JPH07113981A - 光走査装置 - Google Patents

光走査装置

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JPH07113981A
JPH07113981A JP25876593A JP25876593A JPH07113981A JP H07113981 A JPH07113981 A JP H07113981A JP 25876593 A JP25876593 A JP 25876593A JP 25876593 A JP25876593 A JP 25876593A JP H07113981 A JPH07113981 A JP H07113981A
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球 高田
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隆史 鈴木
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 レーザビームプリンタ等に用いられる光走査
装置において、小型化、低価格化を同時に実現する光走
査装置を提供するものである。 【構成】 回動レンズ3と偏向鏡4とをモータ5に一体
に取り付け、モータ5に伴って共に回転する。半導体レ
ーザ1から射出されたビームは、回動レンズ3を透過し
た後、偏向鏡4で反射され、結像レンズ6により集束作
用を受けて被走査面7上にビームスポットを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレーザビームプリンタ等
に用いられる光走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来用いられているレーザビームプリン
タ等に用いられる光走査装置は、半導体レーザ等の光源
から射出し、コリメータレンズによって平行化されたビ
ームを回転多面鏡で偏向走査し、fθレンズによって被
走査面上にビームスポットを形成していた。回転多面鏡
の角速度は一定なので、被走査面上での走査速度を一定
にするために、fθレンズに負の歪曲収差特性を与え、
等速走査を実現していた。
【0003】ところで、fθレンズに要求される収差特
性は以下の2点である。一つは、等速走査性を得るため
に、特定の負の歪曲収差を持たせることであり、もう一
つは、スポット径を回折限界に近くし、像面の平坦性を
得るため、像面湾曲を小さくすることである。負の歪曲
収差を発生させるためには、幾何光学的には入射瞳の後
方に正のレンズを配置するか、あるいは入射瞳の前方に
負のレンズを配置すればよい。従来の光走査装置では、
正のパワーを有しているfθレンズを入射瞳、すなわち
偏向点から後方に配設し、負の歪曲収差を発生させてい
た。よりよいレンズ性能を得るには、fθレンズの枚数
は多い方が望ましい。しかし、枚数が増加すればコスト
が高くなり、調整が複雑化し、ビームの強度が低下する
といった問題が生じる。また、非球面レンズを用いれば
収差補正の自由度が大きくなり、レンズ枚数を削減する
ことが可能となるが、切削によりガラスで作る場合も、
金型を用いて成形によりプラスチックで作る場合も、非
球面形状を形成するには非常に高度な技術を必要とする
ため高価となりあまり実用的ではない。
【0004】従来の光走査装置に用いられたfθレンズ
としては、例えば特開昭58−5706号公報に開示さ
れている単玉fθレンズがあった。また、2枚構成のf
θレンズとしては、特開昭53−137631号公報に
開示されているものがあった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の光走査装置では、fθレンズに負の歪曲収差を
与えるために、fθレンズは入射瞳、すなわち偏向点か
ら後方に大きく離して配設される必要があり、fθレン
ズが大口径となり高価であった。従って、装置が大型化
し、コストも高くなるという問題を有していた。
【0006】さらに、特に単玉fθレンズでは、収差補
正のためのレンズ面の自由度が小さいために収差特性が
悪く、特に像面湾曲収差を表すペッツバール和が必然的
に正の値となり像面湾曲収差を除去できなかった。その
ため、走査角をあまり大きくはとれず、結果として光路
長が大きくなり装置の大型化を招いてしまうという問題
をも有していた。
【0007】単玉fθレンズに対し、fθレンズの構成
枚数が複数の場合には、収差特性は良好となり、特に正
のレンズと負のレンズとを組み合わせることによりペッ
ツバール和を0にし、像面湾曲特性を良好にすることが
できたが、やはり大口径で高価なレンズが複数枚も必要
であるという問題を有していた。
【0008】本発明は上述した課題を解決するためにな
されたもので、その目的とするところは、小型化、低価
格化を同時に実現する光走査装置を提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は、
光ビームを発生する光源、光ビームを偏向する偏向手段
を有し、偏向手段により偏向された光ビームを被走査面
上に結像させるための結像光学系を有する光走査装置に
おいて、偏向手段と共に回動する光学系を有し、光学系
は少なくとも主走査方向において負のパワーを有し、光
学系は、偏向手段への入射ビームが通過する位置にある
ことを特徴とする。
【0010】また、本発明の光走査装置は、上記構成に
加え、以下のいずれかを備えたことを特徴とする。
【0011】1)光学系は単レンズにより構成される。
【0012】2)偏向手段は1面もしくは2面の反射面
を有し、反射面と同数の光学系を有する。
【0013】3)結像光学系は偏向手段と共に回動する
第2光学系を有し、第2光学系は、偏向手段で反射され
たビームが通過する位置にある。
【0014】4)光学系は主走査方向と副走査方向とで
パワーが異なる。
【0015】5)光学系は副走査方向にパワーを持たな
い。
【0016】6)光学系はシリンドリカル面を有する。
【0017】7)偏向手段は複数の反射面を有し、反射
面と同数の光学系を有し、光学系は偏向手段の回動中心
に関して等角度間隔で配設される。
【0018】
【実施例】以下、図面に基づき本発明を詳細に説明す
る。
【0019】図1乃至図4は本発明の光走査装置の代表
的な実施例としての光走査装置を示したものである。図
1および図2において、光源である半導体レーザ1より
射出したビームがコリメータレンズ2によって平行なビ
ームとされる。回動する光学系としての回動レンズ3、
および偏向手段としての偏向鏡4はモータ5の回転部に
配設されており、それらは共にモータ5の回転に伴って
等速回転する。コリメータレンズ2から射出された平行
ビームは負のパワーを有する回動レンズ3で発散ビーム
とされ、偏向鏡4で反射され、偏向鏡4の回転により偏
向される。偏向されたビームは、結像光学系である結像
レンズ6により集束作用を受け、被走査面7上にビーム
スポットを形成する。なお、光軸と直交し偏向鏡4の回
転軸に垂直な方向を主走査方向、光軸と直交し主走査方
向に垂直な方向を副走査方向と称す。
【0020】図3に回動レンズ3および偏向鏡4の回転
に伴ってビームが偏向される様子を模式的に示す。回動
レンズ3および偏向鏡4は、偏向鏡4の反射面R内の回
転中心Oを中心に回転し、I、II、IIIのように変
位する。入射ビームLは回動レンズ3の回転に伴い、回
動レンズ3のそれぞれ異なる位置を透過するため、異な
る屈折力を受けて偏向される。ビームはさらに偏向鏡4
の反射面Rで反射されて、さらにその偏向角を大きく
し、射出ビームM1、M2、M3のように偏向される。偏
向されたビームは、結像レンズ6で集束作用を受ける。
【0021】図4は本実施例の光学系の主走査断面を、
偏向鏡4の反射面Rで展開して示した模式図である。図
4(a)は被走査面7をビームスポットが走査を開始す
る時点の図であり、図4(b)はビームスポットが被走
査面7の中心を走査する時点の図である。入射瞳Pは反
射面の近傍に存在することとなる。これらの図を用いて
収差補正の原理を説明する。
【0022】図4からもわかるように、本実施例の光学
系は、従来の光走査装置の光学系とは異なり、入射瞳P
より手前に光学系(回動レンズ3)が存在し、回動レン
ズ3がビームBの入射角度に応じて、その角度の1/2
だけ回転しているのと等価となっている。回動レンズ3
が入射瞳Pより手前にあるため、回動レンズ3の主走査
方向に負のパワーを持たせることによって、負の歪曲収
差を発生させることができる。また、正のパワーを有す
る結像レンズ6は入射瞳Pより後方にあるため、やはり
負の歪曲収差を発生する。このように、回動レンズ3と
結像レンズ6とで負の歪曲収差の発生量を負担し合うの
で、結像レンズ6での負の歪曲収差の発生量は少なくて
よい。そのため、結像レンズ6を入射瞳Pに近づけるこ
とができ、小径化が可能となる。なお、結像レンズ6の
負の歪曲収差の発生量を小さくできるということは、結
像レンズ6の低屈折率化にもつながる。
【0023】また、回動レンズ3と結像レンズ6とは、
それぞれ負、正のパワーを有しているため、これらを組
み合わせることにより像面湾曲特性も良好となる。
【0024】さらに、回動レンズ3は、偏向鏡4により
偏向されたビームの回転方向と同じ方向に回転するが、
その回転角は、偏向されたビームが光軸となす偏向角の
1/2だけであるため、結果的に入射角が小さく、有効
径が小さくなり、回動レンズ3を極めて小さくすること
ができる。
【0025】このように、回動レンズ3を用いることに
より、結像レンズ6の口径を小さくすることができ、従
来の光走査装置で用いられていたfθレンズよりも小口
径となる。また、回動レンズ3と結像レンズ6との2枚
のレンズにより構成される、本実施例の光学系と、従来
技術の2枚構成のfθレンズとを比較すると、収差特性
はほぼ同等であるが、大口径のレンズを2枚用いる従来
技術に対し、本実施例では回動レンズ3が極めて小さい
口径となる。
【0026】一般に、レンズの口径が大きくなれば、用
いる硝材の量はその2乗〜3乗に比例して増加し、加工
時間も増加するため、コストは飛躍的に高くなり、ま
た、レンズ面の面精度は悪化する。本発明では上述した
ように用いるレンズを小径化できるため、コストの低減
と面精度の向上が著しい。従って、小型で高精度かつ低
価格の光走査装置が実現される。
【0027】また、回動レンズ3は小口径でありレンズ
厚さも薄いので、回動レンズ3の慣性モーメントは小さ
く、モータ5の負担も小さい。なお、回動レンズ3は高
速で回転されるので、風切り音の低減、風損の低減のた
め、稜線を円弧状にしたり面取りをしたりするのが望ま
しい。
【0028】本実施例の代表的な設計例の光学諸元を以
下に示す。ただし、一走査の走査開始から走査終了まで
の偏向鏡の回転角を2ωとする。回動レンズの入射面、
射出面をそれぞれS1、S2、偏向鏡の反射面をS3、結
像レンズの入射面、射出面をそれぞれS4、S5とする。
各光学諸元の記号については、第i面Siの曲率半径を
i、第i面から次の面までの軸上間隔をdiとし、回動
レンズ、結像レンズの屈折率をそれぞれn1、n2とす
る。
【0029】
【表1】
【0030】図5はこの設計例についての主走査断面
図、図6はこの設計例の収差図である。なお、収差図に
ついては、像面湾曲は破線が主走査方向、実線が副走査
方向の収差を示している。走査直線性は、fθレンズの
通例では理想像高y=fθからの像高のずれを%で表す
が、本発明では回動レンズが回転するため理想像高がf
θとならない。従って、等価な表示方法として、光軸近
傍の光線について、偏向鏡の回転角に対する像高の変化
率をζとして、理想像高Y=ζθからのずれを%で表示
している。ωはビームスポットが被走査面上で走査中心
から走査端まで走査する間の、偏向鏡の回転角である。
図6を見ると像面湾曲が最大で2.5mm、走査直線性
が最大で1.1%と良好に補正されている。
【0031】本設計例では各光学面は球面としている
が、非球面あるいはトーリック面等にすれば収差補正の
自由度はさらに大きくなり、光学特性はさらに向上す
る。
【0032】本実施例では偏向鏡4は単面鏡として説明
してきたが、多面鏡であっても同等の効果が得られる。
この場合、例えば図7に示すようにモータ5の回転部
に、偏向鏡4の反射面Rと同数の回動レンズ3を配置す
れば良い。偏向鏡を多面鏡とすれば、モータが1回転す
る毎に複数回の走査が行われるため、単位時間当たりの
走査回数としての走査速度がさらに高くなる。また、反
射面Rと回動レンズ3を複数にすれば、回転中心Oを中
心にそれらを等しい角度で配置させるだけで、偏向鏡4
と複数の回動レンズの重心を回転中心Oに一致させるこ
とができ、バランス取りが容易となり、アンバランスも
低減され、モータの寿命が伸び、信頼性も向上する。
【0033】また、モータの負荷を小さくするために
は、偏向鏡は単面鏡か2面鏡であることが望ましい。単
面鏡か2面鏡であれば偏向鏡を平板状にすることがで
き、しかも偏向鏡が回転してもビームが反射する点はほ
とんど変位しないので、反射面の面積も狭くすることが
できるため、偏向鏡の慣性モーメントは極めて小さくな
る。先述したように、回動レンズの慣性モーメントも小
さいが、この長所を生かすために、単面鏡あるいは2面
鏡の偏向鏡を用いることは特に有効である。
【0034】次に、結像光学系が複数枚のレンズで構成
されている場合について説明する。図8では、結像光学
系は回動する第2光学系としての第2回動レンズ8と、
結像レンズ9の2枚のレンズにより構成されている。第
2回動レンズ8はモータ5の回転部に配設されており、
モータ5の回転に伴って、回動レンズ3、偏向鏡4と共
に等速回転する。コリメータレンズ2により平行化され
たビームは、負のパワーを有する回動レンズ3で発散作
用を受け、偏向鏡4で反射され、正のパワーを有する2
枚のレンズ、すなわち第2回動レンズ8、結像レンズ9
で集束作用を受け、被走査面7上にビームスポットを形
成する。
【0035】このように結像光学系を複数枚のレンズで
構成すれば、収差補正の自由度はさらに大きくなり、さ
らに光学特性が良好な光走査装置が得られる。特に、図
8のように、偏向鏡4により偏向されたビームが通過す
る側にも、回転するレンズ(第2回動レンズ8)を設け
れば、第2回動レンズ8の口径も回動レンズ3と同様に
極めて小さいため、あまりコストを高めることなく、ま
たモータの負荷を増加させることなく、光学特性を高め
ることができる。
【0036】図8に示した構成における代表的な設計例
の光学諸元を以下に示す。ただし、回動レンズの入射
面、射出面をそれぞれS1、S2、偏向鏡の反射面を
3、第2回動レンズの入射面、射出面をそれぞれS4
5、結像レンズの入射面、射出面をそれぞれS6、S7
とし、回動レンズ、第2回動レンズ、結像レンズの屈折
率をそれぞれn1、n2、n3とする。
【0037】
【表2】
【0038】図9はこの設計例についての主走査断面
図、図10はこの設計例の収差図である。
【0039】従来の光走査装置では、偏向鏡として多面
鏡を用いる場合には、各反射面の面倒れに起因する走査
線のピッチむらを除去するために、光学系に倒れ補正機
能を持たせることがよく行われてきた。本発明の光走査
装置の光学系においても、倒れ補正機能を持たせること
ができる。
【0040】図11を用いて、倒れ補正機能を有する構
成について説明する。コリメータレンズ2により平行化
されたビームは、シリンドリカルレンズ10により副走
査方向のみに集束作用を受け、回動レンズ3を透過して
偏向鏡4の反射面に、主走査方向に長い線状の像を形成
する。偏向鏡4は2面鏡であり、回動レンズ3もモータ
5の回転中心に関して対称に2個配設されている。結像
レンズ6は両面ともトーリック面であり、偏向鏡4の反
射面と被走査面7とが副走査方向に関して光学的に共役
関係にある。従って、偏向鏡4の各反射面に面倒れがあ
っても、被走査面7上におけるビームスポットの副走査
方向の位置は変化せず、走査線のピッチむらは発生しな
い。
【0041】図11に示した構成における代表的な設計
例の光学諸元を以下に示す。ただし、シリンドリカルレ
ンズの入射面、射出面をそれぞれS1、S2、回動レンズ
の入射面、射出面をそれぞれS3、S4、偏向鏡の反射面
をS5、結像レンズの入射面、射出面をそれぞれS6、S
7とし、シリンドリカルレンズ、回動レンズ、結像レン
ズの屈折率をそれぞれn1、n2、n3とする。また、ア
ナモフィックな光学面では、副走査方向、主走査方向の
曲率半径をそれぞれrix、riyとする。
【0042】
【表3】
【0043】図12はこの設計例について示した図であ
り、同図(a)は主走査断面図、同図(b)は反射面S
5に関して展開した副走査断面図である。また、図13
はこの設計例の収差図である。
【0044】本設計例では回動レンズの入射面、射出面
は球面としているが、アナモフィックな光学面としても
よい。回動レンズを主走査方向と副走査方向とでパワー
の異なるレンズとすれば、図11のシリンドリカルレン
ズ10と組み合わせて考えて、これら2枚のレンズによ
る副走査方向の焦点位置さえ変わらなければ、常に反射
面に線像を形成することができ、2枚のレンズのパワー
配分は任意に設定できる。回動レンズの副走査方向のパ
ワーを任意に設定できれば、副走査方向の収差補正の自
由度が拡大され、副走査方向の像面湾曲収差特性が向上
する。ところで、前出した図13の像面湾曲収差図を見
ればわかるように、本設計例の光学系は副走査方向の特
性の方が、光走査装置としての特性の限界を与えてい
る。従って、回動レンズを主走査方向と副走査方向とで
パワーの異なるレンズとすれば、さらに光学特性が良好
な光走査装置を得ることができる。
【0045】また、複数の回動レンズを用いる場合に
は、反射面のみならず回動レンズも倒れを生じることが
考えられるが、回動レンズを副走査方向にパワーを持た
ないレンズとすれば、2個の回動レンズに相対的な倒れ
を生じても、ビームは副走査方向に偏向されないので、
回動レンズの倒れによる走査線のピッチむらは全く生じ
ない。従って、高精度な面倒れ補正光学系を構成するこ
とができる。この場合、回動レンズを副走査断面が直線
であるシリンドリカルレンズとすれば、その製造も容易
となる。
【0046】本実施例では、偏向手段である偏向鏡と回
動する光学系である回動レンズとが別体である場合につ
いてのみ説明を行ってきたが、偏向手段と回動する光学
系とが一部材で構成されているような場合、すなわち、
例えば図14に示すように、回動レンズ3に反射面Rが
設けられており、ビームLは入射面Iへ入射し、反射面
Rで内面反射され、射出面Jから射出されるような場合
でも同様の効果がある。
【0047】また、本実施例は偏向鏡が等速回転する場
合について記したが、例えば回転軸を中心に正弦振動を
行うガルバノミラー等についても容易に実現可能であ
り、同様の効果が得られる。
【0048】本発明はレーザビームプリンタのみなら
ず、デジタル複写機、ファクシミリ、レーザ走査ディス
プレイ等の画像形成装置やスキャナ等の画像入力装置、
あるいは光学マーク読み取り用レーザ走査装置、表面検
査用レーザ走査装置等にも適用することができ、上述し
たような効果が得られる。
【0049】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
極めて口径の小さい回動レンズで収差を補正することが
可能となり、また結像レンズの口径をも小さくすること
ができるため、光学系の面精度が向上するのみならず、
小型化、低コスト化も可能となる。そのため、高精度で
光学特性の良好な光走査装置が小型低価格で実現され
る。
【0050】また、偏向鏡を多面鏡とし反射面と同数の
回動レンズを設ければ、走査の高速化が可能となるばか
りでなく、バランス取りが容易となって組立性が向上
し、モータの寿命が伸び、信頼性も向上する。あるい
は、単面鏡または2面鏡による走査としても、モータの
負荷が小さくなり、やはりモータの寿命が伸び、信頼性
が向上する。
【0051】第2の回動レンズを、偏向鏡で偏向された
ビームが通過する位置に設ければ、第2回動レンズは回
動レンズと同様に極めて小口径であるため、あまりコス
トを高めることなく、またモータの負荷を増加させるこ
ともなく、光学特性を高めることができる。
【0052】回動レンズを、主走査方向と副走査方向と
でパワーが異なるアナモフィックレンズとすれば、副走
査方向の収差特性がさらに良好となる。回動レンズを、
副走査方向にパワーを持たないレンズとすれば、倒れ補
正機能の効果が大きくなる。その際、回動レンズをシリ
ンドリカルレンズとすれば、製造は容易である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の代表的な実施例1の光走査装置の斜
視図。
【図2】 本発明の代表的な実施例1の光走査装置の光
学系の概念図。
【図3】 本発明において、回動レンズと偏向鏡との回
転に伴いビームが偏向される様子を示す図。
【図4】 本発明の代表的な実施例1の光走査装置の光
学系の光路図。
【図5】 本発明の代表的な実施例1の光学系の断面
図。
【図6】 本発明の代表的な実施例1の光学系の収差
図。
【図7】 本発明において、回動レンズを多数個配置し
た断面図。
【図8】 本発明の実施例2の光走査装置の斜視図。
【図9】 本発明の実施例2の光学系の断面図。
【図10】 本発明の実施例2の光学系の収差図。
【図11】 本発明の実施例3の光走査装置の斜視図。
【図12】 本発明の実施例3の光学系の断面図。
【図13】 本発明の実施例3の光学系の収差図。
【図14】 本発明において、回動レンズと偏向鏡とを
一部材で構成した断面図。
【符号の説明】
1 半導体レーザ 2 コリメータレンズ 3 回動レンズ 4 偏向鏡 5 モータ 6 結像レンズ 7 被走査面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井上 望 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ビームを発生する光源、前記光ビーム
    を偏向する偏向手段を有し、前記偏向手段により偏向さ
    れた光ビームを被走査面上に結像させるための結像光学
    系を有する光走査装置において、 前記偏向手段と共に回動する光学系を有し、前記光学系
    は少なくとも主走査方向において負のパワーを有し、前
    記光学系は、前記偏向手段への入射ビームが通過する位
    置にあることを特徴とする光走査装置。
  2. 【請求項2】 前記光学系は単レンズにより構成される
    ことを特徴とする、請求項1記載の光走査装置。
  3. 【請求項3】 前記偏向手段は1面もしくは2面の反射
    面を有し、前記反射面と同数の前記光学系を有すること
    を特徴とする、請求項1記載の光走査装置。
  4. 【請求項4】 前記結像光学系は前記偏向手段と共に回
    動する第2光学系を有し、前記第2光学系は、前記偏向
    手段で反射されたビームが通過する位置にあることを特
    徴とする、請求項1記載の光走査装置。
  5. 【請求項5】 前記光学系は主走査方向と副走査方向と
    でパワーが異なることを特徴とする、請求項1記載の光
    走査装置。
  6. 【請求項6】 前記光学系は副走査方向にパワーを持た
    ないことを特徴とする、請求項5記載の光走査装置。
  7. 【請求項7】 前記光学系はシリンドリカル面を有する
    ことを特徴とする、請求項6記載の光走査装置。
  8. 【請求項8】 前記偏向手段は複数の反射面を有し、前
    記反射面と同数の前記光学系を有し、前記光学系は前記
    偏向手段の回動中心に関して等角度間隔で配設されるこ
    とを特徴とする、請求項1記載の光走査装置。
JP25876593A 1993-10-15 1993-10-15 光走査装置 Expired - Fee Related JP3381333B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6429944B1 (ja) * 2017-05-30 2018-11-28 キヤノン株式会社 光走査装置及びそれを備える画像形成装置
US11604260B2 (en) * 2018-11-19 2023-03-14 Baidu Usa Llc LIDAR device with polygon-shape mirror and prism for autonomous driving vehicles

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