JPH07115373B2

JPH07115373B2 - 少なくとも２つのプラスチツク成分を混合するための混合ヘツド

Info

Publication number: JPH07115373B2
Application number: JP62200111A
Authority: JP
Inventors: ハインツ・ヴオイツエル
Original assignee: イ−・ベ−・ヴエ−・インジエニエ−ル−ビユロ−・ヴオイツエル・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
Priority date: 1986-08-16
Filing date: 1987-08-12
Publication date: 1995-12-13
Anticipated expiration: 2010-12-13
Also published as: EP0256157A1; ATE57649T1; EP0256157B1; DE3675215D1; US4772129A; JPS6351115A

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は少なくとも２つのプラスチツク成分を混合する
ための混合ヘツドであつて、横断面の変わらない押出ピ
ストンを往復運動可能に受容する案内通路を備えたケー
シングを有し、この案内通路が部分的にプラスチツク成
分のための流入開口を有する混合室として構成されてお
り、押出ピストンが後退位置にある状態で混合室が一端
で押出ピストンの自由端部によつて制限されかつ他端で
絞り機構によつて制限されており、絞り機構が混合室と
プラスチツク混合物のケーシング側の流出開口との間の
範囲で、この範囲においてプラスチツク混合物のための
流出通路を形成する案内通路に対して横方向に運動可能
に混合ヘツドケーシングに支えられている形式のものに
関する。

従来技術化学的な反応で有利には発泡材、特にポリウレタンフオ
ームを形成するプラスチツク成分を混合する前記形式の
公知の混合ヘツドにおいては、案内通路に対して横方向
に運動可能な絞り機構は横断面が少なくとも押出しピス
トンの横断面に相当する開孔を備えている。この場合に
は絞り機構の開孔が案内もしくは流出通路と整合する位
置で混合室と流出通路との押出しピストンによる機械的
な清掃が可能であるのに対し、絞り機構の開孔が案内も
しくは流出通路に対して横方向にずらされた位置では混
合室と開孔の内部との間に狭窄された通過開口を形成す
ることによつて開孔の内部に渦流室が形成され、この渦
流室によつて反応成分の混合状態を改善しようとしてい
る。絞り機構の開孔を通過する液状の混合物のためにこ
のような渦流室を形成することによつて、混合物には強
い乱流が生じる。この乱流は渦流室を出た後でも流出通
路において十分に鎮静されず、特に空気の封入による欠
陥個所が製品に生じることを回避することができない。

さらに、少なくとも２つのプラスチツク成分から成る化
学的に反応する混合物を生ぜしめるための混合ヘツドで
あつて、絞り機構が混合室の対向する側から混合室に導
入可能である複数の一列に又は横方向及び（又は）相前
後する方向にずらして配置された堰止め部材から構成さ
れている形式のものが公知である。この場合にも混合室
から堰止め部材が引込められた状態で押出しピストンに
よつて流出通路と混合室とが有利な状態で機械的に清掃
されはするが、この公知の場合にも多数のスクイーズ間
隙を通つて高速度で混合室に噴射される液状の混合物に
よつて、製品、特に成形部分の欠陥の原因となる乱流を
十分に回避することができない。

発明が解決しようとする問題点本発明が解決しようとする問題点は、少なくとも２つの
プラスチツク成分を混合する冒頭に述べた形式の混合ヘ
ツドを改良して、押出しピストンによる流出通路と混合
室との機械的な自動清掃と反応成分の十分な混合とを維
持して、構造的に簡単でかつ問題のない手段で混合室か
ら出た液状の混合物が十分に鎮静され、乱流にもとづく
製品の欠陥がほぼ回避されるようにすることである。

問題を解決するための手段本発明が解決しようとする問題を解決するための手段は
冒頭に述べた形式の混合ヘツドにおいて、絞り機構が両
方の側縁の一方で流出通路に係合しており、流出通路側
の側縁から凹設された縁切欠きを有しており、この縁切
欠きの横断面が流出通路の横断面部分に相応しており、
縁切欠きが流出通路と整合する押出し位置と絞り位置と
の間で絞り機構が往復運動可能であり、絞り位置におい
て絞り機構が混合室の下流側の端部で流出通路側の側縁
により流出通路を横切る絞り間隙を形成しており、この
絞り間隙が混合室からほぼ流出通路の流出開口まで延び
る絞り機構の長さに応じて流出開口に向かつてデイフユ
ーザ状に拡大させられていることである。

