JPH07117745B2 - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

Info

Publication number
JPH07117745B2
JPH07117745B2 JP62039972A JP3997287A JPH07117745B2 JP H07117745 B2 JPH07117745 B2 JP H07117745B2 JP 62039972 A JP62039972 A JP 62039972A JP 3997287 A JP3997287 A JP 3997287A JP H07117745 B2 JPH07117745 B2 JP H07117745B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
photosensitive
group
diazo
photosensitive composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP62039972A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63206742A (ja
Inventor
昌則 今井
靖則 高田
信行 喜多
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP62039972A priority Critical patent/JPH07117745B2/ja
Publication of JPS63206742A publication Critical patent/JPS63206742A/ja
Publication of JPH07117745B2 publication Critical patent/JPH07117745B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光性平版印刷版に適する感光性組成物に関す
るものである。更に詳しくは、別の層として酸素遮断層
を設けることなく製版時の酸素の影響を低減させた新規
な感光性組成物に関するものである。
〔従来の技術〕
従来より光重合性組成物を感光性組成物として写真的手
法によって画像複製を行う方法は広く知られるところで
ある。感光性組成物としてはたとえば特公昭46-32714号
公報に記載されているような有機溶媒可溶性重合体、エ
チレン性不飽和付加重合性化合物と光重合開始剤からな
る基本組成、特公昭49-34041号公報に記載されているよ
うな不飽和二重結合を有機溶媒可溶性重合体中に導入
し、硬化効率を改善した組成、特公昭48-38403号、特公
昭53-27605号公報及び英国特許第1,388,492号明細書に
記載されているような新規な光重合開始剤を用いた組成
等が知られていて、一部で実用に供されている。しか
し、いずれの感光性組成物も画像露光時に酸素による重
合阻害を著しく受けるために、その感光層表面に水溶性
樹脂からなる酸素遮断層を設けなければ、実用的に用い
ることはできなかった。しかしこの水溶性樹脂からなる
酸素遮断層を設けることは製造コストを高くし、また平
版印刷版として、画像部の着肉性劣化をもたらす等の性
能の低下を招く。そこで水溶性樹脂からなる酸素遮断層
を設けずに酸素の影響を受けない技術が必要とされてい
た。この酸素による重合阻害の影響を低減させるために
上記の光重合性組成物にベヘン酸や、ワックスを添加し
たり、ネガ作用のジアゾ樹脂を添加する試みがある。こ
のような試みは、たとえば特開昭49-99790号、特開昭54
-95687号、特開昭59-206825号、特開昭59-53836号、特
開昭59-178449号、特開昭5-196230号、及び米国特許第
4,316,949号明細書に記載されている。しかしいずれも
その効果は不十分であるため、露光時の環境、例えば真
空度、窒素存在などの条件の変化によって感度が変わっ
たり、印刷版に用いた場合は耐刷力が変動するなどの欠
点を有していた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
したがって、本発明の目的は、上記の欠点を改良し、露
光時の酸素の影響を低減して高耐刷力の画像を形成で
き、製造コストも安価な感光性組成物を提供することで
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、光重合性組成物に下記一般式(I)で表わさ
れる化合物を添加した組成物を使用することによって酸
素の影響を低減できることを見い出し、本発明を完成し
た。
一般式: (ただし、R1は炭素数12以上で置換基を有していてもよ
い直鎖アルコキシ基または直鎖アルキルアミノ基を表わ
し、R2は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基、アリールスルホニル基または
アルキルスルホニル基を表わす。) すなわち、本発明は、エチレン性不飽和付加重合性化合
物と有機溶媒可溶性でかつフィルム形成可能な重合体と
光重合開始剤とを含む感光性組成物において、上記一般
式(I)で表わされる化合物を含むことを特徴とする感
光性組成物に関する。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明に使用される「エチレン性不飽和付加重合性化合
物」は、常圧で沸点100℃以上の、少なくとも1分子中
に1個、より好ましくは2個以上の付加重合可能なエチ
レン性不飽和基を有する分子量10,000以下のモノマー又
はオリゴマーである。このようなモノマーとしては、ポ
リエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ
プロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェ
ノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリ
レートやメタクリレート;ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリストリトールトリ(メタ)ア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アク
リレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートト
リメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシ
アヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多
官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキ
サイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したも
の;特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特開昭51-37
193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレ
ート類;特開昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭
52-30490号各公報に記載されているポリエステルアクリ
レート類;エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタアクリレートをあげることができる。さらに日本
接着協会誌Vol.20:No.7、300〜308ページに光硬化性モ
ノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用
することができる。なおこれらの使用量は、全成分に対
して5〜50重量%(以下%と略称する。)、好ましくは
10〜40%である。
本発明に使用される「有機溶媒可能性でかつフィルム形
成可能な重合体」としては、エポキシ樹脂、ポリエステ
ル類、ポリビニルホルマール類、ポリウレタン類、ポリ
ビニルブチラール類、ポリエチレンオキシド類、ポリア
クリレート類、ポリメタクリレート類、ポリセルロース
アセテートエステル類等の一般に公知の樹脂や、アルカ
リ水に可溶性もしくは膨潤性でかつフィルム形成可能な
重合体があげられる。
アルカリ水に可溶性もしくは膨潤性でかつフィルム形成
可能な重合体としては、重合体中に−COOH、−PO3
2−、−SO2NH2または−SO2NHCO−基を有し、酸価50〜20
0の酸性ビニル共重合体をあげることが出来る。
このような共重合体の例としては、特公昭59-44615号公
報に記載されているような〔ベンジル(メタ)アクリレ
ート/(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加
重合体ビニルモノマー〕共重合体;特公昭54-34327号公
報に記載されているような〔メタクリル酸/メタクリル
酸メチル又はエチル/メタクリル酸n−ヘキシル〕共重
合体;その他特公昭58-12577号、特公昭54-25957号、特
開昭54-92723号各公報に記載されているような(メタ)
アクリル酸共重合体;特開昭59-53836号公報に記載され
ているような〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じたその他の付加重合性ビニルモ
ノマー〕共重合体;特開昭59-71048号公報に記載されて
いるような無水マレイン酸共重合体にペンタエリスリト
ールトリアクリレートを半エステル化で付加させたもの
等をあげることができる。
特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/
(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加重合体
ビニルモノマー〕共重合体、〔アリル(メタ)アクリレ
ート/(メタ)アクリル酸/必要に応じたその他の付加
重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
好ましくは、重合体は、組成物中に約20〜75%の固体濃
度で存在する。更に好ましい範囲は35〜65%である。
本発明における「光重合開始剤」としては米国特許第2,
367,661号、同第2,367,670号各明細書に記載されている
α−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書
に記載されているアシロインエーテル、米国特許第2,72
2,512号明細書に記載されているα−炭化水素で置換さ
れた芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127
号、同第2,951,758号明細書に記載されている多核キノ
ン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に記載されて
いるトリアリールイミダゾールダイマー/P−アミノフェ
ニルケトンの組合せ、特開昭60-105667号、米国特許第
4,239,850号明細書に記載されているトリハロメチル−
S−トリアジン系化合物、米国特許第3,751,259号明細
書に記載されているアクリジン及びフェナジン化合物、
米国特許第4,212,970号明細書に記載されているオキサ
ジアゾール化合物等があげられる。本発明の組成物中の
これらの光重合開始剤系の含有濃度は通常わずかなもの
であり、また不適当に多い場合には有効光線の遮断等好
ましくない結果を生じる。本発明における光重合開始剤
系の量は、光重合可能なエチレン性不飽和化合物と、有
機溶媒可溶性でかつフィルム形成可能な重合体との合計
に対して0.01%から20%の範囲で十分であり、更に好ま
しくは1%から10%である。
本発明で使用される「前記一般式(I)で表わされる化
合物」は、常温では固体で感光性組成物の塗布液中には
溶解しているが、塗布・乾燥時に、表面に浮き出し、一
種の酸素遮断層を形成するものである。これにより露光
時の酸素の影響を低減化出来る。
R1は、炭素数12以上、好ましくは、炭素数16以上の直鎖
アルコキシまたは直鎖アルキルアミノで、具体的には、
セチルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタデシルオキ
シ、ノナデシルオキシ、エイコシルオキシ、ドコシルオ
キシ、トルコシルオキシ、さらに、セチルアミノ、ヘプ
タデシルアミノ、オクタデシルアミノ、ノナデシルアミ
ノ、エイコシルアミノ、ドコシルアミノ、トルコシルア
ミノ等をあげることが出来る。
一般式(I)で表わされる化合物の具体例としては、以
下のものがあげられる。
(ここでnは、16以上の整数、Xは、水素、塩素、臭
素、フッ素、メチル、またはエチルを表わす。) これら化合物の添加量は、全組成に対し0.5〜10%、好
ましくは、1〜5%が適当である。
また、これらの化合物と共に、ベヘン酸、ステアリン酸
などの高級脂肪酸ヘベン酸アミド、ステアリン酸アミド
等の高級脂肪酸アミドを併用することも出来る。
さらに、本発明の感光性組成物は、ジアゾ樹脂を含有し
てもよい。ジアゾ樹脂としては実質的に水不溶性で有機
溶媒可溶性のものが適している。
このようなジアゾ樹脂としては4−ジアゾ−ジフェニル
アミン、1−ジアゾ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼ
ン、1−ジアゾ−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、
1−ジアゾ−4−N−エチル−N−ヒドロキシエチルア
ミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N−メチル−N−ヒド
ロキシエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエ
トキシ−4−ベンゾイルアミノベンゼン、1−ジアゾ−
4−N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−N,
N−ジメチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−4−モルフ
ォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジメトキシ−4−
p−トリルメルカプトベンゼン、1−ジアゾ−2−エト
キシ−4−N,N−ジメチルアミノベンゼン、p−ジアゾ
−ジメチルアニリン、1−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−
4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−ジエト
キシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−2,5−
ジメトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジアゾ−
2,5−ジエトキシ−4−モルフォリノベンゼン、1−ジ
アゾ−2,5−ジエトキシ−4−p−トリルメルカプトベ
ンゼン、1−ジアゾ−3−エトキシ−4−N−メチル−
N−ベンジルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3−クロロ
−4−N,N−ジエチルアミノベンゼン、1−ジアゾ−3
−メチル−4−ピロリジノベンゼン、1−ジアゾ−2−
クロロ−4−N,N−ジメチルアミノ−5−メトキシベン
ゼン、1−ジアゾ−3−メトキシ−4−ピロリジノベン
ゼン、3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3
−エトキシ−4−ジアゾフェニルアミン、3−(n−プ
ロポキシ)−4−ジアゾジフェニルアミン、−3(イソ
プロポキシ)−4−ジアゾジフェニルアミンのようなジ
アゾモノマーと、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブ
チルアルデヒド、またはベンズアルデヒドのような縮合
剤をモル比で各々1:1〜1:0.5、好ましくは1:0.8〜1:0.6
を通常の方法で縮合して得られた縮合物と陰イオンとの
反応生成物があげられる。陰イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化燐酸、トリイソプロピルナフタレンス
ルホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、2,4,6−トリチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロ
ベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、
3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリル
ナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−
ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及
びパラトルエンスルホン酸等をあげることができる。
又、米国特許第3867147号に記載されているジアゾ樹脂
も適している。これらの中でも特に六フッ化燐酸、トリ
イソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベ
ンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が
好適である。
これらのジアゾ樹脂の全組成物に対する添加量は1〜30
%であり、より好ましくは3〜15%が適当である。
以上の他に感光層には更に熱重合防止剤を加えておくこ
とが好ましく、例えばハイドロキノン、p−メトキシフ
ェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロ
ール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−
チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有
用であり、また場合によっては感光層の着色を目的とし
て染料もしくは顔料や焼出剤としてpH指示薬等を添加す
ることもできる。
更に、露光時の真空密着性を向上させ、感光層表面の酸
