JPH07115273B2

JPH07115273B2 - 単結晶インゴット姿勢調整装置

Info

Publication number: JPH07115273B2
Application number: JP8593990A
Authority: JP
Inventors: 宏幸伊部
Original assignee: Shin Etsu Handotai Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority date: 1990-03-31
Filing date: 1990-03-31
Publication date: 1995-12-13
Anticipated expiration: 2010-12-13
Also published as: JPH03287335A

Description

【発明の詳細な説明】【産業上の利用分野】

本発明は、周面研削装置に単結晶インゴットをクランプ
させる際に、把持した該単結晶インゴットの姿勢を調整
する単結晶インゴット姿勢調整装置に関する。

【従来の技術】

CZ法又はFZ法により育成された単結晶インゴットは、次
のような工程を経て円柱形にされる。（１）単結晶インゴットのコーン状両端部を軸に垂直な
方向に切断して、単結晶インゴットを略円柱形にする。（２）単結晶インゴットを荷車に載せて手動で搬送し、
作業者が単結晶インゴットを把持して、単結晶インゴッ
トを回転装置の回転クランプ軸に保持させる。単結晶イ
ンゴットを手で回転させ、作業者の勘で、研削後の単結
晶インゴットの直径を最大にするための単結晶インゴッ
トの回転中心の、回転クランプ軸の回転中心からのずれ
量を判断する。作業者がハンマーで単結晶インゴットの
周面をたたいてこのずれをなくす。（３）この状態で、回転クランプ軸を単結晶インゴット
の端面にさらに強く押し付ける。単結晶インゴットを回
転させ、砥石移動装置により、単結晶インゴットの周面
に砥石を押接移動させて、単結晶インゴットを円柱形に
研削する。

【発明が解決しようとする課題】

しかし、上記（２）の工程において、作業者の勘で上記
ずれ量を判断していたので、両中心の一致を正確に行な
うことができなかった。このため、単結晶インゴット周
面の削りしろが必要以上に大きくなり、無駄が生じてい
た。この動作を自動化しかつ前記一致を正確にするために
は、一対のハンドで単結晶インゴットを把持し、各ハン
ドの位置を調整する単結晶インゴット姿勢調整装置が必
要となる。そこで、各ハンドを垂直面内で別個に移動さ
せるＸ−Ｙステージを２つ、単結晶インゴット姿勢調整
装置に備えることもできる。しかし、この場合、単結晶
インゴット姿勢調整装置の横幅が相当広くなる。また、
単結晶インゴットの研削回転中心をインゴット周面研削
装置の回転クランプ軸の回転軸中心線上に正確に一致さ
せることができない。すなわち、研削回転中心線を回転
クランプ軸の中心線に平行にさせるための動作が２ステ
ップ必要であり、さらに、両中心線を一致させるための
動作が２ステップ必要であるが、両中心線を一致させる
ための動作においては、各ハンドを駆動するモータを同
一時間だけオンにしても、２個のモータの停止精度の差
や２つのハンドの機械的寸法差により、両中心線を正確
に一致させることができない。さらに、各ハンドを単独
で動作させると、単結晶インゴットに無理な力が加わ
る。本発明の目的は、このような問題点に鑑み、周面研削装
置に単結晶インゴットをクランプさせる際に、単結晶イ
ンゴットに無理な力を加えることなく、単結晶インゴッ
トの姿勢を所望の姿勢に正確に調整することが可能な単
結晶インゴット姿勢調整装置を提供することにある。