発明の効果本発明の構成によつては絞り機構は混合室の流出端部に
流出通路の横断面に亙つて延びる、堰止め効果によつて
混合性を改善する絞り間隙を形成する。この絞り間隙は
流出通路の流出開口に向かつてデイフユーザ状に拡大し
ているので、混合ヘツドの内部では公知のデイフユーザ
効果を利用して、混物における乱流によつて生ぜしめら
れる欠陥が製造品においてほぼ回避されるように液状の
混合物はほぼ鎮静化される。つまり混合ヘツド内の乱流
はほぼ層流に変換される。この場合には絞り機構はスラ
イダにより構成されていると特に簡単な構成が得られ
る。このスライダは絞り機構が絞り位置にあるときに混
合物を通過させる通路を有しているのではなく、流出通
路に係合する側縁だけで絞り間隙を形成する。これに対
し、この側縁の外面に凹設された縁切欠きは、縁切欠き
が流出通路と整合させられる押出し位置だけで使用され
る。この場合には押出しピストンを用いて混合室及び流
出通路内にある反応混合は混合もしくは型充填過程の終
りに押出されるので、流出通路と混合室とに所望される
自動清掃作用が得られる。

案内もしくは流出通路とこの案内もしくは流出通路と同
じ横断面を有する押出しピストンは原理的には任意の適
当な横断面形状を有していることができる。この場合に
は絞り機構の縁切欠きの横断面形状は、絞り機構が押出
し位置にある状態で絞り機構の縁切欠きと流出通路との
横断面が整合するように通路横断面と同じである横断面
部分によつて与えられている。押出しピストンのために
簡単なシール部材を使用する観点からシールに関する問
題を回避するためには、案内もしくは流出通路の横断面
が円形に構成され、絞り機構の縁切欠きの横断面が流出
通路の横断面と合同である円形横断面の１部によつて構
成されていると有利である。

本発明による構成の別の特徴と利点は特許請求の範囲第
２項以下と本発明の複数の実施例が示されている図面を
用いた説明とに開示されている。

次に図面について本発明を説明する：図面においては全体として符号１で示された混合ヘツド
が示されている。この混合ヘツドは反応し合つてプラス
チツク、例えばポリウレタンフオームを形成する少なく
とも２つのプラスチツク成分を混合するために使用され
る。混合ヘツド１は案内通路３を有するケーシング２を
備えており、案内通路３内には押出しピストン４が往復
運動可能に案内されている。案内通路３の１部分は混合
室５を形成しており、混合室５は押出しピストン４が例
えば第１図と第２図とに示された後退させられた位置に
ある状態で押出しピストン４の自由な端面により片側で
制限されている。混合室５の他方の端部は絞り機構８
の、押出しピストン４の端面６に向き合つた端面７によ
り制限されている。プラスチツク成分導管９と10は流入
開口11と12で混合室５に開口している。戻し導管は符号
13と14で示されている。混合室５とは反対側の端部で押
出しピストン４は両側で負荷可能な液圧ピストン15とし
て構成されており、この液圧ピストン15は適当な導管接
続部17と18を有するシリンダ16内に案内されている。

第１図にはさらに両方のプラスチツク成分のための貯蔵
タンク19,20が示されている。この貯蔵タンク19,20から
は混合室５内で反応混合物を形成するためにプラスチツ
ク成分が供給導管9,10を介して調量ポンプ21,22を用い
て対向噴射原理で高速度で混合室５内へ噴射される。噴
射時間が経過すると方向制御弁23,24が戻し導管13,14に
切換えられるので貯蔵タンク19,20から搬送されてくる
プラスチツク成分は循環させられる。この作業過程を得
るためには混合ヘツド１は公知の方法でノズル制御、圧
力制御又はピストン制御することができる。

絞り機構８は長さ方向でほぼ、混合室５から案内通路３
の流出通路26を形成する範囲における流出開口25まで延
在している。この場合、絞り機構８は流出通路26に対し
て横方向に移動可能に混合ヘツドケーシング２に支えら
れており、作業位置もしくは絞り位置と清掃位置もしく
は押出し位置との間で往復運動可能である。絞り機構８
の前記往復運動性は矢印27で示されている。

絞り機構８は第１図から第７図までに示された実施例で
はスライドプレート28によつて構成されており、このス
ライドプレート28は縦断面で見て楔形の基本形状を有
し、移動方向27に対し、側縁29と30及び端面31と32を有
している。端面31にはスライドプレート28を往復運動さ
せるために図示されていない例えば１つの調節機構が係
合することができる。この場合にはスライドプレート28
は全体として横方向に運動可能に混合ヘツドケーシング
の内部の切欠き33において案内されかつ支えられてい
る。切欠き33は図示の実施例では両方の端面側で開放さ
れている。

混合ヘツドケーシング２に支えられた側縁29は切欠き33
内で側縁29を案内するために適した、特に平らな外面34
を有しているのに対し、流出通路26を切る側縁30は縁切
欠き35を備えており、この縁切欠き35はスライドプレー
ト28の高さに亙つて延在し、他の部分が平らである外面
36を中断している。

案内通路もしくは流出通路3,26の横断面と横断面の変わ
らない押出しピストン４の横断面は図示された実施例で
は円形に構成され、これに応じて絞り機構８の縁切欠き
35も流出通路26の横断面形状と合同の円部分の形をした
横断面を有している。絞り機構８もしくはスライドプレ
ート28の、縦断面で見て楔形の基本形状は、外面36を有
するスライドプレート28の側縁30が流出通路26の流出開
口25に向かつて先細に延び、第１図から第５図までに示
された絞り位置に絞り機構８が位置している状態で、流
出通路26の開放横断面が外面36により部分的に制限さ
れ、相応に減少させられるようにすることによつて達成
される。このように構成することにより、外面36と、こ
の外面36に向き合つた、開放通路横断面の残つた部分を
制限する流出通路26の壁面37とによつては、流出開口25
に向かつて増大する横断面を有する円部分状の絞り間隙
38が形成される。この場合にはスライドプレート28の外
面36は絞り機構８が絞り位置にある状態ですべての横断
平面において円状の通路横断面の割線を成す。これは絞
り間隙38の種々異なる高さ位置における横断面を示しか
つ円部分状の横断面が流出開口25に向かつて次第に大き
くなることを示した第３図から第５図までの横断面図か
ら明らかである。これは絞り間隙38が流出開口25に向か
つてデイフユーザ状に拡大することを意味し、流動性の
プラスチツク成分混合物の鎮静化をもたらす。

絞り機構８が絞り位置にある状態で縁切欠き35は混合ヘ
ツドケーシング２内で流出通路26の外の待機位置に保持
される。この位置は、通路流出開口25に向かつてスライ
ドプレート28の外面36が先細になつていることに基づい
て縁切欠き35の円部部分状の横断面が流出開口25に向か
つて絞り間隙38の横断面の拡大に相応して連続的に減少
することを示している第３図から第５図までに示されて
いる。このためには案内通路３もしくは流出通路26の横
断面の円中心と、絞り機構８の高さに亙つて大きさの変
化する縁切欠き35の円部分の円中心とが、移動方向に延
びて共通の鉛直平面内に配置されている。

前述のように構成されていることによつて、絞り機構８
を矢印27の方向で第１図から第５図までに示された絞り
位置から第６図と第７図に示された清掃もしくは押出し
位置に移動させると、縁切欠き35は一貫して流出通路26
と整合させられるので、絞り機構８の縁切欠き35と流出
通路26の壁部分37とによつて形成された円筒状の通路内
で横断面の変化しない押出しピストン４は押出し行程も
しくは清掃行程を実施するために移動させられかつ再び
混合位置に戻される。この混合位置においては絞り機構
も再び第１図から第５図に示した混合位置へもたらされ
る。

第８図と第９図に示された実施例では絞り機構８は２つ
のスライドプレート28により構成されている。これらの
スライドプレート28は外面36で互いに向き合つて混合ヘ
ツドケーシング２内で案内されている。このような構成
では両方のスライドプレート28は流出開口25に向かつて
先細になつている外面36で、流出開口25に向かつてデイ
フユーザ状に増大する横断面を有するほぼ方形の絞り間
隙38′を形成する。絞り間隙38′の横断面は両狭幅側に
おいてのみ、流出開口25に向かつて拡大する横断面に相
応して大きくなる通路横断面の円弧区分により制限され
ている。