素を減少させる技術として特開昭55-124147号、特開昭5
5-32086号公報に記載されているようなマット剤を感光
層中に添加してもよい。
本発明の感光性組成物は、例えば、2−メトキシエタノ
ール、2−メトキシエチルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパノー
ル、3−メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケ
トン、エチレンジクロライド、水などの適当な溶剤の単
独またはこれらを適当に組み合わせた混合溶媒に溶解し
て支持体上に塗設することができる。溶解の際には超音
波分散機を使用すると溶解が早まるので好ましい。その
被膜量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が
適当であり、より好ましくは0.5〜5g/m2である。
本発明の感光性組成物を塗布するのに適した支持体とし
ては、紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、
アルミニウム(アルミニウム合金も含む。)亜鉛、銅な
どのような金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロ
ース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸
酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネ
ートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ムなどが含まれる。これらの支持体のうち、アルミニウ
ム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価であるの
で好ましい。更に、特公昭48-18327号公報に記載されて
いるようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にア
ルミニウムシートが結合された複合体シートも好まし
い。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。また、米国特許第2,714,066号明細書に記載され
ている如く、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に
浸漬処理されたアルミニウム板、特公昭47-5125号公報
に記載されているようにアルミニウム板を陽極処理した
のちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したも
のも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例えば、
燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは、蓚
酸、スルフアミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶
液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解
液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことによ
り実施される。
また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されている
ようなシリケート電着も有効である。
更には特公昭46-27481号公報、特開昭52-58602号公報、
特公昭52-39503号公報に開示されているような電解グレ
インを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び珪酸ソー
ダ処理を組合せた表面処理も有効である。
更には、特開昭56-28893号公報に開示されているよう
な、ブラシグレイン、電解グレイン、陽極酸化処理さら
に珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である。更に
これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たとえばポ
リビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重
合体および共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りしたも
のも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられた感光性組成物
との有害な反応を防ぐため、更には感光層との密着性の
向上等のために施されるものである。
支持体上に設けられた感光性組成物の層の上に特開昭50
-125805号、特開昭55-30619号、特開昭51-111102号、特
公昭61-28986号、特開昭59-211044号、特開昭55-12974
号各明細書に記載されているようなマット層や、感光性
層の高温での粘着性を防止する層や、空気中の酸素によ
る重合禁止作用を更に完全に防止するために、例えばポ
リビニルアルコール、酸性セルロース類等の酸素遮断性
に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。この
様な保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,
458,311号、特公昭55-49729号公報に詳しく記載されて
いる。
本発明の感光性組成物を支持体上に設けた感光性プレー
トをメタルハライドライプ、高圧水銀灯などのような紫
外線に富んだ光源を用いて画像露光し、現像液で処理し
て感光層の未露光部を除去し、最後にガム液を塗布する
ことにより平版印刷版とする。上記現像液として好まし
いものは、ベンジルアルコール、2−フェノキエタノー
ル、2−ブトキシエタノールのような有機溶媒を少量含
むアルカリ水溶液であり、例えば米国特許第3,475,171
号および同3,615,480号に記載されているものを挙げる