【課題解決手段及びその作用効果】

この目的を達成するために、本発明に係る単結晶インゴ
ット姿勢調整装置では、ベースと、該ベースに取り付け
られ、垂直面内に互いに直交するＸ軸方向及びＹ軸方向
に移動され、その移動量が調整されるＸ−Ｙステージ
と、該Ｘ−Ｙステージに取り付けられ、該Ｘ軸に平行な
第１軸を中心として回転移動され、その回転角が所定範
囲内で調整されるθステージと、該θステージに取り付
けられ、該Ｙ軸に略平行な第２軸を中心として回転移動
され、その回転角が調整されるφステージと、該φステ
ージに取り付けられ、該単結晶インゴットを把持するハ
ンドとを備えている。本発明は、その横幅を、上記のようにＸ−Ｙステージを
各ハンドに連結した装置よりも半分に狭くでき、また、
例えば第12図に示す互いに独立な４つのステップによ
り、単結晶インゴットの姿勢を所望の姿勢に正確に調整
することが可能となる。さらに、この調整の際には、単
結晶インゴットに無理な力が加えられることがない。Ｘ軸及びＹ軸の方向は、単結晶インゴット回転装置46の
クランプ回転軸70A及び70Bの回転中心線の方向に垂直な
面内にあればよく、したがって、通常のように、この回
転中心線が水平の場合には、例えば、前記Ｘ軸は水平方
向かつ該回転中心線と直角な方向であり、前記Ｙ軸は垂
直方向である。前記θステージは、例えば、一端部が前記Ｘ−Ｙステー
ジに、前記第１軸を中心として回転移動自在に支持さ
れ、他端部に第１送りねじが該θステージに垂直に螺貫
され、該第１送りねじの先端位置が該Ｘ−Ｙステージに
より制限され、該第１送りねじを回転させることによ
り、該θステージが該第１軸を中心として回転移動され
る。また、前記Ｘ−Ｙステージは、水平方向に直線駆動され
るＸステージと、前記Ｘステージに軸支され、１本の軸
に左雄ねじと右雄ねじが形成された第２送りねじと、該
左雄ねじと右雄ねじの各々に螺合する１対のナットと、
該ナットと一体的に移動し、該第２送りねじの軸方向に
非平行な傾斜面を有する１対のスライドブロックと、Ｙ
ステージと、該Ｙステージに固定され、該傾斜面に平行
な面を該スライドブロックの傾斜面と対向配置させた１
対の固定ブロックと、該固定ブロックの傾斜面に沿って
該スライドブロックを案内する手段とを有し、該第２送
りねじを回転させることにより、互いに平行な該Ｘステ
ージと該Ｙステージの間隔が変化する。

【実施例】

以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明する。（１）第１実施例第１図は単結晶インゴット搬送・周面研削装置を示す。処理対象としての単結晶インゴット10は、その両端部が
軸方向に垂直に切断されて、略円柱形となっている。こ
の単結晶インゴット10は、不図示の搬送ロボットで回転
中心マーカ12に装着される。回転中心マーカ12は、軸方
向に沿った複数箇所で周形状を測定し、その形状に基づ
いて、単結晶インゴット10を最大直径の円柱形にするた
めの研削回転中心線を求める。そして、この中心線と単
結晶インゴット10の両端面の交点に研削中心点MA、MBを
記す。この単結晶インゴット10は、前記搬送ロボット
で、コンベア14のコンベアベルト141上に一定間隔をお
いて取り付けられた支持台142（第4A図）の上に置かれ
る。工場の天井側には、同一形状の走行レール16A及び16B
が、互いに平行かつコンベア14と直角な方向に、配設さ
れている。走行レール16A及び16Bには、それぞれ、同一
構成の単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20A及び20B
が、走行レール16A及び16Bに沿って走行自在に取り付け
られている。一方、工場の床上には、走行レール16A及び16Bに沿っ
て、それぞれ同一構成の単結晶インゴット周面研削装置
221A〜225A及び221B〜225Bが、一定間隔をおいて並置さ
れている。単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aと単結晶イン
ゴット周面研削装置221A〜225Aとは、通信線18Aを介し
て交信可能となっており、同様に、単結晶インゴット搬
送・姿勢調整装置20Bと単結晶インゴット周面研削装置2
21B〜225Bとの間は、通信線18Bを介して交信可能となっ
ている。通信線18Aと単結晶インゴット搬送・姿勢調整
装置20Aの間及び通信線18Bと単結晶インゴット搬送・姿
勢調整装置20Bとの間は、非接触で磁気的に結合されて
いる。単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aと20Bとは同一
動作をするので、以下、単結晶インゴット搬送・姿勢調
整装置20Aのみについて説明する。単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aは、コンベア1
4上の単結晶インゴット10を搬送して単結晶インゴット
周面研削装置221A〜225Aに供給し、単結晶インゴット周
面研削装置221A〜225Aで円形形に研削された単結晶イン
ゴット11を、コンベア14に平行に配置されたコンベア23
上に載せる。第２図は単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aの搬
送処理手順を示す。（100）最初、単結晶インゴット周面研削装置221A〜225
Aは研削対象物を持っていないので、単結晶インゴット
搬送・姿勢調整装置20Aは、コンベア14上の単結晶イン
ゴット10を搬送してこれら単結晶インゴット周面研削装
置221A〜225Aに供給する。（102）単結晶インゴット周面研削装置22iA（ｉ＝１〜
５）の何れかが、研削を終了して研削終了信号を発する
と、単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aはこれを
受信し、次のステップ104へ進む。（104）単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aは、研
削終了信号発信元である単結晶インゴット周面研削装置
22iA上まで走行する。（106）次に、単結晶インゴット周面研削装置22iAに保
持された円柱形単結晶インゴット11を把持し、これを単
結晶インゴット周面研削装置22iAから取り出す。（108）第１図に示す状態で、コンベア23上まで走行す
る。（110）把持している円柱形単結晶インゴット11をコン
ベア23上に載せる。（112）次に、コンベア14上まで走行する。（114）コンベア14上の単結晶インゴット10を把持し、
持ち上げる。（116）研削終了信号発信元である単結晶インゴット周
面研削装置22iA上まで走行する。（118）単結晶インゴット10を降下させ、単結晶インゴ
ット周面研削装置22iAに供給する。これにより、単結晶インゴット周面研削装置22iAは、単
結晶インゴット10を保持し、単結晶インゴット10の周面
を研削して単結晶インゴット10を円柱形にする。ここで、単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aの概
略構成を第4A図に基づいて説明する。この単結晶インゴ
ット搬送・姿勢調整装置20Aは、構成要素201〜206を備
えている。走行部201は、走行レール16Aに係止され、モータM1で走
行レール16Aの長手方向に沿って走行する。また、走行
部201は、下端が姿勢調整部202の上端に固着された垂直
アーム203を、モータM2で昇降駆動する。垂直アーム203
と走行部201との間は、例えば、ラックとピニオンで結
合されている。姿勢調整部202の下端には同一構成の２つのリスト204が
固着され、リスト204、204の各々には、同一構成のハン
ド205、206が取り付けられている。各ハンド205、206
は、リスト204、204の各々に備えられたトルクモータM
4、M4で互いに上下反対方向に同一距離だけ駆動され
る。例えば、上部に右ねじが形成され下部に左ねじが形
成された垂直配置の送りねじを、トルクモータM4で回転
させることにより、この送りねじの上部及び下部に螺合
したナットを介してハンド205、206を上下動させる。リ
スト204、204の各々にトルクモータM4、M4を備える必要
があるのは、単結晶インゴット10の直径がその部位によ
り異なるためである。なお、姿勢調整部202には、後述するＸ−Ｙ−θ−φス
テージ24及びＸ−Ｙ−θ−φステージ24を駆動するため
の４個のモータが搭載されている。次に、上記ステップ114の詳細を第３図及び第4A〜4G図
に基づいて説明する。最初、単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aは、第4
A図に示す如く、姿勢調整部202が走行部201側（上限）
に位置している。また、ハンド205と206とは互いに最大
限離れている。（200）この状態で、走行部201は姿勢調整部202をコン
ベア14上の単結晶インゴット10の高さまで下降させ、第
4B図に示す状態で停止させる。（202）コンベアベルト141を１ステップ（コンベア14上
の単結晶インゴット10間の距離）移動させて、第4C図に
示す如く、ハンド205と206との間に単結晶インゴット10
を位置させる。（204）リスト204は、トルクモータM3をオンにしてハン
ド205及び206を互いに接近する方向に移動させ、第4D図
に示す状態にする。トルクモータM3はオンにしたままで
ある。（206）走行部201は姿勢調整部202を上方へ上限まで移
動させ、第4E図に示す状態で停止させる。以上のようにして、第２図に示すステップ114の処理が
実行される。第２図に示すステップ110の処理は、第３図に示すステ
ップ210からステップ200へ逆方向に進むことで実行され
る。次に、第５図乃至第７図に基づいて、第１図の単結晶イ
ンゴット周面研削装置221Aを説明する。この単結晶インゴット周面研削装置221Aの機械的構成
は、別体の単結晶インゴット回転装置46と砥石移動装置
48とからなる。砥石移動装置48は、単結晶インゴット回
転装置46に保持されて回転する単結晶インゴット10に対
し砥石49を前後左右に移動させる周知の構成であり、省
説する。以下、単結晶インゴット回転装置46について説
明する。基台50上に固定されたベースプレート52上には、脚板54
A及び２本の平行なレール56が固定されている。２本の
レール56上には、スライダ58が嵌合されており、スライ
ダ58は、脚板54Aと直角な方向に、レール56に沿って移
動自在となっている。スライダ58上には、脚板54Aに対
向して、脚板54Bが固定されている。脚板54B上には、油
圧シリンダ60がそのピストンロッド62をレール56と平行
にして固定されている。ピストンロッド62の先端はスト
ッパ64に固定され、ストッパ64の下面にスライダ65が固
定され、スライダ65がレール56に嵌合されている。スト
ッパ64は、これを螺貫するねじ66により、レール56に沿
った任意の位置で、レール56に固定される。第６図に示す如く、脚板54Aには、これを貫通する孔の
両端部にベアリング68Aが固定され、このベアリング68A
に回転クランプ軸70Aが嵌入支持されている。回転クラ
ンプ軸70Aの先端面には、ゴム環板72Aが貼着されてい
る。脚板54Aの外側に突出した回転クランプ軸70A基端部
には、平歯車74が嵌着されている。一方、脚板54Aに
は、不図示のブラケットを介してモータ76が固定され、
このモータ76の駆動軸77に、平歯車74と噛合する平歯車
78が嵌着されている。したがって、モータ76をオンにすると、回転クランプ軸
70Aが回転する。回転クランプ軸70Aの軸芯部には、回転クランプ軸70Aと
同心に、貫通孔79Aが形成されている。貫通孔79A内に
は、外周面にベアリング80Aが嵌着されたボアスコープ8
2Aの先端側が挿入支持されている。ボアスコープ82A
は、硬いパイプ821の基端部が基部822に取り付けられ、
基部822内に配設された接眼レンズ823に対向して、基部
822にCCDカメラ84Aが固定されている。この基部822は、
不図示のブラケットを介して下側の脚板54Aに支持され
ている。パイプ821の基端には、光源86Aが固定されてい
る。光源86Aからの照明光は、パイプ821の内周面に配置
されたライトガイド（光ファイバ）824を通って、ボア
スコープ82Aの先端から外部に導出され、単結晶インゴ
ット10の端面を照明する。単結晶インゴット10の端面か
らの反射光は、パイプ821内に配置された対物レンズ82
5、リレーレンズ826を通り、さらに接眼レンズ823を通
ってCCDカメラ84A内のイメージセンサ（不図示）に結像
される。CCDカメラ84Aから取り出された映像信号は、確
認用のモニターTV88Aへ供給される。したがって、モニターTV88Aの画面Ａ上には、単結晶イ
ンゴット10の端面に記された研削中心点MAに対応した研
削中心点像NAが映る。モニターTV88AにはXY直交座標も
映され、その交点は、ボアスコープ82Aの光軸及び回転
クランプ軸70Aの回転中心線に対応している。第７図は、脚板54B側の構成を示す。この構成は、回転
クランプ軸70Bが自由回転する以外は第６図と同一にな
っており、同一構成要素には同一番号を付しかつＡの代
わりにＢを付して、その説明を省略する。なお、第５図において、研削の際に研削屑及び冷却液が
飛び散るので、脚板54Aと54B間の上面及び正面を覆う不
図示のスライドカバーがベースプレート52の長手方向に
沿ってスライド自在に備えられ、また、脚板54Aと54B間
の背面を覆い砥石49が貫通して砥石49と共に移動する不
図示のスライドシートが砥石移動装置48に備えられてい
る。第８図に示す如く、CCDカメラ84A及び84Bからの映像信
号は、位置計測器90にも供給され、位置計測器90は、CC
Dカメラ84A及び84Bの光軸からの、研削中心点MA及びMB
のずれ座標（ΔX_A、ΔY_A）及び（ΔX_B、ΔY_B）を求め、
これをコントローラ92へ供給する。第13図（Ａ）は、研
削中心点像NA及びNBについてこれらの座標を示す。コン
トローラ92は、姿勢調整部202に備えられたドライバ94
を介して、Ｘ−Ｙ−θ−φステージ24のＸステージ26、
Ｙステージ28、θステージ30及びφステージ32を駆動
し、上記ずれ座標を原点（0,0）に一致させる。ドライ
バ94とコントローラ92との間は、光又は磁気で非接触に
結合されている。次に、第９図及び第10図に基づいてＸ−Ｙ−θ−φステ
ージ24の構成を説明する。第10図は第９図のＡ−Ａ線拡
大断面図である。ベース25には、その下面両側部に、レール251が紙面垂
直方向にして固定され、下面中央部に、送りねじ252が
紙面垂直方向にして不図示の軸受で支持され、モータM5
で回転駆動される。一方、Ｘステージ26の上面には、レ
ール251が嵌合されるスライダ261が固定されている。ま
た、Ｘステージ26の上面中央部には、前記送りねじ252
が螺貫されるナット262が固定されている。したがって、モータM5をオンにすると、Ｘステージ26は
ベース25に対し第９図紙面垂直方向へ移動する。Ｘステージ26の下面両側部には、脚板264が互いに対向
して固定され、脚板264に送りねじ265が回転自在に支持
されている。送りねじ265には、ハンド205及び206の駆
動部と同様に、右雄ねじと左雄ねじが左右対称に形成さ
れ、両雄ねじにナット266が螺合されている。この送り
ねじ265は、脚板264に固定されたモータM6で回転駆動さ
れる。ナット266は、スライドプレート267の下面中央部
に固定されている。スライドプレート267の上面側部に
は、スライダ269が固定されている。このスライダ269
は、Ｘステージ26の下面に第９図左右方向に固定された
レール270に嵌合されている。スライドプレート267の下
面側部には、テーパブロック268が固定されている。テ
ーパブロック268の下面（傾斜面）にはレール271が固定
され、レール271は前記スライダ269と同一形状のガイド
281に嵌合され、ガイド281は、Ｙステージ28の上面両側
部にテーパブロック282を介して固定されている。したがって、モータM6をオンにすると、テーパブロック
268が互いに左右反対方向に移動し、同時に、Ｙステー
ジ28がＸステージ26に対し矢印Ｙ方向に上下動する。Ｙステージ28の下面一端部には連結片283が固定され、
これに対応して、θステージ30の上面一端部に連結片30
1が固定され、連結片283及び301にピン302が貫通されて
いる。θステージ30の他端部には、送りねじ303が螺貫
され、送りねじ303の基端部に嵌着された平歯車304が、
θステージ30に固定されたモータM7で回転駆動される。
送りねじ303の先端は、Ｙステージ28の側面に固定され
たＬ字形284の水平部を押圧している。したがって、モータM7をオンにすると、θステージ30
は、Ｙステージ28に対し、ピン302を中心として矢印θ
方向に回転移動する。 θステージ30の下面には、ウオームホイールであるφス
テージ32がスペーサ321を介してピン322で回転自在に支
持されている。φステージ32には、不図示の軸受に支持
されたウオーム323が噛合しており、このウオーム323
は、θステージ30に固定されたモータM8により駆動され
る。したがって、モータM8をオンにすると、φステージ32は
θステージ30に対し、ピン322を中心として矢印φ方向
に回転移動する。 φステージ32には、第4A図に示すリスト204が固定され
ている（第９図には不図示）。第11図は、Ｘ−Ｙ−θ−φステージ24による単結晶イン
ゴット10の移動方向をＸ、Ｙ、θ、φで示す。θの回転
中心はＸ軸に平行であり、φの回転中心はＹ軸に平行で
ある。次に、第12図及び第13図に基づいて、姿勢調整部202を
下降させた状態で動作されるＸ−Ｙ−θ−φステージ24
の姿勢調整動作を説明する。最初、研削中心点像NA及び
NBは第13図に示す如くなっている。（300）この状態で、第13図（Ｂ）に示す如くΔX_A＝ΔX
_Bとなるように、φステージ32を回転させる。（302）次に、第13図（Ｃ）に示す如くΔX_A＝ΔX_B＝０
となるように、Ｘステージ26を移動させる。（304）次に、第13図（Ｄ）に示す如くΔY_A＝ΔY_Bとな
るように、θステージ30を回転させる。（306）次に、第13図（Ｅ）に示す如くΔY_A＝ΔY_B＝０
となるように、Ｙステージ28を移動させる。このようにして、研削中心点MA及びMBが回転クランプ軸
70A及び70Bの回転中心線上に正確に一致する。この状態で、油圧シリンダ60をオンにして単結晶インゴ
ット10を回転クランプ軸70A、70B間に保持し、モータ76
をオンにして単結晶インゴット10を回転させ、砥石移動
装置48により単結晶インゴット10の周面を研削する。こ
れにより、ほぼ最大直径の円柱形単結晶インゴット11を
得ることができる。（２）第２実施例第14図は第２実施例の単結晶インゴット搬送・姿勢調整
装置20Cを示す。この単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Cは、床上
に敷設されたレール16Cに沿って搬送部201Aが移動す
る。搬送部201Aのベースプレート25上には、第９図に示
すＸ−Ｙ−θ−φステージ24を上下逆向きにしたものと
ほぼ同一構成のＸ−Ｙ−θ−φステージ24Aが備えられ
ており、同一構成要素には同一符号を付してその説明を
省略する。φステージ32上には、第4A図と同一のリスト
204が支柱324を介して固着され、リスト204の正面から
第4A図と同一のハンド206、207が紙面上方に突出してい
る。この単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Cは、第4A
図に示すような垂直アーム203を持っておらず、Ｙステ
ージ28が垂直アーム203の役割を果たしている。他の点は第１実施例と同一である。なお、本発明には外にも種々の変形例が含まれる。例えば、第14図に示す単結晶インゴット搬送・調整装置
20Cを床上に固定した単結晶インゴット姿勢調整装置を
備え、この単結晶インゴット姿勢調整装置の後方（紙面
下方）に、単結晶インゴット10を単結晶インゴット姿勢
調整装置に供給するためのローダを配置し、φステージ
32を180゜回転させて該ローダから単結晶インゴット10
を受け取り、φステージ32を180゜回転させ、Ｘステー
ジ26を紙面上方へ移動させて第14図に示す状態にし、単
結晶インゴット10の姿勢を調整するようにしてもよい。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第13図は本発明の第１実施例に係り、第１図は単結晶インゴット搬送・周面研削装置の概略構
成を示す斜視図、第２図は単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置20Aの処
理手順を示すジェネラルフローチャート、第３図は第２図のステップ114の詳細フローチャート、第4A〜4E図は、第３図に対応した、単結晶インゴット搬
送・姿勢調整装置20Aの動作説明図、第５図は単結晶インゴット周面研削装置221Aの斜視図、第６図は第５図の脚板54A付近の詳細を示す一部断面正
面図、第７図は第５図の脚板54B付近の詳細を示す一部断面正
面図、第８図は、単結晶インゴット搬送・周面研削装置の研削
中心位置合わせ部概略図、第９図は、Ｘ−Ｙ−θ−φステージ24の正面図、第10図は第９図のＡ−Ａ線拡大断面図第11図はＸ−Ｙ−θ−φステージ24による単結晶インゴ
ット10の移動方向を示す図、第12図はコントローラ92による研削中心位置合わせの処
理手順を示すフローチャート、第13図は、第12図と対応させて、モニター画面Ａ及びＢ
上の研削中心点像NA及びNBの位置を示す図である。第14図は本発明の第２実施例に係る単結晶インゴット搬
送・姿勢調整装置の正面図である。図中 10、11は単結晶インゴット 12は回転中心マーカ 14、23はコンベア 16A、16B、16Cは走行レール 20A、20B、20Cは単結晶インゴット搬送・姿勢調整装置 201、201Aは走行部 202は姿勢調整部 203は垂直アーム 204はリスト 205、206はハンド 22iA、22iB（ｉ＝１〜５）は単結晶インゴット周面研削
装置 24、24AはＸ−Ｙ−θ−φステージ 251、270、271、56はレール 26はＸステージ 261、269、323、58、65はスライダ 262、266はナット 252、265、303、324は送りねじ 264、54A、54Bは脚板 267、304は平歯車 268、282はテーパブロック 28はＹステージ 281はガイド 30はθステージ 32はφステージ 323はウオーム 46は単結晶インゴット回転装置 48は砥石移動装置 60は油圧シリンダ 70A、70Bは回転クランプ軸 74、78は平歯車 76、M1〜M8はモータ 82A、82Bはボアスコープ 84A、84BはCCDカメラ 86A、86Bは光源 88A、88BはモニターTV

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ベース（25）と、該ベースに取り付けられ、垂直面内の互いに直交するＸ
軸方向及びＹ軸方向に移動され、その移動量が調整され
るＸ−Ｙステージ（26,28）と、該Ｘ−Ｙステージに取り付けられ、該Ｘ軸に平行な第１
軸（302）を中心として回転移動され、その回転角が所
定範囲内で調整されるθステージ（30）と、該θステージに取り付けられ、該Ｙ軸に略平行な第２軸
を中心として回転移動され、その回転角が調整されるφ
ステージ（32）と、該φステージに取り付けられ、該単結晶インゴットを把
持するハンドと、を備えていることを特徴とする単結晶インゴット姿勢調
整装置。
【請求項２】前記Ｘ軸は水平方向であり、前記Ｙ軸は垂
直方向であることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】前記θステージ（30）は、一端部が前記Ｘ
−Ｙステージに、前記第１軸（302）を中心として回転
移動自在に支持され、他端部に第１送りねじ（303）が
該θステージに垂直に螺貫され、該第１送りねじの先端
位置が該Ｘ−Ｙステージにより制限され、該第１送りね
じを回転させることにより、該θステージが該第１軸を
中心として回転移動されることを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項４】前記Ｘ−Ｙステージは、水平方向に直線駆動されるＸステージ（26）と、前記Ｘステージに軸支され、１本の軸に左雄ねじと右雄
ねじが形成された第２送りねじ（265）と、該左雄ねじと右雄ねじの各々に螺合する１対のナット
（266）と、該ナットと一体的に移動し、該第２送りねじの軸方向に
非平行な傾斜面を有する１対のスライドブロック（26
8、271）と、Ｙステージ（28）と、該Ｙステージに固定され、該傾斜面に平行な面を該スラ
イドブロックの傾斜面と対向配置させた１対の固定ブロ
ック（282）と、該固定ブロックの傾斜面に沿って該スライドブロックを
案内する手段（281）とを有し、該第２送りねじを回転させることにより、互いに平行な
該Ｘステージと該Ｙステージの間隔を変化させるように
したことを特徴とする請求項１又は３記載の装置。