JPH0712794A - バックフラッシュ時間の設定方法 - Google Patents
バックフラッシュ時間の設定方法Info
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- JPH0712794A JPH0712794A JP17469493A JP17469493A JPH0712794A JP H0712794 A JPH0712794 A JP H0712794A JP 17469493 A JP17469493 A JP 17469493A JP 17469493 A JP17469493 A JP 17469493A JP H0712794 A JPH0712794 A JP H0712794A
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- gas
- time
- backflush
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 測定ガスの最終成分の濃度の違いによるその
ピークのずれを考慮し、また非測定ガスの次成分および
その濃度も考慮に入れて、最適なバックフラッシュ時間
を設定する。 【構成】 測定ガスの最終成分（ＣＨ4 ）と非測定ガス
の次成分（ＣＯ2 ）とを混合したガスを準備する。ＣＨ
4 は低濃度（５％）、ＣＯ2 は高濃度（９５％）とす
る。バックフラッシュ時間ｔBFを長くして、上記混合ガ
スをメインカラムに導いて各ガス成分に分離し、これら
各ガス成分の濃度を検出する。この検出動作をｔBFを徐
々に短くしながら繰り返し、ＣＯ2 の濃度のピーク値が
零となるときのｔBFをｔBF1 として測定し、ＣＨ4 の濃
度のピーク値が減少し始めるときのｔBFをｔBF2 として
測定する。そして、ｔBF1 とｔBF2 との中央をバックフ
ラッシュ時間ｔBF0 として設定する。
ピークのずれを考慮し、また非測定ガスの次成分および
その濃度も考慮に入れて、最適なバックフラッシュ時間
を設定する。 【構成】 測定ガスの最終成分（ＣＨ4 ）と非測定ガス
の次成分（ＣＯ2 ）とを混合したガスを準備する。ＣＨ
4 は低濃度（５％）、ＣＯ2 は高濃度（９５％）とす
る。バックフラッシュ時間ｔBFを長くして、上記混合ガ
スをメインカラムに導いて各ガス成分に分離し、これら
各ガス成分の濃度を検出する。この検出動作をｔBFを徐
々に短くしながら繰り返し、ＣＯ2 の濃度のピーク値が
零となるときのｔBFをｔBF1 として測定し、ＣＨ4 の濃
度のピーク値が減少し始めるときのｔBFをｔBF2 として
測定する。そして、ｔBF1 とｔBF2 との中央をバックフ
ラッシュ時間ｔBF0 として設定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、カラム内に充填され
た充填剤とガスとの吸着性の差を利用してガス分析を行
うガスクロマトグラフに関し、特に、キャリアガスとサ
ンプルガスとの混合ガスをメインカラムに導く一方、適
当に定められたバックフラッシュ時間で非測定ガスをメ
インカラムへ導かれる前に廃棄するバックフラッシュタ
イプのガスクロマトグラフにおけるバックフラッシュ時
間の設定方法に関するものである。
た充填剤とガスとの吸着性の差を利用してガス分析を行
うガスクロマトグラフに関し、特に、キャリアガスとサ
ンプルガスとの混合ガスをメインカラムに導く一方、適
当に定められたバックフラッシュ時間で非測定ガスをメ
インカラムへ導かれる前に廃棄するバックフラッシュタ
イプのガスクロマトグラフにおけるバックフラッシュ時
間の設定方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】石油化学プロセスや鉄鋼プロセスなどに
おいてプロセスガスの成分分析を行い、その分析結果に
基づいて各プロセス工程を監視したり、各種制御を行っ
たりするための検出装置として、ガスクロマトグラフが
従来から一般に用いられている。
おいてプロセスガスの成分分析を行い、その分析結果に
基づいて各プロセス工程を監視したり、各種制御を行っ
たりするための検出装置として、ガスクロマトグラフが
従来から一般に用いられている。
【０００３】図２は従来より採用されているバックフラ
ッシュタイプのガスクロマトグラフの基本構成を示す図
で、恒温槽を形成し所定温度に保持されるアナライザ本
体１、このアナライザ本体１内に配置されるサンプルバ
ルブ２，第１カラム（以下、バックフラッシュカラムと
呼ぶ）３−１，第２カラム（以下、メインカラムと呼
ぶ）３−２，検出器４，計量管５，抵抗カラム６、キャ
リアガス（ヘリウムガス，窒素ガスなど）ＣＧを所定圧
に減圧する減圧弁７等を備えている。
ッシュタイプのガスクロマトグラフの基本構成を示す図
で、恒温槽を形成し所定温度に保持されるアナライザ本
体１、このアナライザ本体１内に配置されるサンプルバ
ルブ２，第１カラム（以下、バックフラッシュカラムと
呼ぶ）３−１，第２カラム（以下、メインカラムと呼
ぶ）３−２，検出器４，計量管５，抵抗カラム６、キャ
リアガス（ヘリウムガス，窒素ガスなど）ＣＧを所定圧
に減圧する減圧弁７等を備えている。
【０００４】このガスクロマトグラフでは、測定時にサ
ンプルバルブ２の流路を図示破線の状態から実線の状態
に切り替えることにより、計量管５によって分取した測
定すべきサンプルガスＳＧをキャリアガスＣＧと混合し
てカラム３−１，３−２に送り込み、このカラム３−
１，３−２内で各ガス成分を分離しながら検出器４へ給
送し、この検出器４により各ガス成分の熱伝導度を測定
し、この測定した熱伝導度に基づき各ガス成分の濃度を
検出する。
ンプルバルブ２の流路を図示破線の状態から実線の状態
に切り替えることにより、計量管５によって分取した測
定すべきサンプルガスＳＧをキャリアガスＣＧと混合し
てカラム３−１，３−２に送り込み、このカラム３−
１，３−２内で各ガス成分を分離しながら検出器４へ給
送し、この検出器４により各ガス成分の熱伝導度を測定
し、この測定した熱伝導度に基づき各ガス成分の濃度を
検出する。
【０００５】すなわち、サンプルバルブ２の流路を破線
の状態から実線の状態に切り替えると、キャリアガスＣ
Ｇが計量管５へ送られ、計量管５中のサンプルガスＳＧ
と混合され、この混合ガスがカラム３−１，３−２へ導
かれて、固定相に対する各成分の吸着性（親和性）や分
配係数の差異に基づく移動速度の差を利用して各ガス成
分に分離され、この分離された各ガス成分が検出器４へ
給送される。
の状態から実線の状態に切り替えると、キャリアガスＣ
Ｇが計量管５へ送られ、計量管５中のサンプルガスＳＧ
と混合され、この混合ガスがカラム３−１，３−２へ導
かれて、固定相に対する各成分の吸着性（親和性）や分
配係数の差異に基づく移動速度の差を利用して各ガス成
分に分離され、この分離された各ガス成分が検出器４へ
給送される。
【０００６】ここで、サンプルガスＳＧには分析を必要
としない共存成分（重質量成分）が含まれており、この
共存成分（非測定ガス）が通過するとメインカラム３−
２が劣化する虞れがある。このため、非測定ガスは、メ
インカラム３−２へ導かれる前に廃棄する。すなわち、
測定ガスの最終成分がバックフラッシュカラム３−１を
通過した直後の所定のタイミングをバックフラッシュ時
間として適当に定め、このバックフラッシュ時間でサン
プルバルブ２の流路を図３に示す破線の状態から実線の
状態に切り替える。これにより、キャリアガスＣＧによ
って、不要な非測定ガスがバックフラッシュカラム３−
１内を戻されて廃棄される。このとき、メインカラム３
−２には、バックフラッシュカラム３−１と同一抵抗値
の抵抗カラム６を経て、キャリアガスＣＧが継続して与
えられる。これによって、必要とされるガス成分のみが
メインカラム３−２を経て、検出器４へ給送されるもの
となる。また、このとき、計量管５にはサンプルガスＳ
Ｇが送り込まれ、次の測定に備える。
としない共存成分（重質量成分）が含まれており、この
共存成分（非測定ガス）が通過するとメインカラム３−
２が劣化する虞れがある。このため、非測定ガスは、メ
インカラム３−２へ導かれる前に廃棄する。すなわち、
測定ガスの最終成分がバックフラッシュカラム３−１を
通過した直後の所定のタイミングをバックフラッシュ時
間として適当に定め、このバックフラッシュ時間でサン
プルバルブ２の流路を図３に示す破線の状態から実線の
状態に切り替える。これにより、キャリアガスＣＧによ
って、不要な非測定ガスがバックフラッシュカラム３−
１内を戻されて廃棄される。このとき、メインカラム３
−２には、バックフラッシュカラム３−１と同一抵抗値
の抵抗カラム６を経て、キャリアガスＣＧが継続して与
えられる。これによって、必要とされるガス成分のみが
メインカラム３−２を経て、検出器４へ給送されるもの
となる。また、このとき、計量管５にはサンプルガスＳ
Ｇが送り込まれ、次の測定に備える。
【０００７】このようなガスクロマトグラフにおいて、
バックフラッシュ時間の設定は、測定ガスの最終成分の
１００％ガスをバックフラッシュタイム設定用ガスとし
て、次のようにして行っている。すなわち、最初はバッ
クフラッシュ時間を長くして、バックフラッシュタイム
設定用ガスを流し、このバックフラッシュタイム設定用
ガスの濃度を検出する。この検出動作は、バックフラッ
シュ時間を徐々に短くしながら繰り返し、バックフラッ
シュタイム設定用ガスの濃度のピーク値が減少し始める
時点（図４に示すｔ１時点）を見つける。すなわち、測
定ガスの最終成分が廃棄され始め、濃度を示すピークの
高さｈが減少し始める時点ｔ１を見つける。そして、こ
の時点ｔ１を起点として数秒遅らせ、バックフラッシュ
時間ｔBF0 を設定する。
バックフラッシュ時間の設定は、測定ガスの最終成分の
１００％ガスをバックフラッシュタイム設定用ガスとし
て、次のようにして行っている。すなわち、最初はバッ
クフラッシュ時間を長くして、バックフラッシュタイム
設定用ガスを流し、このバックフラッシュタイム設定用
ガスの濃度を検出する。この検出動作は、バックフラッ
シュ時間を徐々に短くしながら繰り返し、バックフラッ
シュタイム設定用ガスの濃度のピーク値が減少し始める
時点（図４に示すｔ１時点）を見つける。すなわち、測
定ガスの最終成分が廃棄され始め、濃度を示すピークの
高さｈが減少し始める時点ｔ１を見つける。そして、こ
の時点ｔ１を起点として数秒遅らせ、バックフラッシュ
時間ｔBF0 を設定する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のバックフラッシュ時間の設定方法によると、
一般に、高濃度ガスよりも低濃度ガスの方がピークの出
現が遅れるという現象があり、設定したバックフラッシ
ュ時間ｔBF0 が最適でなくるという虞れがあった。すな
わち、図５に破線で示すように、高濃度ガスのピーク
（ｈ１）に対して低濃度ガスのピーク（ｈ２）の出現が
遅れ、測定ガスの最終成分が低濃度である場合その一部
が廃棄されてしまう虞れがあった。また、測定ガスの最
終成分に続く非測定ガスの次成分を考慮に入れていない
ため、図６に非測定ガスの次成分の出現状況を破線で示
すように、非測定ガスの次成分の一部が廃棄されない虞
れがあった。また、測定ガスの最終成分の１００％ガス
（高濃度ガス）をバックフラッシュタイム設定用ガスと
しているため、測定ガスの最終成分が廃棄され始める時
点ｔ１を見つけるに際し、その最終成分のピークの減少
が低濃度ガスで行う場合よりも明解に現れず、時点ｔ１
を正確に得ることができなかった。
うな従来のバックフラッシュ時間の設定方法によると、
一般に、高濃度ガスよりも低濃度ガスの方がピークの出
現が遅れるという現象があり、設定したバックフラッシ
ュ時間ｔBF0 が最適でなくるという虞れがあった。すな
わち、図５に破線で示すように、高濃度ガスのピーク
（ｈ１）に対して低濃度ガスのピーク（ｈ２）の出現が
遅れ、測定ガスの最終成分が低濃度である場合その一部
が廃棄されてしまう虞れがあった。また、測定ガスの最
終成分に続く非測定ガスの次成分を考慮に入れていない
ため、図６に非測定ガスの次成分の出現状況を破線で示
すように、非測定ガスの次成分の一部が廃棄されない虞
れがあった。また、測定ガスの最終成分の１００％ガス
（高濃度ガス）をバックフラッシュタイム設定用ガスと
しているため、測定ガスの最終成分が廃棄され始める時
点ｔ１を見つけるに際し、その最終成分のピークの減少
が低濃度ガスで行う場合よりも明解に現れず、時点ｔ１
を正確に得ることができなかった。
【０００９】本発明はこのような課題を解決するために
なされたもので、その目的とするところは、測定ガスの
最終成分の濃度の違いによるそのピークのずれを考慮