ことができる。更に、特開昭50-26601号、特公昭56-394
64号、同56-42860号の各公報に記載されている現像液も
本発明の感光性組成物を用いた感光性印刷版の現像液と
して優れている。
〔発明の効果〕
本発明の感光性組成物は、露光時、酸素の影響を受けに
くいため、高感度で、高耐刷力の画像を形成することが
できる。したがってこれを用いた感光性組成物から得ら
れた印刷版は、高感度で優れた耐刷性を有し、製造コス
トも安価である。
〔実施例〕
次に、実施例に基づいて更に詳細に説明する。なお%は
重量%を示す。
実施例1 特開昭56-28893号公報に開示された方法により基板を作
成した。即ち、厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロン
ブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用いそ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄、水洗した。これ
をVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて
1%硝酸水溶液中で160クローン/dm2の陽極時電気量で
電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したとこ
ろ、0.6μ(Ra表示)であった。ひきつづいて30%の硫
酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマット処理した
後、20%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2において厚さが
2.7g/m2になるように2分間陽極酸化処理した。その後7
0℃のケイ酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬し、水洗
し、乾燥させた。
次の感光液(1)を調製した。
感光液(1) ・ トリメチロールプロパントリアクリレート 20g ・ ポリ(アリルメタアクリレート/メタクリル酸)共
重合モル比80/20のコポリマー 50g ・ 2,4−トリクロロメチル−(4′−メトキシナフチ
ル)s−トリアジン 2g ・ p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドと
の縮合物の六フッ化リン酸塩 2g ・ 下記式で表わされる化合物(a) 1g ・ プロピレングリコールモノメチルエーテル 1500g ・ F−177(大日本インキ(株)製フッ素系界面活性
剤) 1.5g この感光液(1)を濾過後、先の基板の上に回転塗布機
を用いて、乾燥後の重量にしえ、2.0g/m2となるように
塗布した。乾燥は80℃で2分間行ないこれをサンプルA
とした。
比較例として、感光液(1)から、(a)の化合物を含
まない感光液を調製し、同様に塗布、乾燥して、これを
サンプルBとした。
これらのプレートの酸素の影響度を比較する為に、サン
プルの上に富士写真フィルム(株)製のPSステップガイ
ド(△D=0.15で不連続に透過濃度が変化するグレース
ケース)を重ねて、米国ヌアーク社製プリンター(光
源;2KWメタルハライドランプ)で露光した。この時、プ
リンターの焼枠の真空引きを変えて露光し、富士写真フ
ィルム(株)製のPS版用ネガ用現像液DN-3Cを1:1に水で
希釈したもので処理し、未露光部を除去した。
現像後の版上のステップガイドの段数は表1に示すよう
に、サンプルAは真空度の影響も受けず、感度も高かっ
た。サンプルBは、真空度の影響を受け、感度も低かっ
た。
これらのサンプルを印刷機ハイデルベルグKOR−Dにて
印刷したところ、表2に示すように結果が得られ、サン
プルAは、Bに比べはるかに真空度の影響を受けずに高
耐刷力であった。
実施例2〜8 実施例1の感光液に代えて次の感光液(2)を用い、同
様に塗布、乾燥して得られたプレートをサンプルC、ま
た感光液(2)の下記化合物(b)を表3の化合物に代
えた感光液より得られたプレートをサンプルD〜Hとし
た。比較例として化合物(b)を除いたプレートをIと
した。
感光液(2) ・ ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 20g ・ ポリ(ベンジルメタアクリレート/メタクリル酸)
共重合体モル比80/20のコポリマー 50g ・ 下記構造の光重合開始剤 2g ・ P−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドと
の縮合物の六フッ化リン酸塩 3g ・ 下記式で表わされる化合物(b) 2g ・ エチレングリコールモノメチルエーテル 500g ・ メチルエチルケトン 300g ・ F−177(大日本インキ(株)製フッ素系界面活性
剤) 1.5g これらサンプルC〜Iを実施例1と同様にして感度にお
よぼす真空度の影響を調べた。表3に示すようにサンプ
ルC〜HではサンプルIに比べ真空度の影響も少なく、
又、感度も高かった。
実施例9 実施例1のアルミニウム基板の作製において20%硫酸水
溶液中で陽極酸化処理する代りに5%リン酸水溶液中で
電流密度2A/dm2において厚さが0.8g/m2になるように2
分間陽極酸化処理した後3%のケイ酸ナトリウム水溶液
で70℃、10秒間処理した基板を用いて、次の処方に従っ
た感光液(3)を同様に塗布・乾燥しサンプルJとし
た。
比較例として下記感光液(3)から化合物(c)を含ま
ない感光液を調製し、同様に塗布・乾燥してこれをサン
プルKとした。
感光液(3) ・ ペンタエリスリトールテトラアクリレート 20g ・ ポリ(アクリルメタクリレート/メタクリル酸)共
重合モル比80/20のコポリマー 50g ・ 下記構造の光重合開始剤 2g ・ 下記式の化合物(c) 3g ・ プロピレングリコールモノメチルエーテル 800g ・ F−177(大日本インキ(株)製) 1.5g これらのサンプルJ,Kを実施例1と同様にして感度にお
よぼす真空度の影響を調べた。表4に示すようにサンプ
ルJはKに比べ真空度の影響も少なく、又感度も高かっ
た。
また、実施例1と同様に耐刷におよぼす真空度の影響を
調べたところ、サンプルJは10万枚以上の印刷物が得ら
れたが、Kの真空引き有りのサンプルでは、7万枚、真
空引き不十分なサンプルでは、3万枚で印刷不良となっ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−90304(JP,A) 特開 昭52−117352(JP,A) 特開 昭62−11851(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】エチレン性不飽和付加重合性化合物と有機
    溶媒可溶性でかつフィルム形成可能な重合体と光重合開
    始剤とを含む感光性組成物において、下記一般式(I)
    で表される化合物を含むことを特徴とする感光性組成
    物。 一般式: R1-CO-NH-R2 (I) (ただし、R1は炭素数12以上で置換基を有していてもよ
    い直鎖アルコキシ基または直鎖アルキルアミノ基を表
    し、R2は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
    ール基、置換アリール基、アリールスルホニル基又はア
    ルキルスルホニル基を表す。)
JP62039972A 1987-02-23 1987-02-23 感光性組成物 Expired - Fee Related JPH07117745B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62039972A JPH07117745B2 (ja) 1987-02-23 1987-02-23 感光性組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62039972A JPH07117745B2 (ja) 1987-02-23 1987-02-23 感光性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63206742A JPS63206742A (ja) 1988-08-26
JPH07117745B2 true JPH07117745B2 (ja) 1995-12-18

Family

ID=12567869

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62039972A Expired - Fee Related JPH07117745B2 (ja) 1987-02-23 1987-02-23 感光性組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07117745B2 (ja)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5290304A (en) * 1976-01-24 1977-07-29 Asahi Chemical Ind Photoosensitive resin composition for making flexo graphic printing plate
JPS5945976B2 (ja) * 1976-03-29 1984-11-09 東京応化工業株式会社 ナイロン系感光性樹脂組成物
JPS6211851A (ja) * 1985-07-10 1987-01-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63206742A (ja) 1988-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4845009A (en) Photosensitive composition comprising a polymer with maleimido group in side chain and a diazo resin
US4877711A (en) Light-sensitive diazo photopolymerizable composition with polyurethane having carbon-carbon unsaturated and a carboxyl group
JP2655349B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2549303B2 (ja) 感光性組成物
US5080999A (en) Light-sensitive diazo resin composition containing a higher fatty acid or higher fatty acid amide
JPH0727208B2 (ja) 感光性組成物
JPH07120042B2 (ja) 感光性組成物
JPS63287942A (ja) 感光性組成物
US4826753A (en) Light-sensitive composition containing an unsaturated monomer and a photopolymerization initiator
US6960419B2 (en) Antihalation dye for negative-working printing plates
JP2709532B2 (ja) 感光性平版印刷版
JPH0766186B2 (ja) 感光性組成物
JPH07117745B2 (ja) 感光性組成物
JPH0769607B2 (ja) 光重合性組成物
JPH0421184B2 (ja)
JPH0727209B2 (ja) 感光性組成物
JP2577637B2 (ja) 感光性組成物
JPH0774906B2 (ja) 光重合性組成物
JPS6211851A (ja) 感光性組成物
JPS63257748A (ja) 水溶性感光性組成物
JP3130166B2 (ja) 感光性平版印刷版
JPS61284758A (ja) 感光性組成物
JPS61282836A (ja) 感光性組成物
JPS62175730A (ja) 感光性組成物
JPH06105352B2 (ja) 感光性平版印刷版の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees