプ井からの所定量の下水を排出する排水ポンプおよび
前記注入量の薬品をポンプ井内に供給する薬品注入ポン
プを下水の排出と同期して制御する制御部とを有してな
る薬品注入による下水の硫化水素の制御装置を構成する
ものである。また、薬品としては塩化第二鉄を使用する
ことを特徴とするものである。
達成するために、圧送される下水から生ずる硫化水素を
薬品の注入によりほぼ零に抑制処理すると共に処理済の
下水の下流側への影響を低減するための下水の硫化水素
の制御方法であって、所定量の下水を下流側に自動的に
排出すべく下水を一時蓄溜するポンプ井内の下水の水
温，水位，溶存酸素量を検出すると共に、それ等の検出
値に対応する前記薬品の注入量を自動的に設定し、所定
の注入量の薬品の前記ポンプ井内への供給と当該ポンプ
井からの下水の排水を同期制御する薬品注入による下水
の硫化水素の制御方法を特徴とする。また、この制御方
法を実現する具体的手段として、圧送される下水から生
ずる硫化水素を薬品の注入によりほぼ零に制御処理する
と共に処理済の下水の下流側への影響を低減するための
下水の硫化水素の制御装置であって、圧送される下水を
一定の排出レベルまで一時的に蓄溜するポンプ井と、該
ポンプ井内の下水の水温，水位，溶存酸素量を検出する
検出手段と、当該手段の検出値に対応する薬品の注入量
を自動的に求めるＣＰＵと、該ＣＰＵに係合し、前記ポ
ンプ井からの所定量の下水を排出する排水ポンプおよび
前記注入量の薬品をポンプ井内に供給する薬品注入ポン
プを下水の排出と同期して制御する制御部とを有してな
る薬品注入による下水の硫化水素の制御装置を構成する
ものである。また、薬品としては塩化第二鉄を使用する
ことを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】下水は下水発生源としての各処理区域から集約
され、一時的にポンプ井に蓄溜し、所定の排出レベルに
なると下流側に自動的に圧送排水される。この圧送中に
圧送管内部で生成される硫化水素をほぼ零に出来れば本
発明の目的は達成される。そのため、ポンプ井内の下水
の水温，水位，溶存酸素量を検出する。硫化水素をほぼ
零にするに必要な薬品の注入量は特に水温，滞留時間に
直接的に関係する。そのため、予めＣＰＵ側に水温と溶
存酸素量に相当する薬品注入量の基本データを記録保持
すると共に、このデータとポンプ起動時に圧送管内部に
滞留される下水の予想滞留時間とから自動的に薬品の注
入量が求められる。なお、薬品注入量が過多になるとｐ
Ｈの値が低下（酸化）するためポンプ井から排出される
瞬間に滞留時間を予測しこれに見合う量の薬品を注入す
ることにより下流側への悪影響が防止される。
され、一時的にポンプ井に蓄溜し、所定の排出レベルに
なると下流側に自動的に圧送排水される。この圧送中に
圧送管内部で生成される硫化水素をほぼ零に出来れば本
発明の目的は達成される。そのため、ポンプ井内の下水
の水温，水位，溶存酸素量を検出する。硫化水素をほぼ
零にするに必要な薬品の注入量は特に水温，滞留時間に
直接的に関係する。そのため、予めＣＰＵ側に水温と溶
存酸素量に相当する薬品注入量の基本データを記録保持
すると共に、このデータとポンプ起動時に圧送管内部に
滞留される下水の予想滞留時間とから自動的に薬品の注
入量が求められる。なお、薬品注入量が過多になるとｐ
Ｈの値が低下（酸化）するためポンプ井から排出される
瞬間に滞留時間を予測しこれに見合う量の薬品を注入す
ることにより下流側への悪影響が防止される。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づき説明
する。図１は本実施例の全体構成図であり、図２は本実
施例の制御方法の概要を説明するためのフローチャート
である。
する。図１は本実施例の全体構成図であり、図２は本実
施例の制御方法の概要を説明するためのフローチャート
である。
【０００８】図１により本実施例の全体構成を説明す
る。下水１２は処理区域１３から管１５を介しポンプ井
６に送られ一時的に蓄溜される。ポンプ井６内には検出
手段２の水温検出センサ３と水位検出センサ４と溶存酸
素量検出センサ５が配設されＣＰＵ１と連結する。ポン
プ井６内の下水１２は所定の排出レベル位置に到達する
と下水排水ポンプ１０により屈曲して配設される圧送管
１４を介して終末処理場１６側に送られる。一方、塩化
第二鉄は薬品蓄溜タンク１１内に保存され、薬品注入ポ
ンプ９により注入管１７を介してポンプ井６に供給され
る。なお、薬品注入ポンプ９は薬品制御部７により自動
制御される。
る。下水１２は処理区域１３から管１５を介しポンプ井
６に送られ一時的に蓄溜される。ポンプ井６内には検出
手段２の水温検出センサ３と水位検出センサ４と溶存酸
素量検出センサ５が配設されＣＰＵ１と連結する。ポン
プ井６内の下水１２は所定の排出レベル位置に到達する
と下水排水ポンプ１０により屈曲して配設される圧送管
１４を介して終末処理場１６側に送られる。一方、塩化
第二鉄は薬品蓄溜タンク１１内に保存され、薬品注入ポ
ンプ９により注入管１７を介してポンプ井６に供給され
る。なお、薬品注入ポンプ９は薬品制御部７により自動
制御される。
【０００９】ＣＰＵ１には薬品注入量マスタテーブル８
のデータが予め入力記録される。前記したように、硫化
水素を抑制処理するに必要な薬品の注入量は下水の水温
と滞留時間によりほぼ決められる。水温検出センサ３は
下水の水温を検出し、その検出値をＣＰＵに入力する。
一方、水位検出センサ４によりポンプ井６内の下水１２
の排出開始時間が検出される。また、圧送管１４の形状
および長さ等から下水１２の圧送管１４内の滞留時間が
予測される。前記検出値に対応する薬品注入量マスタテ
ーブル８のデータと前記滞留時間とから薬品注入量と注
入時期が自動的に求められる。ＣＰＵ１は薬品制御部を
下水１２の排水と同期してコントロールして、薬品注入
ポンプ９および注入管１７を介し所定の注入量の薬品
（塩化第二鉄）をポンプ井６内に送るように作用する。
塩化第二鉄により抑制処理された処理済の一定量の下水
１２がポンプ井６から排出されると下水排水ポンプ１０
が停止し、同時に薬品注入ポンプ９が停止する。
のデータが予め入力記録される。前記したように、硫化
水素を抑制処理するに必要な薬品の注入量は下水の水温
と滞留時間によりほぼ決められる。水温検出センサ３は
下水の水温を検出し、その検出値をＣＰＵに入力する。
一方、水位検出センサ４によりポンプ井６内の下水１２
の排出開始時間が検出される。また、圧送管１４の形状
および長さ等から下水１２の圧送管１４内の滞留時間が
予測される。前記検出値に対応する薬品注入量マスタテ
ーブル８のデータと前記滞留時間とから薬品注入量と注
入時期が自動的に求められる。ＣＰＵ１は薬品制御部を
下水１２の排水と同期してコントロールして、薬品注入
ポンプ９および注入管１７を介し所定の注入量の薬品
（塩化第二鉄）をポンプ井６内に送るように作用する。
塩化第二鉄により抑制処理された処理済の一定量の下水
１２がポンプ井６から排出されると下水排水ポンプ１０
が停止し、同時に薬品注入ポンプ９が停止する。
【００１０】次に、本実施例の作用を図２のフローチャ
ートにより更に詳しく説明する。まず、ポンプ井６に処
理区域１３側から下水１２が流入される（ステップ１０
０）。ポンプ井６内の水温検出センサ３，水位検出セン
サ４および溶存酸素量検出センサ５によりポンプ井６内
の下水の水温，水位，溶存酸素量が求められる（ステッ
プ１０１）。水位検出センサ４によりポンプ井６内の下
水１２が排出レベルに達したか否かが検出され下水排水
ポンプ１０の起動の有無が判断される（ステップ１０
２）。Ｙｅｓの場合は下水排水ポンプ１０が作動し（ス
テップ１０３）、同時に薬品注入量マスタテーブル８を
参照して予想滞留時間が算出される（ステップ１０
４）。それによりＣＰＵ１は薬品注入量を決定し（ステ
ップ１０５）、薬品制御部７を介し薬品注入ポンプ９に
作動指令を発する（ステップ１０６）。薬品注入ポンプ
９は薬品蓄溜タンク１１から所定の注入量の塩化第二鉄
をポンプ井６内に供給する。ポンプ井６から一定量の処
理済下水１２が終末処理場１６側に排出されると（ステ
ップ１０６）、下水排水ポンプ１０の停止時期が判断さ
れ（ステップ１０７）、下水排水ポンプ１０の停止と同
時に薬品注入ポンプ９も停止する（ステップ１０８）。
以下、同様な動作を繰返し行うことにより硫化水素をほ
ぼ零に抑制処理された下水１２のみが終末処理場１６側
に送られる。
ートにより更に詳しく説明する。まず、ポンプ井６に処
理区域１３側から下水１２が流入される（ステップ１０
０）。ポンプ井６内の水温検出センサ３，水位検出セン
サ４および溶存酸素量検出センサ５によりポンプ井６内
の下水の水温，水位，溶存酸素量が求められる（ステッ
プ１０１）。水位検出センサ４によりポンプ井６内の下
水１２が排出レベルに達したか否かが検出され下水排水
ポンプ１０の起動の有無が判断される（ステップ１０
２）。Ｙｅｓの場合は下水排水ポンプ１０が作動し（ス
テップ１０３）、同時に薬品注入量マスタテーブル８を
参照して予想滞留時間が算出される（ステップ１０
４）。それによりＣＰＵ１は薬品注入量を決定し（ステ
ップ１０５）、薬品制御部７を介し薬品注入ポンプ９に
作動指令を発する（ステップ１０６）。薬品注入ポンプ
９は薬品蓄溜タンク１１から所定の注入量の塩化第二鉄
をポンプ井６内に供給する。ポンプ井６から一定量の処
理済下水１２が終末処理場１６側に排出されると（ステ
ップ１０６）、下水排水ポンプ１０の停止時期が判断さ
れ（ステップ１０７）、下水排水ポンプ１０の停止と同
時に薬品注入ポンプ９も停止する（ステップ１０８）。
以下、同様な動作を繰返し行うことにより硫化水素をほ
ぼ零に抑制処理された下水１２のみが終末処理場１６側
に送られる。
【００１１】硫化水素と塩化第二鉄との反応により硫化
鉄（無害）が発生する。この硫化鉄が圧送管１４（図
１）等に堆積すると圧送管１４内が詰まり流量抵抗が増
大する等の問題点が生じる。しかしながら、現場観察に
よると処理済の下水１２は圧送管１４内を圧送されるた
め硫化鉄は下水１２内に浮遊混合され堆積しないことが
確認された。また、塩化第二鉄の注入濃度を１００ｍｇ
／ｌ以下にすればｐＨは５．８を下廻ることがないこと
が確認され、かつ１０ｍｇ／ｌ以上の注入により酸化還
元電位が大巾に増加することが確認される。従って、ポ
ンプ井６からの排出量をコントロールすることにより処
理済の下水のｐＨおよび酸化還元電位を所定値にするこ
とが出来る。これにより、終末処理場１６側への悪影響
の防止が図れる。更に、現場実験によると硫化水素ガス
によるニオイが全くなくなったことが確認されると共
に、終末処理場１６側における流入水質の変化がなく、
沈砂池での沈砂・し砂の量の変化がなく、水処理施設で
の汚泥引抜量の変化がなく引抜ポンプの負荷も増加しな
い。また、汚泥量に変化がないことも確認された。
鉄（無害）が発生する。この硫化鉄が圧送管１４（図
１）等に堆積すると圧送管１４内が詰まり流量抵抗が増
大する等の問題点が生じる。しかしながら、現場観察に
よると処理済の下水１２は圧送管１４内を圧送されるた
め硫化鉄は下水１２内に浮遊混合され堆積しないことが
確認された。また、塩化第二鉄の注入濃度を１００ｍｇ
／ｌ以下にすればｐＨは５．８を下廻ることがないこと
が確認され、かつ１０ｍｇ／ｌ以上の注入により酸化還
元電位が大巾に増加することが確認される。従って、ポ
ンプ井６からの排出量をコントロールすることにより処
理済の下水のｐＨおよび酸化還元電位を所定値にするこ
とが出来る。これにより、終末処理場１６側への悪影響
の防止が図れる。更に、現場実験によると硫化水素ガス
によるニオイが全くなくなったことが確認されると共
に、終末処理場１６側における流入水質の変化がなく、
沈砂池での沈砂・し砂の量の変化がなく、水処理施設で
の汚泥引抜量の変化がなく引抜ポンプの負荷も増加しな
い。また、汚泥量に変化がないことも確認された。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、次のような顕著な効果
を奏する。 １）圧送される下水から発生する硫化水素がほぼ零に抑
制処理され、終末処理場側で硫化水素ガスの悪臭が除去
される。なお、硫化水素は０．０２ｐｐｍでも悪臭の確
認が可能なものであり、本発明により悪臭が感じられな
いことから少なくとも０．０２ｐｐｍ以下の硫化水素し
か残存していないことから硫化水素のほぼ完全除去が実
現された。 ２）硫化水素と塩化第二鉄との反応により生成される硫
化鉄が下水内に浮遊し管内に堆積しない。これにより処
理済の下水の円滑排水が永続出来る。 ３）ＣＰＵで求められた所定量の薬品（塩化第二鉄）の
みが供給されるため、薬品使用量の低減が図れる。 ４）所定量の薬品の供給により処理済の下水のｐＨおよ
び酸化還元電位を所望値に保持することが出来る。これ
により下流側への悪影響が防止される。 ５）下水の排水と薬品の供給が自動同期制御により行わ
れるため、安定、かつ確実な下水処理が出来る。 ６）排出される下水の量や、圧送管の形状，長さ等が変
化してもＣＰＵ内の記録データの更新により容易に対応
することが出来る。
を奏する。 １）圧送される下水から発生する硫化水素がほぼ零に抑
制処理され、終末処理場側で硫化水素ガスの悪臭が除去
される。なお、硫化水素は０．０２ｐｐｍでも悪臭の確
認が可能なものであり、本発明により悪臭が感じられな
いことから少なくとも０．０２ｐｐｍ以下の硫化水素し
か残存していないことから硫化水素のほぼ完全除去が実
現された。 ２）硫化水素と塩化第二鉄との反応により生成される硫
化鉄が下水内に浮遊し管内に堆積しない。これにより処
理済の下水の円滑排水が永続出来る。 ３）ＣＰＵで求められた所定量の薬品（塩化第二鉄）の
みが供給されるため、薬品使用量の低減が図れる。 ４）所定量の薬品の供給により処理済の下水のｐＨおよ
び酸化還元電位を所望値に保持することが出来る。これ
により下流側への悪影響が防止される。 ５）下水の排水と薬品の供給が自動同期制御により行わ
れるため、安定、かつ確実な下水処理が出来る。 ６）排出される下水の量や、圧送管の形状，長さ等が変
化してもＣＰＵ内の記録データの更新により容易に対応
することが出来る。
【図１】本発明の一実施例の全体構成図。
【図２】本実施例の作用を説明するためのフローチャー
ト。
ト。
１ ＣＰＵ ２ 検出手段 ３ 水温検出センサ ４ 水位検出センサ ５ 溶存酸素量検出センサ ６ ポンプ井 ７ 薬品制御部 ８ 薬品注入量マスタテーブル ９ 薬品注入ポンプ １０ 下水排水ポンプ １１ 薬品蓄溜タンク １２ 下水 １３ 処理区域 １４ 圧送管 １５ 管 １６ 終末処理場 １７ 注入管
Claims (4)
- 【請求項１】 圧送される下水から生じる硫化水素を薬
品の注入によりほぼ零に抑制処理すると共に処理済の下
水の下流側への影響を低減するための下水の硫化水素の
制御方法であって、所定量の下水を下流側に自動的に排
出すべく下水を一時蓄溜するポンプ井内の下水の水温，
水位，溶存酸素量を検出すると共に、それ等の検出値に
対応する前記薬品の注入量を自動的に設定し、所定の注
入量の薬品の前記ポンプ井内への供給と当該ポンプ井か
らの下水の排水を同期制御することを特徴とする薬品注
入による下水の硫化水素の制御方法。 - 【請求項２】 圧送される下水から生じる硫化水素を薬
品の注入によりほぼ零に制御処理すると共に処理済の下
水の下流側への影響を低減するための下水の硫化水素の
制御装置であって、圧送される下水を一定の排出レベル
まで一時的に蓄溜するポンプ井と、該ポンプ井内の下水
の水温，水位，溶存酸素量を検出する検出手段と、当該
手段の検出値に対応する薬品の注入量を自動的に求める
ＣＰＵと、該ＣＰＵに係合し、前記ポンプ井からの所定
量の下水を排出する排水ポンプと前記注入量の薬品をポ
ンプ井内に供給する薬品注入ポンプを下水の排出と同期
して制御する制御部とを有することを特徴とする薬品注
入による下水の硫化水素の制御装置。 - 【請求項３】 前記薬品が塩化第二鉄である請求項１の
薬品注入による下水の硫化水素の制御方法。 - 【請求項４】 前記薬品が塩化第二鉄である請求項２の
薬品注入による下水の硫化水素の制御装置。
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|---|---|---|---|
| JP5320823A JPH0818018B2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 薬品注入による下水の硫化水素の制御方法と装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5320823A JPH0818018B2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 薬品注入による下水の硫化水素の制御方法と装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07148482A true JPH07148482A (ja) | 1995-06-13 |
| JPH0818018B2 JPH0818018B2 (ja) | 1996-02-28 |
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ID=18125638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5320823A Expired - Fee Related JPH0818018B2 (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | 薬品注入による下水の硫化水素の制御方法と装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0818018B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN114716093A (zh) * | 2022-03-10 | 2022-07-08 | 四川文理学院 | 一种污水处理方法 |
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| GB0123415D0 (en) | 2001-09-28 | 2001-11-21 | Memquest Ltd | Method of writing data to non-volatile memory |
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| JPH02139083A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-29 | Daicel Chem Ind Ltd | 水の脱臭方法 |
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-
1993
- 1993-11-29 JP JP5320823A patent/JPH0818018B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH0818018B2 (ja) | 1996-02-28 |
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