し、また非測定ガスの次成分およびその濃度も考慮に入
れて、最適なバックフラッシュ時間を設定することので
きるバックフラッシュ時間の設定方法を提供することに
ある。
なされたもので、その目的とするところは、測定ガスの
最終成分の濃度の違いによるそのピークのずれを考慮
し、また非測定ガスの次成分およびその濃度も考慮に入
れて、最適なバックフラッシュ時間を設定することので
きるバックフラッシュ時間の設定方法を提供することに
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、バックフラッシュタイム設定用ガ
スとしてメインカラムへ導かれる測定ガスの最終成分お
よびこれに続く非測定ガスの次成分をそれぞれ低濃度お
よび高濃度として混合したガスを準備し、バックフラッ
シュ時間を長くして、バックフラッシュタイム設定用ガ
スをメインカラムに導いて各ガス成分に分離し、これら
各ガス成分の濃度を検出器によって検出するものとし、
この検出動作をバックフラッシュ時間を徐々に短くしな
がら繰り返し、非測定ガスの次成分の濃度のピーク値が
零となるときのバックフラッシュ時間を第１のバックフ
ラッシュ時間として測定し、測定ガスの最終成分の濃度
のピーク値が減少し始めるときのバックフラッシュ時間
を第２のバックフラッシュ時間として測定し、この第１
のバックフラッシュ時間と第２のバックフラッシュ時間
とに基づき最適なバックフラッシュ時間を決定するよう
にしたものである。
るために、本発明は、バックフラッシュタイム設定用ガ
スとしてメインカラムへ導かれる測定ガスの最終成分お
よびこれに続く非測定ガスの次成分をそれぞれ低濃度お
よび高濃度として混合したガスを準備し、バックフラッ
シュ時間を長くして、バックフラッシュタイム設定用ガ
スをメインカラムに導いて各ガス成分に分離し、これら
各ガス成分の濃度を検出器によって検出するものとし、
この検出動作をバックフラッシュ時間を徐々に短くしな
がら繰り返し、非測定ガスの次成分の濃度のピーク値が
零となるときのバックフラッシュ時間を第１のバックフ
ラッシュ時間として測定し、測定ガスの最終成分の濃度
のピーク値が減少し始めるときのバックフラッシュ時間
を第２のバックフラッシュ時間として測定し、この第１
のバックフラッシュ時間と第２のバックフラッシュ時間
とに基づき最適なバックフラッシュ時間を決定するよう
にしたものである。
【００１１】
【作用】したがってこの発明によれば、バックフラッシ
ュタイム設定用ガスとして、測定ガスの最終成分および
非測定ガスの次成分をそれぞれ低濃度（例えば、５％）
および高濃度（例えば、９５％）として混合したガスが
使用される。これにより、特殊な場合を除いて、非測定
ガスの次成分が低濃度である場合よりも早い時点で第１
のバックフラッシュ時間が見つかり、測定ガスの最終成
分が高濃度である場合よりも遅い時点で且つ正確に第２
のバックフラッシュ時間が見つかる。
ュタイム設定用ガスとして、測定ガスの最終成分および
非測定ガスの次成分をそれぞれ低濃度（例えば、５％）
および高濃度（例えば、９５％）として混合したガスが
使用される。これにより、特殊な場合を除いて、非測定
ガスの次成分が低濃度である場合よりも早い時点で第１
のバックフラッシュ時間が見つかり、測定ガスの最終成
分が高濃度である場合よりも遅い時点で且つ正確に第２
のバックフラッシュ時間が見つかる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明す
る。本実施例は図２に示したバックフラッシュタイプの
ガスクロマトグラフに適用される。
る。本実施例は図２に示したバックフラッシュタイプの
ガスクロマトグラフに適用される。
【００１３】先ず、バックフラッシュタイム設定用ガス
として、メインカラム３−２へ導かれる測定ガスの最終
成分（例えば、ＣＨ4 ）とこれに続く非測定ガスの次成
分（例えば、ＣＯ2 ）とを混合したガスを準備する。こ
の場合、測定ガスの最終成分は低濃度（５％）とし、非
測定ガスの次成分は高濃度（９５％）とする。
として、メインカラム３−２へ導かれる測定ガスの最終
成分（例えば、ＣＨ4 ）とこれに続く非測定ガスの次成
分（例えば、ＣＯ2 ）とを混合したガスを準備する。こ
の場合、測定ガスの最終成分は低濃度（５％）とし、非
測定ガスの次成分は高濃度（９５％）とする。
【００１４】そして、バックフラッシュ時間を長くし
て、バックフラッシュタイム設定用ガスをサンプルガス
ＳＧとして計量管５へ与え、このバックフラッシュタイ
ム設定用ガスＳＧをキャリアガス（ヘリウムガス）ＣＧ
と混合し、この混合ガスをバックフラッシュカラム３−
１に続きメインカラム３−２に導いて各ガス成分に分離
し、これら各ガス成分の濃度を検出器４によって検出す
る。すなわち、図１（ａ）に示すように、バックフラッ
シュ時間ｔBFを長くして、バックフラッシュタイム設定
用ガスの全ガス成分についてその濃度を検出する。
て、バックフラッシュタイム設定用ガスをサンプルガス
ＳＧとして計量管５へ与え、このバックフラッシュタイ
ム設定用ガスＳＧをキャリアガス（ヘリウムガス）ＣＧ
と混合し、この混合ガスをバックフラッシュカラム３−
１に続きメインカラム３−２に導いて各ガス成分に分離
し、これら各ガス成分の濃度を検出器４によって検出す
る。すなわち、図１（ａ）に示すように、バックフラッ
シュ時間ｔBFを長くして、バックフラッシュタイム設定
用ガスの全ガス成分についてその濃度を検出する。
【００１５】この検出動作をバックフラッシュ時間ｔBF
を徐々に短くしながら繰り返し、非測定ガスの次成分Ｃ
Ｏ2 の濃度のピーク値が零となるときのバックフラッシ
ュ時間を第１のバックフラッシュ時間ｔBF1 として測定
し（図１（ｂ）参照）、測定ガスの最終成分ＣＨ4 の濃
度のピーク値が減少し始めるときのバックフラッシュ時
間を第２のバックフラッシュ時間ｔBF2 として測定する
（図１（ｃ）参照）。そして、第１のバックフラッシュ
時間ｔBF1 と第２のバックフラッシュ時間ｔBF 2 との例
えば中央をバックフラッシュ時間ｔBF0 として設定する
（図１（ｄ）参照）。
を徐々に短くしながら繰り返し、非測定ガスの次成分Ｃ
Ｏ2 の濃度のピーク値が零となるときのバックフラッシ
ュ時間を第１のバックフラッシュ時間ｔBF1 として測定
し（図１（ｂ）参照）、測定ガスの最終成分ＣＨ4 の濃
度のピーク値が減少し始めるときのバックフラッシュ時
間を第２のバックフラッシュ時間ｔBF2 として測定する
（図１（ｃ）参照）。そして、第１のバックフラッシュ
時間ｔBF1 と第２のバックフラッシュ時間ｔBF 2 との例
えば中央をバックフラッシュ時間ｔBF0 として設定する
（図１（ｄ）参照）。
【００１６】すなわち、本実施例によれば、バックフラ
ッシュカラム３−１を測定ガスの最終成分ＣＨ4 が抜け
てからこれに続く非測定ガスの次成分ＣＯ2 が抜けるま
での時間帯にバックフラッシュ時間ＴBF0 が設定され
る。ここで、測定ガスの最終成分ＣＨ4 は低濃度（５
％）とされ、非測定ガスの次成分ＣＯ2 は高濃度（９５
％）とされている。このため、本実施例において、第１
のバックフラッシュ時間ｔBF 1 は非測定ガスの次成分Ｃ
Ｏ2 が低濃度である場合のｔBF1 ’よりも早い時点で見
つかり、第２のバックフラッシュ時間ｔBF2 は測定ガス
の最終成分ＣＨ4 が高濃度である場合のｔBF2 ’よりも
遅い時点で見つかる。
ッシュカラム３−１を測定ガスの最終成分ＣＨ4 が抜け
てからこれに続く非測定ガスの次成分ＣＯ2 が抜けるま
での時間帯にバックフラッシュ時間ＴBF0 が設定され
る。ここで、測定ガスの最終成分ＣＨ4 は低濃度（５
％）とされ、非測定ガスの次成分ＣＯ2 は高濃度（９５
％）とされている。このため、本実施例において、第１
のバックフラッシュ時間ｔBF 1 は非測定ガスの次成分Ｃ
Ｏ2 が低濃度である場合のｔBF1 ’よりも早い時点で見
つかり、第２のバックフラッシュ時間ｔBF2 は測定ガス
の最終成分ＣＨ4 が高濃度である場合のｔBF2 ’よりも
遅い時点で見つかる。
【００１７】したがって、本実施例において、バックフ
ラッシュ時間ＴBF0 は、測定ガスの最終成分ＣＨ4 およ
び非測定ガスの次成分ＣＯ2 の濃度によってその最適性
が損なわれることのない値となる。また、本実施例によ
れば、測定ガスの最終成分ＣＨ4 を低濃度（５％）とし
ているため、高濃度（１００％）の場合と比較してピー
クの減少が明解に現れるものとなり、バックフラッシュ
時間ｔBF2 を正確に得ることができる。
ラッシュ時間ＴBF0 は、測定ガスの最終成分ＣＨ4 およ
び非測定ガスの次成分ＣＯ2 の濃度によってその最適性
が損なわれることのない値となる。また、本実施例によ
れば、測定ガスの最終成分ＣＨ4 を低濃度（５％）とし
ているため、高濃度（１００％）の場合と比較してピー
クの減少が明解に現れるものとなり、バックフラッシュ
時間ｔBF2 を正確に得ることができる。
【００１８】なお、上述した実施例においては、第１の
バックフラッシュ時間ｔBF1 と第２のバックフラッシュ
時間ｔBF2 との中央をバックフラッシュ時間ＴBF0 とし
て設定したが、ｔBF1 とｔBF2 との中央に限られるもの
でないことは言うまでもない。
バックフラッシュ時間ｔBF1 と第２のバックフラッシュ
時間ｔBF2 との中央をバックフラッシュ時間ＴBF0 とし
て設定したが、ｔBF1 とｔBF2 との中央に限られるもの
でないことは言うまでもない。
【００１９】また、上述した実施例では、キャリアガス
をヘリウムガスとし測定ガスの最終成分をＣＨ4 として
説明したが、キャリアガスが窒素ガスで測定ガスの最終
成分が水素ガスであるような場合には、すなわち高濃度
よりも低濃度の方が測定ガスの最終成分の濃度のピーク
の出現が早まるような特殊な場合には、バックフラッシ
ュタイム設定用ガスとして、測定ガスの最終成分および
非測定ガスの次成分をそれぞれ高濃度（９５％）および
低濃度（５％）として混合したガスを使用する。これに
より、測定ガスの最終成分（水素ガス）が低濃度である
場合よりも遅い時点で第２のバックフラッシュ時間ｔ
BF2 が見つかる。
をヘリウムガスとし測定ガスの最終成分をＣＨ4 として
説明したが、キャリアガスが窒素ガスで測定ガスの最終
成分が水素ガスであるような場合には、すなわち高濃度
よりも低濃度の方が測定ガスの最終成分の濃度のピーク
の出現が早まるような特殊な場合には、バックフラッシ
ュタイム設定用ガスとして、測定ガスの最終成分および
非測定ガスの次成分をそれぞれ高濃度（９５％）および
低濃度（５％）として混合したガスを使用する。これに
より、測定ガスの最終成分（水素ガス）が低濃度である
場合よりも遅い時点で第２のバックフラッシュ時間ｔ
BF2 が見つかる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によると、バックフラッシュタイム設定用ガスと
して、測定ガスの最終成分および非測定ガスの次成分を
それぞれ低濃度（例えば、５％）および高濃度（例え
ば、９５％）として混合したガスが使用され、これによ
り、特殊な場合を除いて、非測定ガスの次成分が低濃度
である場合よりも早い時点で第１のバックフラッシュ時
間が見つかり、測定ガスの最終成分が高濃度である場合
よりも遅い時点で且つ正確に第２のバックフラッシュ時
間が見つかり、測定ガスの最終成分および非測定ガスの
次成分の濃度によってその最適性が損なわれることのな
いバックフラッシュ時間を決定することができるように
なる。
本発明によると、バックフラッシュタイム設定用ガスと
して、測定ガスの最終成分および非測定ガスの次成分を
それぞれ低濃度（例えば、５％）および高濃度（例え
ば、９５％）として混合したガスが使用され、これによ
り、特殊な場合を除いて、非測定ガスの次成分が低濃度
である場合よりも早い時点で第１のバックフラッシュ時
間が見つかり、測定ガスの最終成分が高濃度である場合
よりも遅い時点で且つ正確に第２のバックフラッシュ時
間が見つかり、測定ガスの最終成分および非測定ガスの
次成分の濃度によってその最適性が損なわれることのな
いバックフラッシュ時間を決定することができるように
なる。
【図１】本発明に係るバックフラッシュ時間の設定方法
を適用してのバックフラッシュ時間ｔBF0 の設定過程を
説明するための図である。
を適用してのバックフラッシュ時間ｔBF0 の設定過程を
説明するための図である。
【図２】従来より採用されているバックフラッシュタイ
プのガスクロマトグラフの基本構成を示す図である。
プのガスクロマトグラフの基本構成を示す図である。
【図３】このガスクロマトグラフにおいてサンプルバル
ブの流路をバックフラッシュ時間で切り替えた状況を示
す図である。
ブの流路をバックフラッシュ時間で切り替えた状況を示
す図である。
【図４】従来のバックフラッシュ時間ｔBF0 の設定過程
を説明するための図である。
を説明するための図である。
【図５】従来方法において測定ガスの最終成分の一部が
廃棄される状況を説明する図である。
廃棄される状況を説明する図である。
【図６】従来方法において非測定ガスの次成分の一部が
廃棄されない状況を説明する図である。
廃棄されない状況を説明する図である。
１ アナライザ本体 ２ サンプルバルブ ３−１ 第１カラム（バックフラッシュカラム） ３−２ 第２カラム（メインカラム） ４ 検出器 ５ 計量管 ＣＧ キャリアガス ＳＧ サンプルガス ｔBF1 第１のバックフラッシュ時間 ｔBF2 第２のバックフラッシュ時間 ｔBF0 バックフラッシュ時間
Claims (2)
- 【請求項１】 キャリアガスをサンプルガスと混合し、
この混合ガスをメインカラムに導いて各ガス成分に分離
し、これら各ガス成分の濃度を検出器によって検出する
一方、適当に定められたバックフラッシュ時間で前記混
合ガスに含まれる非測定ガス成分を前記メインカラムへ
導かれる前に廃棄するバックフラッシュタイプのガスク
ロマトグラフにおいて、 バックフラッシュタイム設定用ガスとして前記メインカ
ラムへ導かれる測定ガスの最終成分およびこれに続く非
測定ガスの次成分をそれぞれ低濃度および高濃度として
混合したガスを準備し、 前記バックフラッシュ時間を長くして、前記バックフラ
ッシュタイム設定用ガスをメインカラムに導いて各ガス
成分に分離し、これら各ガス成分の濃度を検出器によっ
て検出するものとし、 この検出動作を前記バックフラッシュ時間を徐々に短く
しながら繰り返し、 前記非測定ガスの次成分の濃度のピーク値が零となると
きのバックフラッシュ時間を第１のバックフラッシュ時
間として測定し、 前記測定ガスの最終成分の濃度のピーク値が減少し始め
るときのバックフラッシュ時間を第２のバックフラッシ
ュ時間として測定し、 この第１のバックフラッシュ時間と第２のバックフラッ
シュ時間とに基づき最適なバックフラッシュ時間を決定
するようにしたことを特徴とするバックフラッシュ時間
の設定方法。 - 【請求項２】 請求項１において、キャリアガスが窒素
ガスで測定ガスの最終成分が水素ガスである場合、バッ
クフラッシュタイム設定用ガスとして、測定ガスの最終
成分（水素ガス）およびこれに続く非測定ガスの次成分
を高濃度および低濃度として混合したガスを使用するよ
うにしたことを特徴とするバックフラッシュ時間の設定
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17469493A JPH0712794A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | バックフラッシュ時間の設定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17469493A JPH0712794A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | バックフラッシュ時間の設定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0712794A true JPH0712794A (ja) | 1995-01-17 |
Family
ID=15983046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17469493A Pending JPH0712794A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | バックフラッシュ時間の設定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0712794A (ja) |
-
1993
- 1993-06-23 JP JP17469493A patent/JPH0712794A/ja active Pending
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