JPH0714084B2 - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
- Publication number
- JPH0714084B2 JPH0714084B2 JP34201189A JP34201189A JPH0714084B2 JP H0714084 B2 JPH0714084 B2 JP H0714084B2 JP 34201189 A JP34201189 A JP 34201189A JP 34201189 A JP34201189 A JP 34201189A JP H0714084 B2 JPH0714084 B2 JP H0714084B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- gas
- nozzle
- pressure vessel
- optical member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、希ガスハライド放電励起を利用したエキシマ
レーザ装置に関するものである。
レーザ装置に関するものである。
従来の技術 最近、希ガスハライド放電励起を利用したエキシマレー
ザが紫外線領域における高効率、高出力レーザとして、
半導体産業、光化学分野、あるいは医療分野において注
目されている。中でも高出力が期待することができるXe
Cl（308nm）、KrF（248nm）エキシマレーザ装置は最も
注目されている。
ザが紫外線領域における高効率、高出力レーザとして、
半導体産業、光化学分野、あるいは医療分野において注
目されている。中でも高出力が期待することができるXe
Cl（308nm）、KrF（248nm）エキシマレーザ装置は最も
注目されている。
エキシマレーザは希ガスとハロゲンガスを封入し、放電
励起により必要な光を放出する。そして、上記封入され
るレーザガスは、ハロゲンガスであるF2、HCl等を0.2〜
0.3重量％程度含有するため、レーザ発振器の主電極、
予備電離電極およびその他の構造物と反応して化学的に
分解される。これによりハロゲンガスが消耗して濃度低
下をもたらす一方、固体状反応不純物が増大してレーザ
光出射用の光学部材に沈着し、レーザ光を散乱、あるい
は吸収するなど、妨害作用を生じ、レーザ出力を低下さ
せる。
励起により必要な光を放出する。そして、上記封入され
るレーザガスは、ハロゲンガスであるF2、HCl等を0.2〜
0.3重量％程度含有するため、レーザ発振器の主電極、
予備電離電極およびその他の構造物と反応して化学的に
分解される。これによりハロゲンガスが消耗して濃度低
下をもたらす一方、固体状反応不純物が増大してレーザ
光出射用の光学部材に沈着し、レーザ光を散乱、あるい
は吸収するなど、妨害作用を生じ、レーザ出力を低下さ
せる。
従来、上記問題を解消するため、種々提案されている。
例えば、特開昭58−186985号公報には、レーザガスを電
気集塵器に導き、レーザガス中の塵芥分を除去して精製
し、この精製されたガスを透過窓領域に流入させて新た
に発生する塵芥の透過窓部材への付着を防止するように
した構成が記載されている。
例えば、特開昭58−186985号公報には、レーザガスを電
気集塵器に導き、レーザガス中の塵芥分を除去して精製
し、この精製されたガスを透過窓領域に流入させて新た
に発生する塵芥の透過窓部材への付着を防止するように
した構成が記載されている。
しかし、電気集塵器は固形塵芥の除去には効果的ではあ
るが、ガス状不純物を除去することはできず、このガス
状不純物の透過窓部材への付着を防止することはできな
い。また、透過窓部材へ除塵ガスを吹き付ければ、新た
な生成不純物の透過窓部材への接触の機会を阻止する上
で効果はあるが、この除塵ガス中には上記のように残留
ガス、特に、希ガスハライドエキシマレーザでは、レー
ザガス主成分の活性ガス、例えばF2ガスがあり、このF2
ガスが高エネルギーのレーザ光により活性化され、光化
学反応による透過窓部材への沈着を生じやすい。
るが、ガス状不純物を除去することはできず、このガス
状不純物の透過窓部材への付着を防止することはできな
い。また、透過窓部材へ除塵ガスを吹き付ければ、新た
な生成不純物の透過窓部材への接触の機会を阻止する上
で効果はあるが、この除塵ガス中には上記のように残留
ガス、特に、希ガスハライドエキシマレーザでは、レー
ザガス主成分の活性ガス、例えばF2ガスがあり、このF2
ガスが高エネルギーのレーザ光により活性化され、光化
学反応による透過窓部材への沈着を生じやすい。
そこで、これらの問題を解決するため、本出願人等は先
に特願昭63−190024号として、レーザ光を出射する光学
部材に対する反応不純物の沈着を抑制するようにしたエ
キシマレーザ装置を提案した。以下、上記従来技術につ
いて図面を参照しながら説明する。
に特願昭63−190024号として、レーザ光を出射する光学
部材に対する反応不純物の沈着を抑制するようにしたエ
キシマレーザ装置を提案した。以下、上記従来技術につ
いて図面を参照しながら説明する。
第４図および第５図は従来のエキシマレーザ装置を示
し、第４図は全体の概略構成図、第５図は第４図のＶ−
Ｖ矢視断面図である。
し、第４図は全体の概略構成図、第５図は第４図のＶ−
Ｖ矢視断面図である。
第４図に示すように、エキシマレーザ装置本体１は金属
製で筒状の圧力容器２の両端に光学部材である透過窓
（若しくは反射鏡）３、４が設けられ、圧力容器２内に
放電励起に必要な電極ユニット等の部品（図示省略）が
設けられている。そして、圧力容器２内にレーザガスが
封入され、電極ユニット等により放電励起され、透過窓
３、４からレーザ光が出射されるように構成されてい
る。圧力容器２の両端部には透過窓３、４の領域に新鮮
なレーザガスを導入する導入孔５が形成され、中間部に
も新鮮なレーザガスを導入する導入孔６、７が形成さ
れ、各導入孔５、６、７は制御弁８を介し、例えば、レ
ーザガスであるHe、F2、Krガスの供給部９、10、11に接
続されている。圧力容器２の一側に形成された排出口12
は排気ポンプ13に接続されている。
製で筒状の圧力容器２の両端に光学部材である透過窓
（若しくは反射鏡）３、４が設けられ、圧力容器２内に
放電励起に必要な電極ユニット等の部品（図示省略）が
設けられている。そして、圧力容器２内にレーザガスが
封入され、電極ユニット等により放電励起され、透過窓
３、４からレーザ光が出射されるように構成されてい
る。圧力容器２の両端部には透過窓３、４の領域に新鮮
なレーザガスを導入する導入孔５が形成され、中間部に
も新鮮なレーザガスを導入する導入孔６、７が形成さ
れ、各導入孔５、６、７は制御弁８を介し、例えば、レ
ーザガスであるHe、F2、Krガスの供給部９、10、11に接
続されている。圧力容器２の一側に形成された排出口12
は排気ポンプ13に接続されている。
以上の構成において、以下、その動作について説明す
る。
る。
まず、レーザ準備動作として、排気ポンプ13の動作によ
り圧力容器２内の排出孔12から先に消耗劣化しているレ
ーザガスを排出する。次に、排気ポンプ13を停止し、新
鮮なレーザガスを圧力容器２内に注入する。すなわち、
制御弁８の制御により供給部９内の希ガスであるHeガス
を導入孔５から透過窓３、４の領域に注入し、供給部10
と11内の極めて活性なハロゲンガスであるF2ガスとKrガ
スを導入孔６と７から注入し、最適なレーザ動作圧力に
なるように封入する。例えば、圧力容器２にF2ガスが0.
1〜0.3重量％、Krガスが５〜10重量％、Heガスが残余と
なるように充満する。そして、上記のように放電励起に
よりレーザ光を発生させ、発生したレーザ光を圧力容器
２の透過窓３および４より出射することができる。
り圧力容器２内の排出孔12から先に消耗劣化しているレ
ーザガスを排出する。次に、排気ポンプ13を停止し、新
鮮なレーザガスを圧力容器２内に注入する。すなわち、
制御弁８の制御により供給部９内の希ガスであるHeガス
を導入孔５から透過窓３、４の領域に注入し、供給部10
と11内の極めて活性なハロゲンガスであるF2ガスとKrガ
スを導入孔６と７から注入し、最適なレーザ動作圧力に
なるように封入する。例えば、圧力容器２にF2ガスが0.
1〜0.3重量％、Krガスが５〜10重量％、Heガスが残余と
なるように充満する。そして、上記のように放電励起に
よりレーザ光を発生させ、発生したレーザ光を圧力容器
２の透過窓３および４より出射することができる。
上記放電に際し、F2ガスが分解して際めて高い活性状態
となり、KrFを生成する一方、圧力容器２等とも反応し
て各種の不純ガスや塵芥、例えば、CF4、SiF4、HF、CrF
n等を生じる。これらの不純物は上記劣化ガスの排出、
清浄ガスの導入を連続的に行うことにより大部分を除去
することができるが、なお一部が残留し、更に、レーザ
光との光化学反応により透過窓３、４に沈着する。この
繰り返し堆積により、レーザ光の透過を阻害する膜が生
じる。したがって、この弊害を排除するため、上記のよ
うに制御弁８の制御により供給部９内の新鮮な希ガス、
例えば、Heガスを導入孔５から透過窓３、４の内側表面
に沿って導入し、第５図に点線で示すように希ガスカー
テンを形成することにより、不純物の透過窓３、４に対
する接触を阻止する。
となり、KrFを生成する一方、圧力容器２等とも反応し
て各種の不純ガスや塵芥、例えば、CF4、SiF4、HF、CrF
n等を生じる。これらの不純物は上記劣化ガスの排出、
清浄ガスの導入を連続的に行うことにより大部分を除去
することができるが、なお一部が残留し、更に、レーザ
光との光化学反応により透過窓３、４に沈着する。この
繰り返し堆積により、レーザ光の透過を阻害する膜が生
じる。したがって、この弊害を排除するため、上記のよ
うに制御弁８の制御により供給部９内の新鮮な希ガス、
例えば、Heガスを導入孔５から透過窓３、４の内側表面
に沿って導入し、第５図に点線で示すように希ガスカー
テンを形成することにより、不純物の透過窓３、４に対
する接触を阻止する。
発明が解決しようとする課題 上記従来例のように光学部材への反応不純物の沈着を抑
制するようにしたエキシマレーザ装置では、目的とする
効果を得ることはできるが、塵芥については十分な集塵
を行っても完全に除去することは不可能であり、光学部
材への影響は避けられない。完全な除塵を行うには、定
期的に容器を開放し、清掃する必要があり、レーザ出力
を長期間安定に維持することができない。
制するようにしたエキシマレーザ装置では、目的とする
効果を得ることはできるが、塵芥については十分な集塵
を行っても完全に除去することは不可能であり、光学部
材への影響は避けられない。完全な除塵を行うには、定
期的に容器を開放し、清掃する必要があり、レーザ出力
を長期間安定に維持することができない。
本発明は、上記のような従来技術の課題を解決するもの
であり、レーザガスを封入する圧力容器に塵芥が含まれ
ていても、レーザ光を出射させる光学部材の劣化を防止
することができると共に、レーザ出力を長期間安定に維
持することができ、信頼性を向上させることができるよ
うにしたエキシマレーザ装置を提供することを目的とす
るものである。
であり、レーザガスを封入する圧力容器に塵芥が含まれ
ていても、レーザ光を出射させる光学部材の劣化を防止
することができると共に、レーザ出力を長期間安定に維
持することができ、信頼性を向上させることができるよ
うにしたエキシマレーザ装置を提供することを目的とす
るものである。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するための本発明の技術的手段は、レー
ザガスを封入する圧力容器の内側でレーザ光と同軸上に
ノズルが設けられ、このノズルの先端面が上記圧力容器
の端部のレーザ光出射用の光学部材の内側表面に近接し
て配置され、上記圧力容器の導入孔から注入されたレー
ザガスが光学部材の内側表面のほぼ全域に亘って均一に
吹き付けられるように上記ノズルの先端面と上記光学部
材の内側表面とに隙間が形成されたものである。
ザガスを封入する圧力容器の内側でレーザ光と同軸上に
ノズルが設けられ、このノズルの先端面が上記圧力容器
の端部のレーザ光出射用の光学部材の内側表面に近接し
て配置され、上記圧力容器の導入孔から注入されたレー
ザガスが光学部材の内側表面のほぼ全域に亘って均一に
吹き付けられるように上記ノズルの先端面と上記光学部
材の内側表面とに隙間が形成されたものである。
そして、上記ノズルが内側にレーザ光よりも大きいレー
ザ光用アパーチャが形成された１段以上の狭さく部を有
するのが好ましい。
ザ光用アパーチャが形成された１段以上の狭さく部を有
するのが好ましい。
作用 したがって、本発明によれば、導入孔より注入したレー
ザガスを圧力容器とノズルの間に流入し、続いてノズル
の先端面とレーザ光出射用の光学部材との隙間に流し、
このとき、光学部材外周より表面のほぼ全域に亘って均
一に吹き付けることができる。
ザガスを圧力容器とノズルの間に流入し、続いてノズル
の先端面とレーザ光出射用の光学部材との隙間に流し、
このとき、光学部材外周より表面のほぼ全域に亘って均
一に吹き付けることができる。
また、圧力容器内で発生する塵芥はノズルの内側を飛散
するが、ノズルの内側に１段以上設けられた狭さく部に
より光学部材への侵入を防止することができる。
するが、ノズルの内側に１段以上設けられた狭さく部に
より光学部材への侵入を防止することができる。
実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図ないし第３図は本発明の一実施例におけるエキシ
マレーザ装置を示し、第１図は全体の概略構成図、第２
図は第１図のII部の拡大図、第３図は第２図のIII−III
矢視断面図である。
マレーザ装置を示し、第１図は全体の概略構成図、第２
図は第１図のII部の拡大図、第３図は第２図のIII−III
矢視断面図である。
本実施例においては、第１図に示す上記従来例と同一部
分については同一符号を付してその説明を省略し、異な
る構成について説明する。本実施例の特徴とするところ
は、レーザ光を出射させる光学部材である透過窓３、４
領域の構成にある。第１図ないし第３図に示すように、
金属製の圧力容器２はその筒状本体部14の両側内周に環
状の端板15が連設され、各端板15の中間部周囲に筒状の
窓ホルダ16の基部が連設され、各窓ホルダ16の先端に透
過窓３、４が固定されている。各窓ホルダ16の内側にお
いて、レーザ光軸ｌと同軸になるように円筒状のノズル
17の基部が端板15の内周に連設され、各ノズル17の先端
面は透過窓３、４の内側表面とに隙間18を有するように
配置されている。各ノズル17の内側には透過窓３、４側
寄り位置において、１段、若しくは複数段に狭さく部19
が設けられ、狭さく部19の内側にはレーザ光の外形より
も大きいレーザ光用アパーチャ20が形成されている。新
鮮なレーザガスの導入孔５は各窓ホルダ16の中間部に連
通されている。
分については同一符号を付してその説明を省略し、異な
る構成について説明する。本実施例の特徴とするところ
は、レーザ光を出射させる光学部材である透過窓３、４
領域の構成にある。第１図ないし第３図に示すように、
金属製の圧力容器２はその筒状本体部14の両側内周に環
状の端板15が連設され、各端板15の中間部周囲に筒状の
窓ホルダ16の基部が連設され、各窓ホルダ16の先端に透
過窓３、４が固定されている。各窓ホルダ16の内側にお
いて、レーザ光軸ｌと同軸になるように円筒状のノズル
17の基部が端板15の内周に連設され、各ノズル17の先端
面は透過窓３、４の内側表面とに隙間18を有するように
配置されている。各ノズル17の内側には透過窓３、４側
寄り位置において、１段、若しくは複数段に狭さく部19
が設けられ、狭さく部19の内側にはレーザ光の外形より
も大きいレーザ光用アパーチャ20が形成されている。新
鮮なレーザガスの導入孔５は各窓ホルダ16の中間部に連
通されている。
以上の構成において、以下、その動作について説明す
る。
る。
まず、レーザ準備動作して、排気ポンプ13の動作により
圧力容器２内の排気孔12から先に消耗劣化しているレー
ザガスを排出する。次に排気ポンプ13を停止し、新鮮な
レーザガスを圧力容器２内に注入する。すなわち、制御
弁８の制御により供給部９内の希ガスであるHeガスを導
入孔５から透過窓３、４の領域に注入し、供給部10と11
内の極めて活性なハロゲンガスであるF2とKrガスを導入
孔６と７から注入し、最適なレーザ動作圧力になるよう
に封入する。そして、上記のように導入孔５から注入さ
れたレーザガス（Heガス）21は、窓ホルダ16と円筒状の
ノズル17の間を流れ、続いてノズル17の先端面と透過窓
３、４の内側表面との隙間18を流れ、続いてレーザ光導
入口20を通ってノズル17の内側へ流れ、隙間18を流れる
間に透過窓３、４の内側表面のほぼ全域に亘って均一に
吹き付けられ、塵芥の透過窓３、４の付着が防止され
る。そして、上記のように放電励起によりレーザ光を発
生させ、発生したレーザ光を透過窓３、４より出射する
ことができる。この連続発振により塵芥が発生しても、
円筒状のノズル17の先端面が光学部材である透過窓３、
４の内側表面に近接するように配置すると共に、ノズル
17の内側に狭さく部19を設けることにより透過窓３、４
への塵芥の侵入を防止することができる。したがって、
上記レーザガス20の透過窓３、４への吹き付けによる塵
芥の付着防止効果と相まって透過窓３、４の劣化を効果
的に防止し、レーザ出力を長期に亘って効果的に安定に
維持することができる。
圧力容器２内の排気孔12から先に消耗劣化しているレー
ザガスを排出する。次に排気ポンプ13を停止し、新鮮な
レーザガスを圧力容器２内に注入する。すなわち、制御
弁８の制御により供給部９内の希ガスであるHeガスを導
入孔５から透過窓３、４の領域に注入し、供給部10と11
内の極めて活性なハロゲンガスであるF2とKrガスを導入
孔６と７から注入し、最適なレーザ動作圧力になるよう
に封入する。そして、上記のように導入孔５から注入さ
れたレーザガス（Heガス）21は、窓ホルダ16と円筒状の
ノズル17の間を流れ、続いてノズル17の先端面と透過窓
３、４の内側表面との隙間18を流れ、続いてレーザ光導
入口20を通ってノズル17の内側へ流れ、隙間18を流れる
間に透過窓３、４の内側表面のほぼ全域に亘って均一に
吹き付けられ、塵芥の透過窓３、４の付着が防止され
る。そして、上記のように放電励起によりレーザ光を発
生させ、発生したレーザ光を透過窓３、４より出射する
ことができる。この連続発振により塵芥が発生しても、
円筒状のノズル17の先端面が光学部材である透過窓３、
４の内側表面に近接するように配置すると共に、ノズル
17の内側に狭さく部19を設けることにより透過窓３、４
への塵芥の侵入を防止することができる。したがって、
上記レーザガス20の透過窓３、４への吹き付けによる塵
芥の付着防止効果と相まって透過窓３、４の劣化を効果
的に防止し、レーザ出力を長期に亘って効果的に安定に
維持することができる。
発明の効果 以上述べたように本発明によれば、導入孔より注入した
レーザガスを圧力容器とノズルの間に流し、続いてノズ
ルの先端面とレーザ光出射用の光学部材との隙間に流
し、このとき、光学部材外周より表面のほぼ全域に亘っ
て均一に吹き付けることができる。したがって、レーザ
光出射用の光学部材の劣化を防止すると共に、レーザ出
力を長期に亘って安定に維持することができ、信頼性を
向上させることができる。
レーザガスを圧力容器とノズルの間に流し、続いてノズ
ルの先端面とレーザ光出射用の光学部材との隙間に流
し、このとき、光学部材外周より表面のほぼ全域に亘っ
て均一に吹き付けることができる。したがって、レーザ
光出射用の光学部材の劣化を防止すると共に、レーザ出
力を長期に亘って安定に維持することができ、信頼性を
向上させることができる。
また、圧力容器内で発生する塵芥はノズルの内側を飛散
するが、ノズルの内側に１段以上設けられた狭さく部に
より光学部材への侵入を防止することができるので、上
記レーザガスの光学部材に対する吹き付け作用と相まっ
て更に一層、光学部材の劣化防止、レーザ出力の長期安
定出力、信頼性の向上を図ることができる。
するが、ノズルの内側に１段以上設けられた狭さく部に
より光学部材への侵入を防止することができるので、上
記レーザガスの光学部材に対する吹き付け作用と相まっ
て更に一層、光学部材の劣化防止、レーザ出力の長期安
定出力、信頼性の向上を図ることができる。
第１図ないし第３図は本発明の一実施例におけるエキシ
マレーザ装置を示し、第１図は全体の概略構成図、第２
図は第１図のII部の拡大図、第３図は第２図のIII−III
矢視断面図、第４図および第５図は従来のエキシマレー
ザ装置を示し、第４図は全体の概略構成図、第５図は第
４図のＶ−Ｖ矢視断面図である。 １…エキシマレーザ装置本体、２…圧力容器、３、４…
透過窓、５、６、７…導入孔、８…制御弁、９、10、11
…供給部、12…排出孔、13…排気ポンプ、16…窓ホル
ダ、17…円筒状のノズル、18…隙間、19…狭さく部、20
…レーザ光導入口。
マレーザ装置を示し、第１図は全体の概略構成図、第２
図は第１図のII部の拡大図、第３図は第２図のIII−III
矢視断面図、第４図および第５図は従来のエキシマレー
ザ装置を示し、第４図は全体の概略構成図、第５図は第
４図のＶ−Ｖ矢視断面図である。 １…エキシマレーザ装置本体、２…圧力容器、３、４…
透過窓、５、６、７…導入孔、８…制御弁、９、10、11
…供給部、12…排出孔、13…排気ポンプ、16…窓ホル
ダ、17…円筒状のノズル、18…隙間、19…狭さく部、20
…レーザ光導入口。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山中 圭一郎 神奈川県川崎市多摩区東三田３丁目10番１ 号 松下技研株式会社内 (72)発明者 宮田 威男 神奈川県川崎市多摩区東三田３丁目10番１ 号 松下技研株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】レーザガスを封入する圧力容器の内側でレ
ーザ光と同軸上にノズルが設けられ、このノズルの先端
面が上記圧力容器の端部のレーザ光出射用の光学部材の
内側表面に近接して配置され、上記圧力容器の導入孔か
ら注入されたレーザガスが光学部材の内側表面のほぼ全
域に亘って均一に吹き付けられるように上記ノズルの先
端面と上記光学部材の内側表面とに隙間が形成されたエ
キシマレーザ装置。 - 【請求項２】ノズルが内側にレーザ光よりも大きいレー
ザ光用アパーチャが形成された１段以上の狭さく部を有
する請求項１記載のエキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34201189A JPH0714084B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34201189A JPH0714084B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | エキシマレーザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03200386A JPH03200386A (ja) | 1991-09-02 |
| JPH0714084B2 true JPH0714084B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=18350491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34201189A Expired - Fee Related JPH0714084B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714084B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04177886A (ja) * | 1990-11-13 | 1992-06-25 | Fanuc Ltd | ガスレーザ装置 |
| JP2784706B2 (ja) * | 1992-11-05 | 1998-08-06 | 株式会社小松製作所 | ガスレーザ装置 |
| JP2023519552A (ja) * | 2020-04-06 | 2023-05-11 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | 導管システム、放射源、リソグラフィ装置、及びそれらの方法 |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP34201189A patent/JPH0714084B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03200386A (ja) | 1991-09-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5083318B2 (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
| JP2000286494A (ja) | ガス放電レーザシステム及び混合ガス状態安定化方法 | |
| JPH0714084B2 (ja) | エキシマレーザ装置 | |
| US6768765B1 (en) | High power excimer or molecular fluorine laser system | |
| JP2005519738A (ja) | 光学表面の汚染除去を行う方法及び装置 | |
| JP2003344601A (ja) | 光学素子の洗浄装置及び光学素子の洗浄方法、および光学素子の製造方法 | |
| JPS6026312B2 (ja) | 横方向励起気体循環形レ−ザ発振装置 | |
| JPH06237034A (ja) | 放電励起ガスレーザ装置 | |
| US6627843B2 (en) | Casing for laser device, production method and cleaning method of the same | |
| CA2043512A1 (en) | Gas laser apparatus | |
| CA1312114C (en) | Ir-radiation source and method for producing same | |
| JPH03165081A (ja) | 光学部品保護方法 | |
| JP3746243B2 (ja) | レーザ発振器 | |
| JP2653216B2 (ja) | エキシマレーザ装置 | |
| JPH0239580A (ja) | エキシマーレーザー装置 | |
| KR100717505B1 (ko) | 노광장치의 투영 렌즈 세정장치 | |
| JPS63209187A (ja) | エキシマレ−ザ装置 | |
| JPH07226550A (ja) | 放電励起エキシマレーザ装置 | |
| JPS6384183A (ja) | エキシマ−レ−ザガスの再生装置 | |
| JPH03200387A (ja) | エキシマレーザ装置 | |
| JPH021190A (ja) | エキシマ・レーザー装置 | |
| JPH0768162A (ja) | 付着物の洗浄方法及びその装置 | |
| JPS6342189A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPH02240983A (ja) | レーザ発振装置 | |
| JP2000252554A (ja) | 真空紫外レーザ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |