JPH07122020A - 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】スライダの浮上面がイオンミル法やサンドブラ
スト法などのドライ研摩法で形成される薄膜磁気ヘッド
とその製造方法に関し、マスク上からドライ研摩を行な
うことで浮上レールを形成する薄膜磁気ヘッドにおい
て、マスクの剥離に起因する浮上レールの形状不良やス
テップ露光時のマスクずれに起因する浮上レールの形状
不良を未然に防止することを目的とする。 【構成】フォトレジストのマスクの上からイオンミル法
やサンドブラスト法などのドライ研摩法で磁気ヘッドス
ライダの浮上面が形成されてなる薄膜磁気ヘッドにおい
て、浮上レールの少なくとも流入端ｉ側が、スライダの
端縁より内側に引っ込めて形成されている構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置にお
ける記録／再生用の薄膜磁気ヘッドとその製造方法、特
にスライダの浮上面がイオンミル法やサンドブラスト法
などのドライ研摩法で形成される薄膜磁気ヘッドとその
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】

〔在来の薄膜磁気ヘッドとその製造方法〕図９は磁気デ
ィスク装置の全容を示す斜視図であり、磁気ディスク１
はベース２に対し回転可能に実装されているが、磁気ヘ
ッド３の位置決め機構（キャリッジ）４側は、実装前の
状態である。キャリッジ４の回転軸５に連結された駆動
アーム６に、スプリングアーム７を介して磁気ヘッド３
が支持されている。

【０００３】キャリッジ４がネジ８でベース２上に実装
された状態で、回転軸５が往復回転すると、磁気ヘッド
３が磁気ディスク１の半径方向に移動して、目的のトラ
ックにシークされる。

【０００４】図１０は磁気ヘッド３を拡大して示す斜視
図であり、薄膜磁気ヘッドは、スライダ部９とヘッド素
子部１０とで構成され、ヘッド素子部１０は成膜技術と
リソグラフィ技術によって積層形成される。１１は記録
／再生コイルの端子、１２は記録／再生用のギャップで
ある。

【０００５】スライダ９は、磁気ディスク面から微小隙
間だけ安定浮上できるように、２本の浮上レール１３、
１４が形成されており、図１１のようにスライダ９が磁
気ディスク１と対向した状態で、磁気ディスク１が矢印
a₁方向に高速回転すると、浮上レール１３、１４の流入
斜面１３ｓ、１４ｓから流入した空気の圧力で微小隙間
Ｇだけ浮上する。

【０００６】図１２は薄膜磁気ヘッドの量産方法を示す
斜視図であり、基板１５上にマトリックス状に多数のヘ
ッド素子部１０を薄膜技術で形成した後、切断線１６の
位置で１列ごとに分離してスライダのブロック１７を形
成する。このブロックの状態で、図１３のように溝１
８、１９を機械加工によって研削形成し、浮上レール１
３、１４を形成した後、切断線２０の位置で１個ずつ分
離して、図１１のスプリングアーム７に貼り付ける。

【０００７】ところで、このような従来の薄膜磁気ヘッ
ドでは、近年の磁気ディスク装置の小型化、高記録密度
化に対応できず、磁気ヘッドの一層の小型化が要請され
ており、超小型の浮上型磁気ヘッドが実用化されてい
る。磁気ヘッドが超小型になるに伴い、スライダも超小
型となるため、浮上レールも在来の単純な直線状の形状
に代わって、図１４に例示するような折れ線状や曲線
状、島状などの複雑な形状が採用されている。

【０００８】〔ドライ研摩による浮上レール形成方法〕
図１４において、（ａ）は浮上面を上にした平面図、
（ｂ）は正面図、（ｃ）は右側面図、（ｄ）はヘッド素
子部の記録／再生ギャップ部付近の拡大断面図であり、
主要部の寸法は図に記入のとおりである。２１はスライ
ダ部であり、流出端Ｏ側の側面にヘッド素子部22が積層
形成されている。図示例では、（ｄ）図のように、スラ
イダ２１の流出端Ｏ側の側面に下部保護層２３を積層
し、その上にＭＲ（磁気抵抗効果）素子２４と図１０に
示した従来の薄膜ヘッド素子１０を積層形成し、両者に
よって複合ヘッド素子部22を構成している。

【０００９】そして、ＭＲ素子２４と薄膜ヘッド素子１
０のギャップ１２が磁気ディスクと対向した状態で、該
ギャップ１２で磁気ディスクに情報を記録し、記録され
ている情報をＭＲ素子２４によって読み取る。

【００１０】ところで、（ａ）図に示すように、浮上レ
ールは、左右の互いにほぼ平行のレール２５、２６と、
流入端ｉ側において両レール２５、２６間に島状に形成
されたセンター前レール２７と、流出端Ｏ側において両
レール２５、２６間に島状に形成されたセンター後レー
ル２８とからなっている。

【００１１】この浮上面が磁気ディスクと対向すると、
空気は矢印a₂、a₃、a₄の順に流れる。その結果、流入端
ｉ側において、両レール２５、２６およびセンター前レ
ール２７の間から流入した空気が、中央の前後のセンタ
ーレール２７、２８間で負圧となって、スライダ２１が
磁気ディスク面に吸引される。

【００１２】このようにスライダが負圧で磁気ディスク
面に吸引されるように、流体力学的にスライダの浮上面
が設計されているため、浮上レールの形状が複雑とな
り、従来のような機械的な研摩加工では浮上レール形成
が不可能である。そこで、フォトリソグラフィ技術を用
いた新加工方法が近年導入されている。すなわち、フォ
トレジストのマスクの上からイオンミル法やサンドブラ
スト法などのドライ研摩法で浮上レールを形成する。

【００１３】図１５はドライ研摩法による薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法を工程順に示す図である。（ａ）図のよう
に、基板２９上に、ＭＲ素子と薄膜のヘッド素子部を重
ねて形成してなる複合ヘッド素子部22をマトリックス状
に多数形成した後、（ｂ）図のようにヘッド素子部22を
１列ごとに分離してスライダのブロック３０を形成する
までは、図１２に示す従来法と同じである。

【００１４】次に、（ｃ）図のように、各スライダブロ
ック３０のヘッド素子部22側を横向きにし、浮上レール
形成面を上にして、治具を用いて配列する。すなわち、
一括露光する場合は、Ｃ１図のように、２本のスライダ
ブロック３０、３０の入るスリット３１を多数形成した
位置合わせ板３２を用い、各スリット３１中で２本のス
ライダブロック３０のヘッド素子部22同士を突き合わせ
て接着固定する。

【００１５】次いで（ｄ）図のように、ドライレジスト
フィルム33を被せて熱ゴムローラで各スライダブロック
３０上に熱圧着する。この状態で、ガラスマスク34を被
せてすべてのスライダブロック３０上のレジストを一斉
に露光した後、現像すると、（ｅ）図のように浮上レー
ルと同じ形状のフォトレジストのマスク33ｍができ上が
る。

【００１６】（ｆ）図のように、真空中でこのマスク33
ｍ上からイオンミルまたはサンドブラストを行なうと、
マスク33ｍの存在しない領域が数μｍ程度削られ、マス
ク33ｍの下のみ凸状に残る。このマスク33ｍを除去する
と、（ｇ）図のように凸状の浮上レール２５〜２８が形
成される。各スライダブロック３０を位置合わせ板３２
から取り外し、（ｈ）図のように１個ずつ分離すると、
（ｉ）図のように薄膜磁気ヘッドが完成する。

【００１７】一方、ステップ露光の場合は、Ｃ２図のよ
うに位置決め板３５の窓穴３６中において、各スライダ
ブロック３０を同じ向きに揃えて配置する。この状態
で、全スライダブロック３０上に（ｄ）図のようにドラ
イレジストフィルム33を被せて熱ゴムローラで各スライ
ダブロック３０上に熱圧着した後、ステップ露光を行な
う。すなわち、スライダ１個分のガラスマスクを、各ス
ライダブロック３０のスライダ１個ごとに間欠移動させ
て、１個ずつ露光を行なう。すべてのスライダの露光が
終わると、現像を行ない、（ｅ）図以下の工程を経るこ
とで、（ｉ）図のようなスライダが完成する。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】このように各スライダ
ブロック３０上にドライレジストフィルムからなるマス
ク33ｍを貼りつけた状態で露光・現像するが、従来技術
では、図１５の（ｉ）図に示すように、浮上レール２
５、２６が流入端ｉ側も流出端Ｏ側も、スライダ２１の
前端および後端まで形成されている。このように、前後
の端縁まで浮上レール２５、２６を形成するには、当然
図１５（ｅ）におけるフォトレジストのマスク33ｍも、
スライダブロック３０の前後の端縁まで形成することに
なる。

【００１９】図１６（１）は、図１５（ｅ）のようにフ
ォトレジストのマスク33ｍをパターニングした後の斜視
図であり、パターニング後のマスク33ｍは、スライダ２
１の流入端ｉ側や流出端Ｏ側から37で示すように剥離す
る場合がある。その結果、このように端部が剥離した状
態のマスク33ｍの上からイオンミルなどの加工を行なう
と、図１６（２）に３８で示すように、マスク33ｍの剥
離部もイオンミルされてしまい、マスク33ｍの形状とは
異なった浮上レール形状となり、形状不良となる。

【００２０】前記のように、マスク33ｍの流入端ｉ側や
流出端Ｏ側の端部が剥離するのは、スライダの端縁にマ
スク33ｍの端縁が位置していると、現像液や洗浄液の作
用を強く受けるためである。

【００２１】また、図１５（Ｃ２）のように多数のスラ
イダブロック３０を並べて、個々のスライダごとに露光
を行なうステップ露光法の場合は、スライダブロック３
０の寸法誤差やマスク合わせの誤差などのために、図１
７（１）のように、スライダブロック３０１上にレジス
トパターン形成用のマスクパターン３４ａが位置合わせ
された後、隣接するスライダブロック３０２上に移動し
て位置合わせしたとき３４ｂの位置に来たとすると、両
スライダブロック３０１、３０２間において、部分的に
重なって露光されることになる。

【００２２】その結果、（２）図のように、露光／現像
した後のフォトレジストのマスクパターン３３ｍは、本
来の位置からずれた位置にパターニングされる。このマ
スク33ｍの上からドライ研摩を行ない、各スライダブロ
ックごとに分離すると、（３）図のようにスライダブロ
ック３０１側も３０２側も、設計とは異なった浮上レー
ル２５、２６となり、形状不良を来す。

【００２３】本発明の技術的課題は、このような問題に
着目し、マスク上からドライ研摩を行なうことで浮上レ
ールを形成する薄膜磁気ヘッドにおいて、マスクの剥離
に起因する浮上レールの形状不良やステップ露光時のマ
スクずれに起因する浮上レールの形状不良を未然に防止
することにある。

【００２４】

【課題を解決するための手段】請求項１は、図１、図２
に例示するように、フォトレジストのマスクの上からイ
オンミル法やサンドブラスト法などのドライ研摩法で磁
気ヘッドスライダの浮上面が形成されてなる薄膜磁気ヘ
ッドにおいて、浮上レールの少なくとも流入端ｉ側が、
スライダ２１の端縁より内側に引っ込めて形成されてい
る薄膜磁気ヘッドである。浮上レールの流出端Ｏ側も、
スライダ端縁より内側に幾分引っ込めてもよい。

【００２５】請求項２以降は、薄膜磁気ヘッドの製造方
法である。請求項２は、フォトレジストのマスクの上か
らイオンミル法やサンドブラスト法などのドライ研摩法
で磁気ヘッドスライダの浮上面を形成する際に、フォト
レジストのマスクパターンをスライダの端縁より内側に
引っ込めて形成した状態で、該マスクの上からドライ研
摩を行なうことを特徴とする。

【００２６】請求項３は、ドライ研摩法で磁気ヘッドス
ライダの浮上面を形成する際に、スライダの少なくとも
流入端ｉ側において、浮上レール部のフォトレジストマ
スクパターンをスライダの端縁より内側に引っ込めて形
成した状態で、該マスクの上からドライ研摩を行なうこ
とを特徴とする。

【００２７】請求項４は、ドライ研摩法で磁気ヘッドス
ライダの浮上面を形成する際に、図４に例示するよう
に、複数のスライダが１列に連結したブロックを、それ
ぞれのスライダの流出端Ｏ側同士が対向するように密着
させた状態で、フォトレジストのマスクが、スライダの
流入端ｉ側ではスライダ縁端より内側に引っ込み、流出
端Ｏ側では互いに連続した形状に一括露光でパターニン
グし、このフォトレジストのマスクの上からドライ研摩
を行なうことを特徴とする。

【００２８】請求項５は、ドライ研摩法で磁気ヘッドス
ライダの浮上面を形成する際に、複数のスライダが１列
に連結したブロックを、図７に例示するように、それぞ
れのスライダの流出端Ｏ側が一定の方向に向くように配
列し、ステップ露光を行なう。このとき、スライダの少
なくとも流入端ｉ側におけるフォトレジストのマスクが
スライダ端縁より内側に引っ込んだ形状にパターニング
し、このフォトレジストのマスクの上からドライ研摩を
行なう。

【００２９】請求項６は、請求項４または５のフォトレ
ジストのマスクが、スライダの浮上レール形成用のマス
クであることを特徴とする。

【００３０】

【作用】請求項１のように、浮上レールの少なくとも流
入端ｉ側が、スライダ端縁より内側に引っ込めて形成さ
れていると、浮上レールをドライ研摩法で形成する際
に、フォトレジストのマスクもスライダ端縁より内側に
ずらしてパターニングできるので、マスクが剥離しにく
くなり、浮上レールの流入端側の形状不良を防止でき
る。

【００３１】請求項２のように、フォトレジストのマス
クパターンをスライダ端縁より内側に引っ込めて形成し
た状態で、該マスクの上からドライ研摩を行なう方法に
よると、マスクがスライダ端縁より内側にずれているた
め、マスク端縁が剥離しにくく、マスクパターンどおり
のドライ研摩が可能となる。

【００３２】請求項３のように、スライダの少なくとも
流入端側において、浮上レール部のフォトレジストマス
クパターンをスライダの端縁より内側に引っ込めて形成
した状態で、該マスクの上からドライ研摩を行なう方法
によると、浮上レール形成用のマスクの流入端側が剥離
困難となり、浮上レールの流入端側の形状不良を防止で
きる。

【００３３】請求項４のように、スライダブロックのス
ライダ流出端Ｏ側同士が対向するように密着させた状態
で、フォトレジストのマスクが、スライダの流入端ｉ側
ではスライダ縁端より内側に引っ込み、流出端Ｏ側では
互いに連続した形状に一括露光でパターニングし、この
フォトレジストのマスクの上からドライ研摩を行なう方
法によると、マスクの流入端側の剥離を抑制して、ドラ
イ研摩時の形状不良を防止でき、またヘッド素子部の有
る流出端Ｏ側では、マスクの剥離防止に加えて、ヘッド
素子部がドライ研摩の影響を受けるのを防止できる。

【００３４】請求項５のように、スライダブロックのス
ライダ流出端Ｏ側が一定の方向に向くように配列し、ス
テップ露光を行なう際に、スライダの少なくとも流入端
ｉ側におけるフォトレジストのマスクがスライダ端縁よ
り内側に引っ込んだ形状にパターニングし、このマスク
の上からドライ研摩を行なう方法によると、マスクの流
入端側の剥離を抑制することで、スライダの流入端側の
形状不良を未然に防止できる。

【００３５】請求項６のように、請求項４または５のフ
ォトレジストのマスクが、スライダの浮上レール形成用
のマスクであると、浮上レールの形状不良を防止でき
る。

【００３６】

【実施例】次に本発明による薄膜磁気ヘッドとその製造
方法が実際上どのように具体化されるかを実施例で説明
する。

【００３７】〔薄膜磁気ヘッドの実施例〕図１、図２は
本発明による薄膜磁気ヘッドの実施例である。図１は浮
上レールが、２本の浮上レール25、26のみで構成されて
いる例であり、浮上レール２５、２６の流入端ｉ側が、
スライダの端縁より内側に引っ込んで形成されている。

【００３８】図２は図１４に示すように流入端ｉ側およ
び流出端Ｏ側にセンターレール２７、２８を有するスラ
イダであり、この実施例の場合も、浮上レール２５、２
６およびセンター前レール２７の流入端ｉ側が、スライ
ダ端縁より内側に引っ込んで形成されている。

【００３９】図１、図２とも、ヘッド素子部22のある流
出端Ｏ側も、スライダ端縁より内側に後退した形状にし
てもよい。ヘッド素子部の記録／再生ギャップ１２はス
ライダ端縁より３０μｍ程度内側に形成されているの
で、浮上レールの流出端Ｏ側は、スライダ端縁より１０
μｍ程度内側に形成し、記録／再生ギャップ１２まで達
しないようにするのがよい。

【００４０】なお、浮上レールがスライダの両側の端縁
まで達するような形状を採用する場合も、浮上レールの
両側の端縁は、スライダ端縁より内側に後退した形に形
成するのがよい。スライダの浮上面側に、浮上レール以
外の機能を有するパターンを形成する場合も同様であ
る。

【００４１】〔一括露光法による製造方法〕図３〜図８
は、本発明による薄膜磁気ヘッドの製造方法を例示する
図であり、図３〜図５は一括露光法の場合、図６〜図８
はステップ露光法の場合である。図３はスライダブロッ
クの位置合わせ状態であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は
右側面図である。スライダブロック３０よりわずかに低
い金属板３２に、２本のスライダブロックが入る多数の
スリット３１を高精度に一定のピッチで形成し、定盤３
９上において、スリット３１中に２本のスライダブロッ
ク３０、３０を挿入し、精密に位置合わせして接着す
る。

【００４２】すなわち、図５の拡大図に示すように、２
本のスライダブロック３０、３０のヘッド素子部22側
（流出端Ｏ側）同士を突き合わせ、かつ間をフォトレジ
スト40などで接着する。また、両スライダブロック３
０、３０の浮上レール同士が揃うように位置合わせす
る。このように、スライダブロックを２本ずつ接着する
のは、スライダブロックの寸法誤差が累積して大きな位
置ずれが生じるのを防ぐためでもある。

【００４３】このようにして、実際には数十本のスリッ
ト３１中に、スライダブロックを位置合わせした状態
で、図15（ｄ）以下の方法でフォトレジストのフィルム
を接着し、ガラスマスクの上から一括露光を行ない、現
像する。このとき、本発明の方法により、図４（１）に
示すように、現像後のフォトレジストのマスク33ｍの形
状を、スライダの流入端ｉ側において、フォトレジスト
マスク33ｍの外端33m1をスライダの端縁２１ａより例え
ば２０μｍ程度内側に引っ込めて形成する。

【００４４】マスク33ｍの流出端Ｏ側、すなわち両ブロ
ックのフォトレジスト４０による接合部側も、スライダ
端縁より内側に引っ込めてもよいが、図示実施例では、
両スライダブロック３０、３０上のマスク33ｍ、33ｍが
連続するようなマスク形状にしている。

【００４５】このように、両方のスライダブロック３
０、３０にわたって浮上レール形成用のマスク33ｍ、33
ｍが連続していると、流出端Ｏ側におけるマスク剥離を
確実に防止できるほか、センター後レール２８を有する
場合は、センター後レール２８、２８のマスク28ｍ、28
ｍが連続しているために、ヘッド素子部の記録／再生ギ
ャップがドライ研摩時のイオンで削られるのを確実に防
止できる。

【００４６】また、図５に示すように、両スライダブロ
ック３０、３０間がフォトレジスト４０で接着され、ヘ
ッド素子部22すなわちスライダの流出端Ｏ側の側面がレ
ジスト４０で覆われているので、ドライ研摩されたり、
イオンミル時にスパッタされた粒子が再付着するのを防
止できる。なお、４１はイオンミル時のイオンの移動を
示し、４２はイオンミル時にスパッタされた粒子の再付
着物を示す。

【００４７】図４（１）のように形成されたマスク33ｍ
の上から、イオンミルを行ない、例えば３０μｍ程度の
深さまで研摩すると、（２）図のように、浮上レール２
５、２６の流入端ｉ側の端部２５ｉ、２６ｉが、スライ
ダの端縁から内側に２０μｍ程度後退した形状となる。
イオンミルの後、アセトンなどのエッチング液でスライ
ダブロック３０、３０間のフォトレジスト４０を溶かし
去り、両スライダブロック３０、３０を分離する。その
結果、（３）図のように、浮上レール２５、２６の流出
端Ｏ側の端部２５ｏ、２６ｏは、スライダの端縁まで、
すなわちヘッド素子部22の上まで延びた形状となり、流
入端ｉ側とは異なる。

【００４８】このように流出端Ｏ側は、スライダ端縁ま
で浮上レール25、26が存在しているが、図４（１）のよ
うに、両スライダブロック３０、３０間でマスク33ｍと
33ｍが連続しているので、マスクの流出端側が現像液や
洗浄液などで剥離することはない。したがって、浮上レ
ールの流出端側が形状不良となることもない。

【００４９】〔ステップ露光法による製造方法〕ステッ
プ露光法でパターニングする場合は、図６のようにスラ
イダブロック３０よりわずかに低い金属板で精密に直角
に形成された位置合わせ治具４３を定盤３９上に固定
し、このＬ字状の位置合わせ治具４３を基準にして、多
数のスライダブロック３０を精密に密着させて位置合わ
せ固定する。

【００５０】すなわち、図７の拡大図に示すように、各
スライダブロック３０…を一定方向に揃えて位置決めす
る。図示例では、各スライダブロック３０…の流入端ｉ
側が紙面の上向きとなるように配列してある。このよう
に配列されたスライダブロック３０…上に、図１５
（ｄ）以降の手法でフォトレジストのフィルムを接着
し、単一のスライダの浮上レール形状を有するガラスマ
スクを間欠移動して、順次スライダ１個ずつステップ露
光した後、一斉に現像すると、図７のように、流入端ｉ
側において、スライダ端縁より内側に20μｍ程度後退し
たレジストマスク33ｍが完成する。なお、流出端Ｏ側す
なわちヘッド素子部22側も、図示例では10μｍ程度後退
している。

【００５１】このマスク33ｍの上から、イオンミルを行
ない、マスク33ｍ以外の領域をドライ研摩する。その
後、アセトンなどのエッチング液で接着剤を溶かし去
り、各スライダブロック３０…を分離すると、図８のよ
うに浮上レール２５、２６の流入端ｉ側がスライダの端
縁から２０μｍ程度内側に後退し、流出端Ｏ側も１０μ
ｍ程度後退した形状となる。

【００５２】

【発明の効果】以上のように本発明の薄膜磁気ヘッドス
ライダは、浮上レールの少なくとも流入端側が、スライ
ダ端縁より内側に後退しているため、浮上レールをドラ
イ研摩形成する際のマスクをスライダ端縁より内側にず
らして形成できるので、マスクが剥離しにくくなり、浮
上レール流入端側などの形状不良を防止できる。

【００５３】また、本発明の薄膜磁気ヘッド製造方法に
よると、浮上レールなどを形成するためのマスクをスラ
イダ端縁より内側に後退させて形成し、該マスクの上か
らドライ研摩を行なうので、マスクの端縁が剥離しにく
く、浮上レール等をマスクパターンに忠実に形成でき
る。

【００５４】また、一括露光法で浮上レールなどを形成
する際に、スライダブロックのスライダ流出端側同士が
対向するように密着させ、ドライ研摩用のマスクが、ス
ライダ流入端側ではスライダ縁端より内側に後退し、流
出端側では互いに連続した形状とするため、マスクの流
入端側および流出端側の剥離を抑制して、ドライ研摩時
の形状不良を防止でき、しかもヘッド素子部がドライ研
摩の影響を受けるのを防止できる。

【００５５】また、ステップ露光法で浮上レール形成す
る際に、各スライダブロックを一定の向きに配列し、少
なくともスライダ流入端側におけるマスク端がスライダ
端縁より内側に後退した形状にパターニングし、このマ
スク上からドライ研摩するため、マスクの流入端側の剥
離が抑制され、スライダの浮上レール等の流入端ｉ側な
どの形状不良を未然に防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による薄膜磁気ヘッドの実施例を示す斜
視図である。

【図２】本発明による薄膜磁気ヘッドの別の実施例を示
す平面図である。

【図３】一括露光法によるスライダブロックの位置合わ
せ状態であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は右側面図であ
る。

【図４】一括露光法による浮上レール形成方法を工程順
に例示する平面図である。

【図５】一括露光法において２本のスライダブロックを
位置決めした状態の断面図である。

【図６】ステップ露光法によるスライダブロックの位置
合わせ状態であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は右側面図
である。

【図７】ステップ露光法による浮上レール形成方法を例
示する平面図である。

【図８】ステップ露光法で形成された浮上レール形状を
示すスライダブロック平面図である。

【図９】磁気ディスク装置の全容を示す斜視図である。

【図10】在来の薄膜磁気ヘッドを拡大して示す斜視図で
ある。

【図11】浮上型の薄膜磁気ヘッドで記録／再生を行なっ
ている状態の側面図である。

【図12】薄膜磁気ヘッドの量産方法を示す斜視図であ
る。

【図13】従来の薄膜磁気ヘッドの浮上レール加工方法を
示す正面図である。

【図14】近年開発された超小型の浮上型薄膜磁気ヘッド
である。

【図15】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を工程順に示
す図である。

【図16】従来の薄膜磁気ヘッド製造方法における問題点
を示す斜視図である。

【図17】従来の薄膜磁気ヘッド製造方法における別の問
題点を示す平面図である。

【符号の説明】

２１ スライダ ｉ スライダの流入端 Ｏ スライダの流出端 22 ヘッド素子部 25、26 浮上レール 27 センター前レール 28 センター後レール 30,301,302 スライダブロック 33ｍ フォトレジストからなるマスク ３７ マスクの剥離部 ３８ 浮上レールの過剰研摩による形状不良部 ４０ レジスト

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フォトレジストのマスクの上からイオン
   ミル法やサンドブラスト法などのドライ研摩法で磁気ヘ
   ッドスライダの浮上面が形成されてなる薄膜磁気ヘッド
   において、 浮上レールの少なくとも流入端（ｉ）側が、スライダの
   端縁より内側に引っ込めて形成されていることを特徴と
   する薄膜磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 フォトレジストのマスクの上からイオン
   ミル法やサンドブラスト法などのドライ研摩法で磁気ヘ
   ッドスライダの浮上面を形成する際に、 フォトレジストのマスクパターンをスライダの端縁より
   内側に引っ込めて形成した状態で、該マスクの上からド
   ライ研摩を行なうことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製
   造方法。
3. 【請求項３】 フォトレジストのマスクの上からイオン
   ミル法やサンドブラスト法などのドライ研摩法で磁気ヘ
   ッドスライダの浮上面を形成する際に、 スライダの少なくとも流入端（ｉ）側において、浮上レ
   ール部のフォトレジストマスクパターンをスライダの端
   縁より内側に引っ込めて形成した状態で、該マスクの上
   からドライ研摩を行なうことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
   ドの製造方法。
4. 【請求項４】 フォトレジストのマスクの上からイオン
   ミル法やサンドブラスト法などのドライ研摩法で磁気ヘ
   ッドスライダの浮上面を形成する際に、 複数のスライダが１列に連結したブロックを、それぞれ
   のスライダの流出端側同士が対向するように密着させた
   状態で、 フォトレジストのマスクが、スライダの流入端側ではス
   ライダ縁端より内側に引っ込み、流出端側では互いに連
   続した形状に一括露光でパターニングし、 このフォトレジストのマスクの上からドライ研摩を行な
   うことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
5. 【請求項５】 フォトレジストのマスクの上からイオン
   ミル法やサンドブラスト法などのドライ研摩法で磁気ヘ
   ッドスライダの浮上面を形成する際に、 複数のスライダが１列に連結したブロックを、それぞれ
   のスライダの流出端側が一定の方向に向くように配列
   し、ステップ露光を行なう際に、 スライダの少なくとも流入端側におけるフォトレジスト
   のマスクがスライダ端縁より内側に引っ込んだ形状にパ
   ターニングし、 このフォトレジストのマスクの上からドライ研摩を行な
   うことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
6. 【請求項６】 前記のフォトレジストのマスクが、スラ
   イダの浮上レール形成用のマスクであることを特徴とす
   る請求項４または５記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。