第８図と第９図とにおいては絞り機構８は絞り位置で示
されている。スライドプレート28を矢印方向27に移動さ
せることにより、両方のスライドプレート28の縁切欠き
35は、流出通路26と整合させられるので、既に第１実施
例と関連して詳細に述べたように押出しピストン４は清
掃行程を行なうことができる。この場合にはスライドプ
レート28の移動は共通の調節機構で与えることができ
る。この調節機構は流出通路26の中央の対称縦平面の両
側に横断面で見て対称的に配置された両方のスライドプ
レート28の端面に作用する。

第10から第13図までに示された別の実施例においても絞
り機構８は楔形の基本形を有する２つのスライドプレー
ト28a,28bにより構成されている。これらのスライドプ
レート28a,28bも矢印27の方向で混合ヘツドケーシング
２内で往復運動可能に案内されている。第８図と第９図
の実施例とは異つてスライドプレート28aと28bは流出通
路26の縦方向で異なる高さを有している。この場合には
高さの大きい方のスライドプレート28bは外面36で流出
通路26の向き合つた壁部分と協働して、低い方のスライ
ドプレート28aを越える範囲において絞り位置で、デイ
フユーザ状に拡大する絞り間隙38aと混合室５との間に
後混合室39を形成している。この後混合室39は混合室５
と接続間隙40を介して流動的に接続されている。後混合
室39の他方の端部は間隙状の狭窄部を介して絞り間隙38
aに移行している。後混合室39は図示の絞り位置で円形
の流出通路26に係合するスライドプレート28bに基づい
て絞り間隙38aに向かつて拡大する円部分状の横断面を
有しているのに対し、絞り間隙38aは両方のスライドプ
レート28a,28bが平らな外面36で向き合つていることに
基づき流出開口25に向かつて拡大する、ほぼ方形の横断
面を第８図と第９図の実施例と同様に有している。この
実施例ではスライドプレート28bは後混合室39を形成す
るために特にスライドプレート28aを越える上方範囲に
大きな幅を有している。この場合にはスライドプレート
8bは後混合室39を構成するために外面36で流出通路26の
向き合つた壁面37に近づけられている。

この実施例の場合にも絞り機構８は絞り位置で示されて
おり、押出しもしくは清掃位置にもたらすためには矢印
27の方向に移動させられる。この押出しもしくは清掃位
置においては両方のスライドプレート28aと28bとの縁切
欠き35は流出通路26と整合させられるので、押出しピス
トン４は完全な円形横断面を通つて清掃行程を行なうこ
とができる。矢印27の方向で移動運動を行なうためには
第８図と第９図の実施例の場合のようにスライドプレー
ト28a,28bの端面に作用する共通の調節機構を備えてい
ることができる。

第13図に示された実施例においては両方のスライドプレ
ート28aと28bとを矢印27の方向にそれぞれ移動させるた
めに別個の調節機構（図示せず）が設けられている。こ
れらの調節機構はそれぞれスライドプレート28aもしく
は28bの端面32に作用する。この実施例においては第10
図から第12図までに示されたようにスライドプレート28
aと28bとが絞り位置と押出し位置との間で同じように移
動せしめられる運転形式の他に、両方のスライドプレー
ト28a,28bとの一方が絞り位置にかつ他方のスライドプ
レートが押出し位置に保たれる運転形式が可能である。
第13図に示された実施例によればスライドプレート28a
が押出し位置へ保持されるのに対し、スライドプレート
28bは絞り位置に保たれている。このようにスライドプ
レート28aと28bとが別個に移動可能であることによつて
一方では流出通路壁と整合するスライドプレート28aの
縁切欠き35の配置に基づき第１実施例の絞り間隙38と同
じように円部分状の横断面を有する適当に拡大された絞
り間隙38bを設けることができ、他方ではスライドプレ
ート28aを一緒に調節することによつて同時にエネルギ
消滅度を高めながらプラスチツク成分を強く混合するた
めに後混合室39を形成することもできる。

混合室５に直接的に接続されたこのような後混合室は本
発明の図示されていない実施例によれば両方のスライド
プレートの互いに向き合つた外面36の少なくとも一方を
適当に成形することによつても形成することができる。

いずれの実施例においても混合ヘツドは連続的な生産過
程にも間欠的に成形品を製造するためにも使用すること
ができる。この場合には押出しピストン４は所定の混合
成分を用いた作業サイクルが終了すると常に第６図と第
７図に示された清掃位置にもたらされる。プラスチツク
成分のための流入開口11と12は常に絞り間隙38,38a,38b
もしくは混合室５に対する接続間隙40の入口平面の上方
で開口している。図示の如く流入開口11と12は案内通路
３の直径方向で互いに向き合つた壁範囲から混合室５に
開口しているので、プラスチツク成分は対向噴射原理で
混合室５に噴射される。しかしながら流入開口11と12
を、噴射されるプラスチツク成分流が互いに角度を成す
ように案内通路３の通路壁に配置することもできる。

図示の実施例においては同じ部材もしくは相応する部材
には同じ符号が付けられており、同じ構成についての説
明を反復することは省略した。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の複数の実施例を示すものであつて、第１
図は本発明の第１実施例たる混合ヘツドを押出しピスト
ンと絞り機構とが混合位置にある状態で示した縦断面
図、第２図は第１図のII−II線に沿つた断面図、第３図
は第２図のIII−III線に沿つた断面図、第４図は第２図
のIV−IV線に沿つた断面図、第５図は第２図のＶ−Ｖ線
に沿つた断面図、第６図は押出しピストンと絞り機構と
が押出しもしくは清掃位置にある状態を示した第１図に
相当する縦断面図、第７図は第６図のVII−VII線に沿つ
た断面図、第８図は本発明の第２実施例たる混合ヘツド
を押出しピストンと絞り機構とが混合位置にある第２図
に相当する断面図、第９図は第８図のIX−IX線に沿つた
断面図、第10図は本発明の第３実施例たる混合ヘツドを
押出しピストンと絞り機構とが混合混合位置にある状態
で示した第２図と第８図とに相当する断面図、第11図は
第10図のXI−XI線に沿つた断面図、第12図は第10図のXI
I−XIIに沿つた断面図、第13図は絞り機構が異なる運転
位置にある状態を示す第12図に相当する断面図である。１…混合ヘツド、２…混合ヘツドケーシング、３…案内
通路、４…押出しピストン、５…混合室、６…端面、７
…側面、８…絞り機構、9,10…プラスチツク成分導管、
11,12…流入開口、13,14…戻し導管、15…液圧ピスト
ン、16…シリンダ、17,18…導管接続部、19,20…貯蔵タ
ンク、21,22…調量ポンプ、23,24…方向制御弁、25…流
出開口、26…流出通路、27…矢印、28…スライドプレー
ト、29,30…側縁、31…端面、33…切欠き、34…外面、3
5…縁切欠き、36…外面、37…壁面、38…絞り間隙、39
…後混合室、40…接続間隙。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ２９Ｋ 105:04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも２つのプラスチツク成分を混合
するための混合ヘツドであつて、横断面の変わらない押
出しピストンを往復運動可能に受容する案内通路を備え
たケーシングを有し、この案内通路が部分的にプラスチ
ツク成分のための流入開口を有する混合室として構成さ
れており、押出しピストンが、後退位置にある状態で混
合室が一端で押出しピストンの自由端部によつて制限さ
れかつ他端で絞り機構によつて制限されており、絞り機
構が混合室とプラスチツク混合物のケーシング側の流出
開口との間の範囲で、この範囲においてプラスチツク混
合物のための流出通路を形成する案内通路に対して横方
向に運動可能に混合ヘツドケーシングに支えられている
形式のものにおいて、絞り機構（８）が両方の側縁（2
9,30）の一方で流出通路（26）に係合しており、流出通
路側の側縁（30）から凹設された縁切欠き（35）を有し
ており、この縁切欠き（35）の横断面が流出通路（26）
の横断面部分に相応しており、縁切欠き（35）が流出通
路（26）と整合する押出し位置と絞り位置との間で絞り
機構（８）が往復運動可能であり、絞り位置において絞
り機構（８）が混合室（５）の下流側の端部で流出通路
側の側縁（30）により流出通路（26）を横切る絞り間隙
（38,38a,38b）を形成しており、この絞り間隙（38,38
a,38b）が混合室（５）からほぼ流出通路（26）の流出
開口（25）まで延びる絞り機構（８）の長さに応じて流
出開口（25）に向かつてデイフユーザ状に拡大させられ
ていることを特徴とする、少なくとも２つのプラスチツ
ク成分を混合するための混合ヘツド。
【請求項２】案内もしくは流出通路（3,26）の横断面が
円形に構成されており、絞り機構（８）の縁切欠き（3
5）が流出通路横断面と合同の円部分により形成されて
いる、特許請求の範囲第１項記載の混合ヘツド。
【請求項３】絞り位置にある絞り機構（８）の流出通路
側の側縁（30）の外面（36）が流出通路（26）に係合す
る範囲のどの横断平面においても円形の流出通路横断面
の割線を成している、特許請求の範囲第２項記載の混合
ヘツド。
【請求項４】絞り位置にある絞り機構（８）の流出通路
側の側縁（30）が流出通路の開放横断面積を部分的に制
限しかつこの開放横断面積を減少させる外面（36）を有
し、この外面（36）が流出開口（25）に向かつて先細に
構成されている、特許請求の範囲第１項から第３項まで
のいずれか１つの項に記載の混合ヘツド。
【請求項５】絞り機構（８）の流出通路側の側縁（30）
の外面（36）が、流出通路（26）の開放横断面の残つた
部分を制限する壁面（37）と協働して、流出開口（25）
に向かつて増大する横断面を有する円部分状の絞り間隙
（38）を形成している、特許請求の範囲第４項記載の混
合ヘツド。
【請求項６】絞り機構（８）が混合ヘツドケーシング
（２）内に案内されたスライドプレート（28）によつて
形成されている、特許請求の範囲第１項から第５項まで
のいずれか１つの項に記載の混合ヘツド。
【請求項７】流出通路側の外面（36）で互いに向き合つ
て混合ヘツドケーシング（２）に案内された２つのスラ
イドプレート（28,28;28a,28b）によつて絞り機構
（８）が形成されており、これらのスライドプレート
（28,28;28a,28b）が外面（36）で流出開口（25）に向
かつて増大する横断面積を有するほぼ方形の絞り間隙
（38a）を形成している、特許請求の範囲第１項から第
４項までのいずれか１つの項に記載の混合ヘツド。
【請求項８】スライドプレート（28,28a,28b）が縦断面
で見て楔形の基本形状を有している、特許請求の範囲第
６項又は第７項記載の混合ヘツド。
【請求項９】絞り機構（８）の両方のスライドプレート
（28,28）が流出通路（26）の中央の対称縦平面の両側
に横断面で見て対称的に配置されている、特許請求の範
囲第７項又は第８項記載の混合ヘツド。
【請求項１０】絞り機構（８）の両方のスライドプレー
ト（28a,28b）の互いに向き合つた流出通路側の外面（3
6）が絞り位置でデイフユーザ状に拡大する絞り間隙（3
8a）と混合室（５）との間に後混合室（39）を形成して
いる、特許請求の範囲第７項又は第８項記載の混合ヘツ
ド。
【請求項１１】混合室（５）と後混合室（39）とが接続
間隙（40）で互いに流動的に結合されている、特許請求
の範囲第10項記載の混合ヘツド。
【請求項１２】後混合室（39）が絞り機構（８）の両方
のスライドプレートの互いに向き合つた外面の少なくと
も一方を成形することによつて形成されている、特許請
求の範囲第10項又は第11項記載の混合ヘツド。
【請求項１３】絞り機構（８）を形成する両方のスライ
ドプレート（28a,28b）が、流出通路（26）の縦方向で
互いに異なる高さを有し、後混合室（39）が高い方のス
ライドプレート（28b）の流出通路側の外面（36）と、
この外面（36）と向き合つた流出通路（26）の壁面（3
7）とにより、高い方のスライドプレート（28b）が低い
方のスライドプレート（28a）の上に突出している範囲
に形成されている、特許請求の範囲第11項又は第12項記
載の混合ヘツド。
【請求項１４】後混合室（39）がデイフユーザ状に拡大
する絞り間隙（38a）に向かつて拡大する円部分状の横
断面を有し、デイフユーザ状に拡大する絞り間隙（38
a）が流出開口（25）に向かつて拡大する、ほぼ方形の
横断面を有している、特許請求の範囲第13項記載の混合
ヘツド。
【請求項１５】両方のスライドプレート（28,28;28a,28
b）に、このスライドプレート（28,28;28a,28b）を一緒
に又は個別に案内もしくは流出通路（3,26）の縦軸線に
対して横方向に往復運動させる調節機構が配属されてい
る、特許請求の範囲第７項から第14項までのいずれか１
つの項に記載の混合ヘツド。