JPH07118284A - ソホロース誘導体 - Google Patents
ソホロース誘導体Info
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- JPH07118284A JPH07118284A JP3160092A JP16009291A JPH07118284A JP H07118284 A JPH07118284 A JP H07118284A JP 3160092 A JP3160092 A JP 3160092A JP 16009291 A JP16009291 A JP 16009291A JP H07118284 A JPH07118284 A JP H07118284A
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- sophorose
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 刺激性が著しく低く、安全で生分解性をもつ
界面活性剤として有用なソホロース誘導体の合成。 【構成】 次の一般式で表わされるソホロース誘導体。
（式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1はアルキレン基を示
し、Ｒ2はアルキル基又はベンジル基を示す）
界面活性剤として有用なソホロース誘導体の合成。 【構成】 次の一般式で表わされるソホロース誘導体。
（式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1はアルキレン基を示
し、Ｒ2はアルキル基又はベンジル基を示す）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はソホロース誘導体、その
製造方法及び界面活性剤に関するものである。
製造方法及び界面活性剤に関するものである。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】微生物が産生するバイオサ
ーファクタイトは、微生物の生育促進（油性の基質の取
り込みと酸素吸収の促進、代謝系の活性化）、生育環境
の確保や生理活性（抗菌、包接、生理機能の調節）など
本来の作用に加えて生体等の様々な界面の性質を変えた
り、独特のバイオコロイド系を形成するために、新規な
バイオケミカル素材として応用が期待されている。糖脂
質型バイオサーファクタントの範ちゅうの中に１９６１
年以来知られているソホロリピッドがある。酵母(Candi
da bombicola ATCC22214など)をブドウ糖と油脂(トリグ
リセリド)を炭素源として培養すると、発酵液中に多量
のソホロリピッド{例えば、D.G. Cooper and J.E. Zaji
c, Advances in Appl. Microbiology 26, 229〜253(198
0)}が産さるが、様々な化学構造をもつ同族体の混合物
で、油溶性を有する。そこで、本発明者は天然ソホロリ
ピッドの化学構造を模倣して化学合成により単一な化学
構造をもつ多数のソホロリピッド同族体を合成するとと
もに、水溶性から油溶性までHLBや界面化学的特性の異
なるバイオサーファクタントの製造と応用を行った。
ーファクタイトは、微生物の生育促進（油性の基質の取
り込みと酸素吸収の促進、代謝系の活性化）、生育環境
の確保や生理活性（抗菌、包接、生理機能の調節）など
本来の作用に加えて生体等の様々な界面の性質を変えた
り、独特のバイオコロイド系を形成するために、新規な
バイオケミカル素材として応用が期待されている。糖脂
質型バイオサーファクタントの範ちゅうの中に１９６１
年以来知られているソホロリピッドがある。酵母(Candi
da bombicola ATCC22214など)をブドウ糖と油脂(トリグ
リセリド)を炭素源として培養すると、発酵液中に多量
のソホロリピッド{例えば、D.G. Cooper and J.E. Zaji
c, Advances in Appl. Microbiology 26, 229〜253(198
0)}が産さるが、様々な化学構造をもつ同族体の混合物
で、油溶性を有する。そこで、本発明者は天然ソホロリ
ピッドの化学構造を模倣して化学合成により単一な化学
構造をもつ多数のソホロリピッド同族体を合成するとと
もに、水溶性から油溶性までHLBや界面化学的特性の異
なるバイオサーファクタントの製造と応用を行った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、合成法によ
り新規なソホロリピッド作用物質を製造する方法を提供
するとともに、その合成物を用いた界面活性剤を提供す
ることをその課題とする。
り新規なソホロリピッド作用物質を製造する方法を提供
するとともに、その合成物を用いた界面活性剤を提供す
ることをその課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。
【０００５】即ち、本発明によれば、下記一般式〔化
１〕、〔化２〕、〔化３〕、〔化４〕、〔化５〕又は
〔化６〕で表わされるソホロース誘導体及びその製造方
法が提供される。
１〕、〔化２〕、〔化３〕、〔化４〕、〔化５〕又は
〔化６〕で表わされるソホロース誘導体及びその製造方
法が提供される。
【０００６】
【化１】
【０００７】
【化２】
【０００８】
【化３】
【０００９】
【化４】
【００１０】
【化５】
【００１１】
【化６】
【００１２】（前記式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1は
アルキレン基を示し、Ｒ2はアルキル基又はベンジル基
を示す。）
アルキレン基を示し、Ｒ2はアルキル基又はベンジル基
を示す。）
【００１３】また、本発明によれば、前記〔化４〕、
〔化５〕又は〔化６〕で表わされるソホロース誘導体の
少なくとも１種からなる界面活性剤が提供される。
〔化５〕又は〔化６〕で表わされるソホロース誘導体の
少なくとも１種からなる界面活性剤が提供される。
【００１４】本発明のソホロース誘導体は、ソホロース
を出発物質として製造される。一般式〔化１〕で表わさ
れるソホロース誘導体は、ソホロースをアシル化剤と反
応させることにより製造される。このアシル化反応は従
来良く知られた反応であり、従来公知の方法に従って実
施することができる。アシル化剤としては、炭素数２〜
２２脂肪族のカルボン酸無水物の他、芳香族カルボン酸
無水物、脂肪式カルボン酸無水物が用いられる。
を出発物質として製造される。一般式〔化１〕で表わさ
れるソホロース誘導体は、ソホロースをアシル化剤と反
応させることにより製造される。このアシル化反応は従
来良く知られた反応であり、従来公知の方法に従って実
施することができる。アシル化剤としては、炭素数２〜
２２脂肪族のカルボン酸無水物の他、芳香族カルボン酸
無水物、脂肪式カルボン酸無水物が用いられる。
【００１５】一般式〔化２〕で表わされるソホロース誘
導体は、一般式〔化１〕で表わされるソホロース誘導体
にヒドラジン酢酸を反応させることによって製造され
る。この反応も従来公知の方法に従って実施される。こ
の反応によって、ソホロース誘導体の１位に結合するア
シル化水酸基のみを選択的に水酸基に変換することがで
きる。
導体は、一般式〔化１〕で表わされるソホロース誘導体
にヒドラジン酢酸を反応させることによって製造され
る。この反応も従来公知の方法に従って実施される。こ
の反応によって、ソホロース誘導体の１位に結合するア
シル化水酸基のみを選択的に水酸基に変換することがで
きる。
【００１６】一般式〔化３〕で表わされるソホロース誘
導体は、一般式〔化２〕で表わされるソホロース誘導体
に、トリクロロアセトニトリルを反応させることによっ
て製造される。この反応も従来公知の方法に従って実施
される。
導体は、一般式〔化２〕で表わされるソホロース誘導体
に、トリクロロアセトニトリルを反応させることによっ
て製造される。この反応も従来公知の方法に従って実施
される。
【００１７】一般式〔化４〕て表わされるソホロース誘
導体は、一般式〔化３〕で表わされるソホロース誘導体
に、一般式 ＨＯ−Ｒ1−ＣＯＯＲ2 （式中、Ｒ1はアルキレン基を示し、Ｒ2はアルキル基又
はベンジル基を示す）で表わされるω−ヒドロキシカル
ボン酸エステルを反応させることによって得られる。こ
の反応も従来公知の方法に従って実施される。前記ω−
ヒドロキシカルボン酸エステルにおいて、アルキレン基
としては炭素数１〜２２のアルキレン基、好ましくは炭
素数６以上の長鎖アルキレン基が好ましく用いられる。
また、Ｒ2のアルキル基としては、炭素数１〜８のアル
キル基が用いられる。
導体は、一般式〔化３〕で表わされるソホロース誘導体
に、一般式 ＨＯ−Ｒ1−ＣＯＯＲ2 （式中、Ｒ1はアルキレン基を示し、Ｒ2はアルキル基又
はベンジル基を示す）で表わされるω−ヒドロキシカル
ボン酸エステルを反応させることによって得られる。こ
の反応も従来公知の方法に従って実施される。前記ω−
ヒドロキシカルボン酸エステルにおいて、アルキレン基
としては炭素数１〜２２のアルキレン基、好ましくは炭
素数６以上の長鎖アルキレン基が好ましく用いられる。
また、Ｒ2のアルキル基としては、炭素数１〜８のアル
キル基が用いられる。
【００１８】一般式〔化５〕で表わされるソホロース誘
導体は、一般式〔化４〕で表わされるソホロース誘導体
を、水素化触媒の存在下、水素を反応させるすることに
よって製造される。この反応も従来公知の方法に従って
実施される。水素化触媒としては、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｄ等
の水素化金属又はこれらの金属を活性炭やシリカ、アル
ミナ等の担体に担持させたものが用いられる。
導体は、一般式〔化４〕で表わされるソホロース誘導体
を、水素化触媒の存在下、水素を反応させるすることに
よって製造される。この反応も従来公知の方法に従って
実施される。水素化触媒としては、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｐｄ等
の水素化金属又はこれらの金属を活性炭やシリカ、アル
ミナ等の担体に担持させたものが用いられる。
【００１９】一般式〔化６〕で表わされるソホロース誘
導体は、一般式〔化５〕で表わされるソホロース誘導体
をナトリウムアルコキシド／溶液で処理し、アシル化水
酸基を水酸基に変換させることによって製造される。
導体は、一般式〔化５〕で表わされるソホロース誘導体
をナトリウムアルコキシド／溶液で処理し、アシル化水
酸基を水酸基に変換させることによって製造される。
【００２０】
【発明の効果】本発明のソホロース誘導体は、いずれも
新規物質であり、従来の糖脂質と同様な作用を示し、生
体膜等の様々な界面に吸着・浸入して界面の性質を変化
させる。本発明のソホロース誘導体は、置換基として導
入したアシル基やカルボン酸基の性状に応じて、水溶液
ないし油溶性を示し、安全性の高い界面活性剤として利
用される。
新規物質であり、従来の糖脂質と同様な作用を示し、生
体膜等の様々な界面に吸着・浸入して界面の性質を変化
させる。本発明のソホロース誘導体は、置換基として導
入したアシル基やカルボン酸基の性状に応じて、水溶液
ないし油溶性を示し、安全性の高い界面活性剤として利
用される。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。
明する。
【００２２】実施例１ （一般式〔化１〕で表わされる化合物の合成）ソホロー
ス５００ｍｇ（１．４８ミリｍｏｌ）を触媒量のジメチ
ルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）と共に１００ｍｌの二つ
口フラスコに入れ、ピリジン２０ｍｌに溶かし、つぎ
に、無水酢酸１０ｍｌを加えて室温で一夜撹拌して反応
させた。反応混合物を氷冷下、メタノールを加えて過剰
の無水酢酸を分解した。溶媒を留去して得られた粗生成
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、一般式〔化１〕で表わされる化合物（１）（Ｒ＝ア
セチル基）１．０４ｇを得た。ＩＲ分析によりエステル
結合（１７３５ｃｍ）を持つとともに水酸基を含まない
こと、さらにＮＭＲ分析を行い、一般式〔化１〕に相当
する化学構造をもつことを確認した。
ス５００ｍｇ（１．４８ミリｍｏｌ）を触媒量のジメチ
ルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）と共に１００ｍｌの二つ
口フラスコに入れ、ピリジン２０ｍｌに溶かし、つぎ
に、無水酢酸１０ｍｌを加えて室温で一夜撹拌して反応
させた。反応混合物を氷冷下、メタノールを加えて過剰
の無水酢酸を分解した。溶媒を留去して得られた粗生成
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製
し、一般式〔化１〕で表わされる化合物（１）（Ｒ＝ア
セチル基）１．０４ｇを得た。ＩＲ分析によりエステル
結合（１７３５ｃｍ）を持つとともに水酸基を含まない
こと、さらにＮＭＲ分析を行い、一般式〔化１〕に相当
する化学構造をもつことを確認した。
【００２３】実施例２ （一般式〔化２〕で表わされる化合物の合成）実施例１
で得られた化合物（１）（オクタアセチルソホロース）
５００ｍｇを１００ｍｌナス型フラスコにいれ、ＤＭＦ
２ｍｌに溶かし、ヒドラジン酢酸９０ｍｇを加えて、５
０℃にて５分間反応させた。反応混合物に酢酸エチル３
０ｍｌを加えて１時間撹拌した後、酢酸エチルで希釈
し、水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し、一般式〔化
２〕で表わされる化合物（２）（Ｒ＝アセチル基）５４
０ｍｇを得た。このものは、ＩＲ及びＮＭＲ分析により
一般式化２に相当する化学構造をもつことを確認した。
で得られた化合物（１）（オクタアセチルソホロース）
５００ｍｇを１００ｍｌナス型フラスコにいれ、ＤＭＦ
２ｍｌに溶かし、ヒドラジン酢酸９０ｍｇを加えて、５
０℃にて５分間反応させた。反応混合物に酢酸エチル３
０ｍｌを加えて１時間撹拌した後、酢酸エチルで希釈
し、水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し、一般式〔化
２〕で表わされる化合物（２）（Ｒ＝アセチル基）５４
０ｍｇを得た。このものは、ＩＲ及びＮＭＲ分析により
一般式化２に相当する化学構造をもつことを確認した。
【００２４】実施例３ （一般式〔化３〕で表わされる化合物の合成）窒素雰囲
気下において、実施例２で得た化合物２の４３７ｍｇ
（０．６７８ｍｍｏｌ）を１００ｍｌ二つ口フラスコに
入れ、乾燥塩化メチレン６ｍｌを加え、さらに炭酸セシ
ウム３０ｍｇを加え、さらに、トリクロロアセトニトリ
ル０．４ｍｌを加えて室温にて一晩撹拌した。反応混合
物を塩化メチレンで希釈し、水で洗浄した後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して、一
般式化３で表わされる化合物（３）（Ｒ＝アセチル基）
の粗製物２７０ｍｇを得た。このものはＩＲ及びＮＭＲ
により一般式化３で表わされる構造を持つことを確認し
た。
気下において、実施例２で得た化合物２の４３７ｍｇ
（０．６７８ｍｍｏｌ）を１００ｍｌ二つ口フラスコに
入れ、乾燥塩化メチレン６ｍｌを加え、さらに炭酸セシ
ウム３０ｍｇを加え、さらに、トリクロロアセトニトリ
ル０．４ｍｌを加えて室温にて一晩撹拌した。反応混合
物を塩化メチレンで希釈し、水で洗浄した後、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して、一
般式化３で表わされる化合物（３）（Ｒ＝アセチル基）
の粗製物２７０ｍｇを得た。このものはＩＲ及びＮＭＲ
により一般式化３で表わされる構造を持つことを確認し
た。
【００２５】実施例４ （一般式〔化４〕で表わされる化合物の合成）窒素雰囲
気下、実施例３で得た化合物（３）（トリクロロアセト
イミデート）２６２ｍｇ及びこれと等モル量のω−ヒド
ロキシデカン酸ベンジルエステル１１２ｍｇとを１００
ｍｌ二つ口フラスコに入れ、乾燥塩化メチレン１０ｍｌ
を加えて溶かし、氷冷下にトリメチルシリルトリフルオ
ロメタンスルホナート（ＣＦ3ＳＯ2Ｓｉ（ＣＨ3）3）
０．１５ｍｌをゆっくり滴下して加え、３０分間反応さ
せた。反応溶液をクロロホルム４０ｍｌで希釈し、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍｌで渇い、さらの水洗
して有機相を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒
を留去して得られた粗生成物をシリカゲルを用いるカラ
ムクロマトグラフィーにより精製した。得られた化合物
（３）（Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝−Ｃ9Ｈ18−、Ｒ2＝ベ
ンジル）は、ＩＲ及びＮＭＲ分析により一般式化４で表
わされる化学構造を持つことを確認した。
気下、実施例３で得た化合物（３）（トリクロロアセト
イミデート）２６２ｍｇ及びこれと等モル量のω−ヒド
ロキシデカン酸ベンジルエステル１１２ｍｇとを１００
ｍｌ二つ口フラスコに入れ、乾燥塩化メチレン１０ｍｌ
を加えて溶かし、氷冷下にトリメチルシリルトリフルオ
ロメタンスルホナート（ＣＦ3ＳＯ2Ｓｉ（ＣＨ3）3）
０．１５ｍｌをゆっくり滴下して加え、３０分間反応さ
せた。反応溶液をクロロホルム４０ｍｌで希釈し、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液２０ｍｌで渇い、さらの水洗
して有機相を無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒
を留去して得られた粗生成物をシリカゲルを用いるカラ
ムクロマトグラフィーにより精製した。得られた化合物
（３）（Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝−Ｃ9Ｈ18−、Ｒ2＝ベ
ンジル）は、ＩＲ及びＮＭＲ分析により一般式化４で表
わされる化学構造を持つことを確認した。
【００２６】実施例５ （一般式〔化５〕で表わされる化合物の合成）実施例４
で得られた化合物（４）３００ｍｇを５０ｍｌナス型フ
ラスコに入れ、メタノール１０ｍｌを加えて溶解させ、
１０％パラジウム活性炭約１００ｍｇを加え、室温で水
素雰囲気下で反応させてエステル部を還元した。反応生
成物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーに
より単離し、一般式化４で表わされる化合（Ｒ＝アセチ
ル基、Ｒ1＝−Ｃ9Ｈ18−）を粉末として収量１２０ｍｇ
で得た。このものは、ＩＲ及びＮＭＲ分析により一般式
化５で表わされる化学構造を持つことを確認した。
で得られた化合物（４）３００ｍｇを５０ｍｌナス型フ
ラスコに入れ、メタノール１０ｍｌを加えて溶解させ、
１０％パラジウム活性炭約１００ｍｇを加え、室温で水
素雰囲気下で反応させてエステル部を還元した。反応生
成物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーに
より単離し、一般式化４で表わされる化合（Ｒ＝アセチ
ル基、Ｒ1＝−Ｃ9Ｈ18−）を粉末として収量１２０ｍｇ
で得た。このものは、ＩＲ及びＮＭＲ分析により一般式
化５で表わされる化学構造を持つことを確認した。
【００２７】実施例６ （一般式〔化６〕で表わされる化合物の合成）実施例５
で得られた化合物（５）１００ｍｇをフラスコに取り、
これにナトリウムメトキシド／メタノール溶液を加えて
反応させ、アセチル基を水酸基に変えて、一般式化６で
示される化合物（６）（Ｒ1＝−Ｃ9Ｈ18−）を得た（収
量５２ｍｇ）。このものはＩＲ及びＮＭＲ分析により一
般式化６で表わされる化合構造を持つことを確認した。
で得られた化合物（５）１００ｍｇをフラスコに取り、
これにナトリウムメトキシド／メタノール溶液を加えて
反応させ、アセチル基を水酸基に変えて、一般式化６で
示される化合物（６）（Ｒ1＝−Ｃ9Ｈ18−）を得た（収
量５２ｍｇ）。このものはＩＲ及びＮＭＲ分析により一
般式化６で表わされる化合構造を持つことを確認した。
【００２８】参考例１ 前記ω−ヒドロキシデカン酸ベンジルは次のようにして
合成された。１０−ヒドロキシデカン酸５１８ｍｇを１
００ｍｌ二つ口フラスコに入れ、アセトニトリル５ｍｌ
加えて溶かし、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）
１．６ｍｌとベンジルブロミド０．７ｍｌを加え、室温
で一晩撹拌した。反応溶液を酢酸エチル５０ｍｌで希釈
し、２Ｎ塩酸ついで飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒留去後、得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、ベンジルエステル体５５８ｍｇを得た。
合成された。１０−ヒドロキシデカン酸５１８ｍｇを１
００ｍｌ二つ口フラスコに入れ、アセトニトリル５ｍｌ
加えて溶かし、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）
１．６ｍｌとベンジルブロミド０．７ｍｌを加え、室温
で一晩撹拌した。反応溶液を酢酸エチル５０ｍｌで希釈
し、２Ｎ塩酸ついで飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒留去後、得
られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、ベンジルエステル体５５８ｍｇを得た。
【００２９】実施例７ 実施例５で得た化合物５〔オクタ−ｏ−アセチル−ｏ−
（ω−ヒドロキシデカン酸）〕−１−β−ソホロースを
１．０ｍｇ取り、１０ｍｌのリン酸／水酸化ナトリウム
緩衝液（ｐＨ７．２）に溶解し、輪環法により恒温室
（室温２０℃）にて表面張力を測定したところ、３８．
８ｍＮ／ｍであった。また、実施例６で得た化合物
（６）は、水によってよく溶解し、その水溶液は振とう
すると発泡する。この化合物（６）の０．５％水溶液の
表面張力は３６．６ｍＮ／ｍを示した。水酸化ナトリウ
ム水溶液にてｐＨ９．０とした化合物（６）の０．５％
水溶液の表面張力は３６．８ｍＮ／ｍであった。
（ω−ヒドロキシデカン酸）〕−１−β−ソホロースを
１．０ｍｇ取り、１０ｍｌのリン酸／水酸化ナトリウム
緩衝液（ｐＨ７．２）に溶解し、輪環法により恒温室
（室温２０℃）にて表面張力を測定したところ、３８．
８ｍＮ／ｍであった。また、実施例６で得た化合物
（６）は、水によってよく溶解し、その水溶液は振とう
すると発泡する。この化合物（６）の０．５％水溶液の
表面張力は３６．６ｍＮ／ｍを示した。水酸化ナトリウ
ム水溶液にてｐＨ９．０とした化合物（６）の０．５％
水溶液の表面張力は３６．８ｍＮ／ｍであった。
【００３０】実施例８ 実施例３で得た化合物（３）２５０ｍｇと１２−ヒドロ
キシラウリン酸ベンジルエステル１２０ｍｇとを１００
ｍｌ二つ口フラスコに入れ、乾燥塩化メチレン１０ｍｌ
を加えて溶解させた後、ＣＦ3ＳＯ3Ｓｉ（ＣＨ3）3０．
１５ｍｌを滴下して反応させた。シリカゲルを用いるカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、一般式化４で表
わされる化合物（４’）（Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝−Ｃ
11Ｈ24−）２．６０ｍｇを得た。
キシラウリン酸ベンジルエステル１２０ｍｇとを１００
ｍｌ二つ口フラスコに入れ、乾燥塩化メチレン１０ｍｌ
を加えて溶解させた後、ＣＦ3ＳＯ3Ｓｉ（ＣＨ3）3０．
１５ｍｌを滴下して反応させた。シリカゲルを用いるカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、一般式化４で表
わされる化合物（４’）（Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝−Ｃ
11Ｈ24−）２．６０ｍｇを得た。
【００３１】実施例９ 実施例８で得た化合物（４’）２４０ｍｇを５０ｍｌナ
ス型フラスコに入れ、メタノール１０ｍｌを加えて溶解
させ、１０％パラジウム活性炭１００ｍｇを加え、室温
（２０℃）で水素雰囲気下一液撹拌してベンジルエステ
ル部を還元して一般式化５て表わされる化合物（５’）
（Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝−Ｃ11Ｈ24−）を得た。次
に、このものをナトリウムメトキシド／メタノール溶液
で処理して、アセチル化ヒドロキシ基を水酸化に変え、
一般式化６で表わされる化合物（６’）を得た（収量１
０３ｍｇ）。
ス型フラスコに入れ、メタノール１０ｍｌを加えて溶解
させ、１０％パラジウム活性炭１００ｍｇを加え、室温
（２０℃）で水素雰囲気下一液撹拌してベンジルエステ
ル部を還元して一般式化５て表わされる化合物（５’）
（Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝−Ｃ11Ｈ24−）を得た。次
に、このものをナトリウムメトキシド／メタノール溶液
で処理して、アセチル化ヒドロキシ基を水酸化に変え、
一般式化６で表わされる化合物（６’）を得た（収量１
０３ｍｇ）。
【００３２】実施例１０ 実施例９で得た化合物（５’）〔オクタ−ｏ−アセチル
−ｏ−（ω−ヒドロキシラウリン酸）−１−β−ソホロ
ース）〕１．０ｍｇを１０ｍｌのリン酸／ＮａＯＨ緩衝
液（ｐＨ７．２）に溶解し、この溶液について、その表
面張力（２０℃）を輪環法により測定したところ、３
７．１ｍＮ／ｍであった。また、実施例９で得た化合物
（６’）〔ｏ−（ω−ヒドロキシラウリン酸−１−β−
ソホロース〕の０．５％水溶液（ｐＨを９．０に調整）
の表面張力（２０℃）は、３４．９ｍＮ／ｍであった。
−ｏ−（ω−ヒドロキシラウリン酸）−１−β−ソホロ
ース）〕１．０ｍｇを１０ｍｌのリン酸／ＮａＯＨ緩衝
液（ｐＨ７．２）に溶解し、この溶液について、その表
面張力（２０℃）を輪環法により測定したところ、３
７．１ｍＮ／ｍであった。また、実施例９で得た化合物
（６’）〔ｏ−（ω−ヒドロキシラウリン酸−１−β−
ソホロース〕の０．５％水溶液（ｐＨを９．０に調整）
の表面張力（２０℃）は、３４．９ｍＮ／ｍであった。
【００３３】実施例１１ 実施例３で得た化合物（３）２５０ｍｇと１８−ヒドロ
キシステアリン酸ベンジルエステル１５０ｍｇを１００
ｍｌの二つ口フラスコに入れ、乾燥塩化メチレン１０ｍ
ｌを加えて溶解させた後、ＣＦ3ＳＯ2ＳｉＣＨ3０．１
５ｍｌを滴下して反応させ、得られた生成物をシリカゲ
ルを用いるクロマトグラフィーにより精製し、一般式化
４で表わされる化合物（４''）(Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝
−Ｃ17Ｈ34−、Ｒ2＝ベンジル基）２４０ｍｇを得た。
キシステアリン酸ベンジルエステル１５０ｍｇを１００
ｍｌの二つ口フラスコに入れ、乾燥塩化メチレン１０ｍ
ｌを加えて溶解させた後、ＣＦ3ＳＯ2ＳｉＣＨ3０．１
５ｍｌを滴下して反応させ、得られた生成物をシリカゲ
ルを用いるクロマトグラフィーにより精製し、一般式化
４で表わされる化合物（４''）(Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝
−Ｃ17Ｈ34−、Ｒ2＝ベンジル基）２４０ｍｇを得た。
【００３４】実施例１２ 実施例１１で得た化合物（４''）を５０ｍｌナス型フラ
スコに入れ、メタノール１０ｍｌを加えて溶解させ、１
０％パラジウム活性炭１００ｍｇを加え、室温（２０
℃）で水素雰囲気下で一液撹拌してベンジルエステル部
を還元して、一般式化５で表わされる化合物（５''）
（Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝−Ｃ17Ｈ34−）を得た。次い
でナトリウムメトキシド／メタノール溶液で処理してア
セチル化水酸基を水酸基に変え、一般式化６で表わされ
る化合物（６''）を得た（収量９２ｍｇ）。
スコに入れ、メタノール１０ｍｌを加えて溶解させ、１
０％パラジウム活性炭１００ｍｇを加え、室温（２０
℃）で水素雰囲気下で一液撹拌してベンジルエステル部
を還元して、一般式化５で表わされる化合物（５''）
（Ｒ＝アセチル基、Ｒ1＝−Ｃ17Ｈ34−）を得た。次い
でナトリウムメトキシド／メタノール溶液で処理してア
セチル化水酸基を水酸基に変え、一般式化６で表わされ
る化合物（６''）を得た（収量９２ｍｇ）。
【００３５】実施例１３ 実施例１２で得た化合物（５''）〔オクタ−ｏ−アセチ
ル−ｏ−（ω−ヒドロキシステアリン酸）−１−β−ソ
ホロース〕１．０ｍｇを１０ｍｌのリン酸／ＮａＯＨ緩
衝液（ｐＨ＝７．２）に溶解し、この溶液についてその
表面張力（２０℃）を輪環法で測定したところ、３２．
４ｍＮ／ｍであった。また、実施例１２で得た化合物
（６''）〔ｏ−（ω−ヒドロキシステアリン酸）１−β
−ソホロース〕の０．１％水溶液（ｐＨ＝９．０に調
整）の表面張力（２０℃）は３３．８ｍＮ／ｍであっ
た。
ル−ｏ−（ω−ヒドロキシステアリン酸）−１−β−ソ
ホロース〕１．０ｍｇを１０ｍｌのリン酸／ＮａＯＨ緩
衝液（ｐＨ＝７．２）に溶解し、この溶液についてその
表面張力（２０℃）を輪環法で測定したところ、３２．
４ｍＮ／ｍであった。また、実施例１２で得た化合物
（６''）〔ｏ−（ω−ヒドロキシステアリン酸）１−β
−ソホロース〕の０．１％水溶液（ｐＨ＝９．０に調
整）の表面張力（２０℃）は３３．８ｍＮ／ｍであっ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｈ 15/04 Ｄ (72)発明者 佐々木 誠 茨城県つくば市東１丁目１番地 工業技術 院化学技術研究所内 (72)発明者 蒲 康夫 茨城県つくば市東１丁目１番地 工業技術 院化学技術研究所内 (72)発明者 川口 芳広 兵庫県神戸市兵庫区西柳原町５番26号 石 原薬品株式会社内 (72)発明者 松川 倉也 兵庫県神戸市兵庫区西柳原町５番26号 石 原薬品株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 下記一般式〔化１〕、〔化２〕、〔化
３〕、〔化４〕、〔化５〕又は〔化６〕で表わされるソ
ホロース誘導体。 【化１】 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 （前記式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1はアルキレン基
を示し、Ｒ2はアルキル基又はベンジル基を示す） - 【請求項２】 下記一般式 【化１】 （式中、Ｒはアシル基を示す）で表わされるソホロース
誘導体を製造するために、ソホロースにアシル化剤を反
応させる方法。 - 【請求項３】 下記一般式 【化２】 （式中、Ｒはアシル基を示す）で表わされるソホロース
誘導体を製造するために、一般式 【化１】 （式中、Ｒはアシル基を示す）で表わされるソホロース
誘導体に、ヒドラジン酢酸を反応させる方法。 - 【請求項４】 下記一般式 【化３】 （式中、Ｒはアシル基を示す）で表わされるソホロース
誘導体を製造するために、一般式 【化２】 （式中、Ｒはアシル基を示す）で表わされるソホロース
誘導体に、トリクロロアセトニトリルを反応させる方
法。 - 【請求項５】 下記一般式 【化４】 （式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1はアルキレン基を示
し、Ｒ2はアルキル基又はベンジル基を示す）で表わさ
れるソホロース誘導体を製造するために、一般式 【化３】 （式中、Ｒはアシル基を示す）で表わされるソホロース
誘導体に、一般式 ＨＯ−Ｒ1−ＣＯＯＲ2 （式中、Ｒ1はアルキレン基を示し、Ｒ2はアルキル基又
はベンジル基を示す）で表わされるω−ヒドロキシカル
ボン酸エステルを反応させる方法。 - 【請求項６】 下記一般式 【化５】 （式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1はアルキレン基を示
す）で表わされるソホロース誘導体を製造するために、
一般式 【化４】 （式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1はアルキレン基を示
し、Ｒ2はアルキル基又はベンジル基を示す）で表わさ
れるソホロース誘導体に、水素化触媒の存在下で水素を
反応させる方法。 - 【請求項７】 下記一般式 【化５】 （式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1はアルキレン基を示
す）で表わされるソホロース誘導体を製造するために、
一般式 【化５】 （式中、Ｒはアシル基を示し、Ｒ1はアルキレン基を示
す。）で表わされるソホロース誘導体をナトリウムアル
コキシド／アルコール溶液で処理する方法。 - 【請求項８】 請求項１において一般式〔化４〕、〔化
５〕又は〔化６〕で表わされるソホロース誘導体の少な
くとも１種からなる界面活性剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3160092A JP2535749B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | ソホロ―ス誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3160092A JP2535749B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | ソホロ―ス誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07118284A true JPH07118284A (ja) | 1995-05-09 |
| JP2535749B2 JP2535749B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=15707689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3160092A Expired - Lifetime JP2535749B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | ソホロ―ス誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2535749B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003009896A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-14 | Saraya Kk | ソホロースリピッドの精製方法 |
| WO2015020114A1 (ja) | 2013-08-09 | 2015-02-12 | サラヤ株式会社 | 新型ソホロリピッド化合物及びそれを含有する組成物 |
| US10065982B2 (en) | 2012-03-02 | 2018-09-04 | Saraya Co., Ltd. | High-purity acid-form sophorolipid (SL) containing composition and process for preparing same |
| US11312928B2 (en) | 2017-03-07 | 2022-04-26 | Saraya Co., Ltd. | Detergent composition comprising an acidic sophorose lipid and fatty acid salt mixture |
| WO2023172606A1 (en) * | 2022-03-08 | 2023-09-14 | Locus Solutions Ipco, Llc | Improved foaming biosurfactants |
-
1991
- 1991-06-03 JP JP3160092A patent/JP2535749B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| CARBOHYDR. RES.=1980 * |
| ORG. MASS SPECTROM=1975 * |
| PESTIC. SCI.=1985 * |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003009896A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-14 | Saraya Kk | ソホロースリピッドの精製方法 |
| US10065982B2 (en) | 2012-03-02 | 2018-09-04 | Saraya Co., Ltd. | High-purity acid-form sophorolipid (SL) containing composition and process for preparing same |
| WO2015020114A1 (ja) | 2013-08-09 | 2015-02-12 | サラヤ株式会社 | 新型ソホロリピッド化合物及びそれを含有する組成物 |
| CN105593370A (zh) * | 2013-08-09 | 2016-05-18 | 莎罗雅株式会社 | 新型槐糖脂化合物以及包含所述新型槐糖脂化合物的组合物 |
| JPWO2015020114A1 (ja) * | 2013-08-09 | 2017-03-02 | サラヤ株式会社 | 新型ソホロリピッド化合物及びそれを含有する組成物 |
| US10752650B2 (en) | 2013-08-09 | 2020-08-25 | Saraya Co., Ltd. | Sophorolipid compound and composition comprising same |
| US11312928B2 (en) | 2017-03-07 | 2022-04-26 | Saraya Co., Ltd. | Detergent composition comprising an acidic sophorose lipid and fatty acid salt mixture |
| WO2023172606A1 (en) * | 2022-03-08 | 2023-09-14 | Locus Solutions Ipco, Llc | Improved foaming biosurfactants |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2535749B2 (ja) | 1996-09-18 |
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