JPH0712825Y2 - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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- JPH0712825Y2 JPH0712825Y2 JP3934789U JP3934789U JPH0712825Y2 JP H0712825 Y2 JPH0712825 Y2 JP H0712825Y2 JP 3934789 U JP3934789 U JP 3934789U JP 3934789 U JP3934789 U JP 3934789U JP H0712825 Y2 JPH0712825 Y2 JP H0712825Y2
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、半導体製造工程等で使用されるクリーンルー
ムに関するものである。
ムに関するものである。
従来より加工精度の高い製品を製造する産業分野では、
クリーンルームが設けられ、該ルーム内で作業が行なわ
れているが、近時半導体製造工程では極めて厳しい条件
が要求されている。
クリーンルームが設けられ、該ルーム内で作業が行なわ
れているが、近時半導体製造工程では極めて厳しい条件
が要求されている。
通常のクリーンルームは、クリーンルーム内の一部の空
気をパーティクル除去用のフィルタを介して循環する循
環経路と、クリーンルーム内の残部の空気を排出する排
気経路と、外気を有害ガス除去用除害ブロックを介して
前記循環経路の循環空気に合流させる外気導入経路とを
備え、一般にクリーンルームの室内環境条件は、使用目
的によって若干異なるが、空調関係とパーティクル対策
が主であり、空調装置を出た空気が循環経路の送気用ダ
クトよりパーティクル除去用フィルタを通って清浄化さ
れた後、室内に供給される。
気をパーティクル除去用のフィルタを介して循環する循
環経路と、クリーンルーム内の残部の空気を排出する排
気経路と、外気を有害ガス除去用除害ブロックを介して
前記循環経路の循環空気に合流させる外気導入経路とを
備え、一般にクリーンルームの室内環境条件は、使用目
的によって若干異なるが、空調関係とパーティクル対策
が主であり、空調装置を出た空気が循環経路の送気用ダ
クトよりパーティクル除去用フィルタを通って清浄化さ
れた後、室内に供給される。
この場合、通常、清浄空気は、室上部又は側部に設けら
れた前記送気用ダクトより層流あるいは非層流で流さ
れ、一部が循環用ダクトを介して循環し、再びパーティ
クル除去用のフィルタを介して室内に導入され、残りが
排気経路から外部へ清浄化されて排出される。
れた前記送気用ダクトより層流あるいは非層流で流さ
れ、一部が循環用ダクトを介して循環し、再びパーティ
クル除去用のフィルタを介して室内に導入され、残りが
排気経路から外部へ清浄化されて排出される。
また、このようなクリーンルームに用いられるパーティ
クル除去用のフィルタは、ガラス繊維でなる濾紙であ
り、これを波形に折り、その間にアルミ箔でなるセパレ
ータを差込んだ構成のものが一般的であり、極めて高い
清浄度が得られている。
クル除去用のフィルタは、ガラス繊維でなる濾紙であ
り、これを波形に折り、その間にアルミ箔でなるセパレ
ータを差込んだ構成のものが一般的であり、極めて高い
清浄度が得られている。
ところが、クリーンルーム内における作業において発生
した有害物についての対応は、別途になされているのが
通常である。例えば、半導体製造工程では、各種の毒性
ガスが使用されているが、万一の有害ガスの漏洩等の事
故に対しては、クリーンルーム内の作業員の人体の許容
濃度以上の有害ガスの漏洩が発生した場合のみ、検知手
段によりアラーム等が警告を発して、クリーンルーム内
から作業員を退避させる安全対策が採られているのみ
で、従来のクリーンルームの循環経路では、フィルタに
よるパーティクルの除去効果しか期待できない。
した有害物についての対応は、別途になされているのが
通常である。例えば、半導体製造工程では、各種の毒性
ガスが使用されているが、万一の有害ガスの漏洩等の事
故に対しては、クリーンルーム内の作業員の人体の許容
濃度以上の有害ガスの漏洩が発生した場合のみ、検知手
段によりアラーム等が警告を発して、クリーンルーム内
から作業員を退避させる安全対策が採られているのみ
で、従来のクリーンルームの循環経路では、フィルタに
よるパーティクルの除去効果しか期待できない。
このため、通常クリーンルームでは、万一有害ガスの漏
洩が生じた場合、これが人体の許容濃度以下であって
も、有害ガスが循環して室内に流入し、室内の機器類を
損傷する等の不都合が生じる共に、ガラス繊維でなる濾
紙で構成されるフィルタ材やこれを保持する枠材を劣化
させる。
洩が生じた場合、これが人体の許容濃度以下であって
も、有害ガスが循環して室内に流入し、室内の機器類を
損傷する等の不都合が生じる共に、ガラス繊維でなる濾
紙で構成されるフィルタ材やこれを保持する枠材を劣化
させる。
本考案は以上のような課題を解決するもので、クリーン
ルーム内における作業上で発生した有害ガスによる室内
の機器類及び循環経路のフィルタ材やこれを保持する枠
材の劣化を防止すると共に、安全性を向上したクリーン
ルームを提供することを目的としたものである。
ルーム内における作業上で発生した有害ガスによる室内
の機器類及び循環経路のフィルタ材やこれを保持する枠
材の劣化を防止すると共に、安全性を向上したクリーン
ルームを提供することを目的としたものである。
本考案は、クリーンルーム内の一部の空気をパーティク
ル除去用のフィルタを介して循環する循環経路と、クリ
ーンルーム内の残部の空気を排出する排気経路と、外気
を有害ガス除去用除害ブロックを介して前記循環経路の
循環空気に合流させる外気導入経路とを備えたクリーン
ルームにおいて、前記循環経路のパーティクル除去用の
フィルタの上流側に、有害ガス除去用の触媒，吸着剤等
で構成された除害ブロックを設けると共に、前記排気経
路に前記残部の空気を清浄化する処理筒を設けたことを
特徴とするものである。
ル除去用のフィルタを介して循環する循環経路と、クリ
ーンルーム内の残部の空気を排出する排気経路と、外気
を有害ガス除去用除害ブロックを介して前記循環経路の
循環空気に合流させる外気導入経路とを備えたクリーン
ルームにおいて、前記循環経路のパーティクル除去用の
フィルタの上流側に、有害ガス除去用の触媒，吸着剤等
で構成された除害ブロックを設けると共に、前記排気経
路に前記残部の空気を清浄化する処理筒を設けたことを
特徴とするものである。
したがって、クリーンルーム内で万一有害ガスの漏洩が
生じた場合でも、循環経路に設けた有害ガス除去用の除
害ブロックにより、有害ガスが除去される。
生じた場合でも、循環経路に設けた有害ガス除去用の除
害ブロックにより、有害ガスが除去される。
また、フィルタでパーティクルが除去された空気が循環
するから、除害ブロックの目詰まりも生じない。
するから、除害ブロックの目詰まりも生じない。
さらに、排気されるクリーンルーム内の残部の空気も処
理筒で清浄化され、有害ガスが処理されて排気される。
理筒で清浄化され、有害ガスが処理されて排気される。
以下に本考案に係るクリーンルームの一実施例を図によ
って説明する。
って説明する。
図に示すクリーンルーム１は、室上部より下部へほぼ層
流状に清浄空気が流れる形式のものであり、上部に天井
板２を介して区画される前室３が、下部にクリーンルー
ム１の床となる金網４を介して連通する後室５が夫々連
設されている。
流状に清浄空気が流れる形式のものであり、上部に天井
板２を介して区画される前室３が、下部にクリーンルー
ム１の床となる金網４を介して連通する後室５が夫々連
設されている。
クリーンルーム１には、クリーンルーム１内の一部の空
気を循環する循環経路７と、クリーンルーム内の残部の
空気を排出する排気経路８と、外気を導入して前記循環
経路７の循環空気に合流させる外気導入経路６とが備え
られている。
気を循環する循環経路７と、クリーンルーム内の残部の
空気を排出する排気経路８と、外気を導入して前記循環
経路７の循環空気に合流させる外気導入経路６とが備え
られている。
循環経路７は、前記金網４と、後室５の側壁に設けられ
た吸気ダクト14と、該吸気ダクト14に連続して前室３内
に至る導入ダクト10と、該導入ダクト10に連続してクリ
ーンルーム１内上部に開口するヘッダ11とから構成され
ており、前記金網４には積層状に設けられた有害ガス除
去用の除害ブロック15が、前記ヘッダ11にはガラス繊維
でなる濾紙で構成されるパーティクル除去用のフィルタ
13が、前記吸気ダクト14には有害ガス除去用の除害ブロ
ック16が夫々備えられている。
た吸気ダクト14と、該吸気ダクト14に連続して前室３内
に至る導入ダクト10と、該導入ダクト10に連続してクリ
ーンルーム１内上部に開口するヘッダ11とから構成され
ており、前記金網４には積層状に設けられた有害ガス除
去用の除害ブロック15が、前記ヘッダ11にはガラス繊維
でなる濾紙で構成されるパーティクル除去用のフィルタ
13が、前記吸気ダクト14には有害ガス除去用の除害ブロ
ック16が夫々備えられている。
外気導入経路６は、前記導入ダクト10に連続する外気吸
入ダクト９を有し、該外気吸入ダクト９には外気中の有
害ガス除去用除害ブロック12が備えられている。
入ダクト９を有し、該外気吸入ダクト９には外気中の有
害ガス除去用除害ブロック12が備えられている。
また、クリーンルーム１内に区画された小室17には、前
記導入ダクト10から分岐する分岐導入ダクト18と、前記
吸気ダクト14の除害ブロック16の下流側に連続する合流
吸気ダクト19とで構成される分岐循環経路20が接続さ
れ、分岐導入ダクト18にはパーティクル除去用のフィル
タ21が、合流吸気ダクト19には有害ガス除去用の除害ブ
ロック22が夫々備えられている。
記導入ダクト10から分岐する分岐導入ダクト18と、前記
吸気ダクト14の除害ブロック16の下流側に連続する合流
吸気ダクト19とで構成される分岐循環経路20が接続さ
れ、分岐導入ダクト18にはパーティクル除去用のフィル
タ21が、合流吸気ダクト19には有害ガス除去用の除害ブ
ロック22が夫々備えられている。
排気経路８は、前記金網４に開口する排気口23と、該排
気口23に連続する排気ダクト24と、該排気ダクト24にダ
ンパ25を介して連続する処理筒26とで構成されている。
気口23に連続する排気ダクト24と、該排気ダクト24にダ
ンパ25を介して連続する処理筒26とで構成されている。
前記有害ガス除去用の除害ブロック12,15,16,22は、各
種の触媒あるいは活性炭等の吸着剤のハニカム構造に成
形されたものが使用でき、例えば、除害ブロック12,16,
22は円筒形状をもつハニカム構造の除害剤、除害ブロッ
ク15は適宜の厚さの板状に成形され、金属枠に嵌め込ま
れたハニカム構造のものが好適である。なお、除害ブロ
ック12,15,16,22に用いられる有害ガスの除害剤は、大
気中の有害ガス成分及びクリーンルーム１内で使用され
るガス、あるいは発生ガスにより選択され、複数の除害
剤を併用することも任意である。
種の触媒あるいは活性炭等の吸着剤のハニカム構造に成
形されたものが使用でき、例えば、除害ブロック12,16,
22は円筒形状をもつハニカム構造の除害剤、除害ブロッ
ク15は適宜の厚さの板状に成形され、金属枠に嵌め込ま
れたハニカム構造のものが好適である。なお、除害ブロ
ック12,15,16,22に用いられる有害ガスの除害剤は、大
気中の有害ガス成分及びクリーンルーム１内で使用され
るガス、あるいは発生ガスにより選択され、複数の除害
剤を併用することも任意である。
次に、上記構成のクリーンルームにおける空気の流れを
説明すると、外気導入経路６の外気吸入ダクト９に吸入
された外気は、有害ガス除去用除害ブロック12で有害ガ
スを除去された後、その大部分は導入ダクト10を通って
ヘッダ11より、パーティクル除去用のフィルタ13でパー
ティクルが除去されて清浄化した後、クリーンルーム１
内にほぼ層流状で流入する。
説明すると、外気導入経路６の外気吸入ダクト９に吸入
された外気は、有害ガス除去用除害ブロック12で有害ガ
スを除去された後、その大部分は導入ダクト10を通って
ヘッダ11より、パーティクル除去用のフィルタ13でパー
ティクルが除去されて清浄化した後、クリーンルーム１
内にほぼ層流状で流入する。
クリーンルーム１内に流入した空気の大部分は、循環経
路７に沿って循環する。即ち、この空気は、クリーンル
ーム１の床に配設した有害ガス除去用の除害ブロック15
を通って後室３に流入し、さらに、吸気ダクト14から有
害ガス除去用の除害ブロック16を通って有害ガスを除去
された後、導入ダクト10で有害ガスを除去された外気と
合流し、ヘッダ11のパーティクル除去用のフィルタ13で
パーティクルが除去されて清浄化した後、クリーンルー
ム１内にほぼ層流状で流入して循環する。
路７に沿って循環する。即ち、この空気は、クリーンル
ーム１の床に配設した有害ガス除去用の除害ブロック15
を通って後室３に流入し、さらに、吸気ダクト14から有
害ガス除去用の除害ブロック16を通って有害ガスを除去
された後、導入ダクト10で有害ガスを除去された外気と
合流し、ヘッダ11のパーティクル除去用のフィルタ13で
パーティクルが除去されて清浄化した後、クリーンルー
ム１内にほぼ層流状で流入して循環する。
導入ダクト10で外気と合流した循環空気の一部は、パー
ティクル除去用のフィルタ21及び有害ガス除去用の除害
ブロック22を備えた分岐循環経路20を循環する。
ティクル除去用のフィルタ21及び有害ガス除去用の除害
ブロック22を備えた分岐循環経路20を循環する。
また、後室５に流入した空気の残部は、排気口23,排気
ダクト24を流れ、処理筒26で清浄化され、有害ガスが処
理された後、大気へ放出される。
ダクト24を流れ、処理筒26で清浄化され、有害ガスが処
理された後、大気へ放出される。
本実施例は以上の如く構成されているので、クリーンル
ーム１内で万一有害ガスの漏洩が生じた場合でも、循環
経路７に設けた有害ガス除去用の除害ブロック15,16に
より、有害ガスが除去され、有害ガスがクリーンルーム
１内に循環することがない。
ーム１内で万一有害ガスの漏洩が生じた場合でも、循環
経路７に設けた有害ガス除去用の除害ブロック15,16に
より、有害ガスが除去され、有害ガスがクリーンルーム
１内に循環することがない。
また、フィルタでパーティクルが除去された空気が循環
するから、除害ブロックの目詰まりも生じない。
するから、除害ブロックの目詰まりも生じない。
さらに、クリーンルーム１内の排気口23より処理筒26に
至る排気経路８を設けているので、大気へ放出されるク
リーンルーム１内の空気も、処理筒26で清浄化されて、
有害ガスが処理されるので、安全効果が高い。
至る排気経路８を設けているので、大気へ放出されるク
リーンルーム１内の空気も、処理筒26で清浄化されて、
有害ガスが処理されるので、安全効果が高い。
なお、外気に含まれる有害ガスは、有害ガス除去用除害
ブロック12で除害され、クリーンルーム１内に導入され
ない。
ブロック12で除害され、クリーンルーム１内に導入され
ない。
本考案は、以上の説明から明らかなように、クリーンル
ーム内の一部の空気をパーティクル除去用のフィルタを
介して循環する循環経路と、クリーンルーム内の残部の
空気を排出する排気経路と、外気を有害ガス除去用除害
ブロックを介して前記循環経路の循環空気に合流させる
外気導入経路とを備え、前記循環経路のパーティクル除
去用のフィルタの上流側に、有害ガス除去用の触媒，吸
着剤等で構成された除害ブロックを設けると共に、前記
排気経路に前記残部の空気を清浄化する処理筒を設けた
ので、クリーンルーム内で万一有害ガスの漏洩が生じた
場合でも、循環経路に設けた有害ガス除去用の除害ブロ
ックによりクリーンルーム内で漏洩した有害ガスが除去
され、有害ガスがクリーンルーム内に循環することを阻
止でき、室内における作業員の安全性を確保できると共
に、クリーンルーム内の機器類及び循環経路のフィルタ
材やこれを保持する枠材の劣化を防止できる。
ーム内の一部の空気をパーティクル除去用のフィルタを
介して循環する循環経路と、クリーンルーム内の残部の
空気を排出する排気経路と、外気を有害ガス除去用除害
ブロックを介して前記循環経路の循環空気に合流させる
外気導入経路とを備え、前記循環経路のパーティクル除
去用のフィルタの上流側に、有害ガス除去用の触媒，吸
着剤等で構成された除害ブロックを設けると共に、前記
排気経路に前記残部の空気を清浄化する処理筒を設けた
ので、クリーンルーム内で万一有害ガスの漏洩が生じた
場合でも、循環経路に設けた有害ガス除去用の除害ブロ
ックによりクリーンルーム内で漏洩した有害ガスが除去
され、有害ガスがクリーンルーム内に循環することを阻
止でき、室内における作業員の安全性を確保できると共
に、クリーンルーム内の機器類及び循環経路のフィルタ
材やこれを保持する枠材の劣化を防止できる。
しかも、クリーンルーム内の機器類及び循環経路のフィ
ルタ材やこれを保持する枠材は、クリーンルーム内の作
業員に影響を与えない程度の微量の有害ガスでも劣化す
るが、このような微量の有害ガスも除去しているので、
これら機器類及び循環経路のフィルタ材やこれを保持す
る枠材等の構成部品の劣化を防止できる。
ルタ材やこれを保持する枠材は、クリーンルーム内の作
業員に影響を与えない程度の微量の有害ガスでも劣化す
るが、このような微量の有害ガスも除去しているので、
これら機器類及び循環経路のフィルタ材やこれを保持す
る枠材等の構成部品の劣化を防止できる。
また、パーティクル除去用のフィルタでパーティクルが
除去された空気が循環するから、除害ブロックの目詰ま
りも生じることがなく、除害ブロックの長寿命化が図れ
る。
除去された空気が循環するから、除害ブロックの目詰ま
りも生じることがなく、除害ブロックの長寿命化が図れ
る。
さらに、排気されるクリーンルーム内の空気も処理筒で
有害ガスが処理され、清浄化されて大気へ放出される。
有害ガスが処理され、清浄化されて大気へ放出される。
図は本考案のクリーンルームの一実施例を示す断面図で
ある。 １……クリーンルーム、３……前室、４……金網、５…
…後室、６……外気導入経路、７……循環経路、８……
排気経路、９……外気吸入ダクト、10……導入ダクト、
11……ヘッダ、12……有害ガス除去用除害ブロック、13
……パーティクル除去用のフィルタ、14……吸気ダク
ト、15,16,22……有害ガス除去用の除害ブロック、21…
…パーティクル除去用のフィルタ、26……処理筒
ある。 １……クリーンルーム、３……前室、４……金網、５…
…後室、６……外気導入経路、７……循環経路、８……
排気経路、９……外気吸入ダクト、10……導入ダクト、
11……ヘッダ、12……有害ガス除去用除害ブロック、13
……パーティクル除去用のフィルタ、14……吸気ダク
ト、15,16,22……有害ガス除去用の除害ブロック、21…
…パーティクル除去用のフィルタ、26……処理筒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/81 53/87 (56)参考文献 社団法人日本空気清浄協会編「空気清浄 ハンドブック」昭和60年10月20日 オーム 社発行 326〜340ページ 437ページ
Claims (1)
- 【請求項１】クリーンルーム内の一部の空気をパーティ
クル除去用のフィルタを介して循環する循環経路と、ク
リーンルーム内の残部の空気を排出する排気経路と、外
気を有害ガス除去用除害ブロックを介して前記循環経路
の循環空気に合流させる外気導入経路とを備えたクリー
ンルームにおいて、前記循環経路のパーティクル除去用
のフィルタの上流側に、有害ガス除去用の触媒，吸着剤
等で構成された除害ブロックを設けると共に、前記排気
経路に前記残部の空気を清浄化する処理筒を設けたこと
を特徴とするクリーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3934789U JPH0712825Y2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3934789U JPH0712825Y2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | クリーンルーム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02131143U JPH02131143U (ja) | 1990-10-31 |
| JPH0712825Y2 true JPH0712825Y2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=31548180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3934789U Expired - Fee Related JPH0712825Y2 (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | クリーンルーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0712825Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022538130A (ja) * | 2019-07-22 | 2022-08-31 | エス．ワイ． テクノロジー， エンジニアリング アンド コンストラクション カンパニー リミテッド | プロセス排気を利用する省エネ換気システム |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2536957B2 (ja) * | 1990-08-31 | 1996-09-25 | 日立プラント建設株式会社 | クリ―ンル―ム |
| JP2530755B2 (ja) * | 1990-12-21 | 1996-09-04 | 東レ株式会社 | システム畳およびクリ―ン化ル―ム |
| US6897165B2 (en) | 2001-06-06 | 2005-05-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Environmental control equipment/method of developing apparatus for developing light-exposed resist film with developer in wafer treating chamber |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP3934789U patent/JPH0712825Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 社団法人日本空気清浄協会編「空気清浄ハンドブック」昭和６０年１０月２０日オーム社発行３２６〜３４０ページ４３７ページ |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022538130A (ja) * | 2019-07-22 | 2022-08-31 | エス．ワイ． テクノロジー， エンジニアリング アンド コンストラクション カンパニー リミテッド | プロセス排気を利用する省エネ換気システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02131143U (ja) | 1990-10-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |