JPH0711384B2 - 窒素製造方法および装置 - Google Patents
窒素製造方法および装置Info
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- F25J3/04151—Purification and (pre-)cooling of the feed air; recuperative heat-exchange with product streams
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、空気から窒素等の製品ガスを分離する空気分
離装置に係り、特に高純度窒素を製造するのに好適な方
法および装置に関する。
離装置に係り、特に高純度窒素を製造するのに好適な方
法および装置に関する。
一般に、空気分離装置は、原料空気を圧縮機にて圧縮昇
圧させ、この圧縮熱により高温となった原料空気をアフ
タークーラーにて冷却し、次いで原料空気中の水分（H2
O）および二酸化炭素（CO2）を吸着塔によって吸着除去
し、H2OおよびCO2除去後の原料空気を熱交換器を介して
精留塔に供給して製品ガス（窒素あるいは酸素）を精留
分離している。このような空気分離装置は、例えば特開
昭56-97772号、特開昭55-49681号、特開昭55-38423号、
特開昭54-52667号、特開昭54-84888号に開示される。
圧させ、この圧縮熱により高温となった原料空気をアフ
タークーラーにて冷却し、次いで原料空気中の水分（H2
O）および二酸化炭素（CO2）を吸着塔によって吸着除去
し、H2OおよびCO2除去後の原料空気を熱交換器を介して
精留塔に供給して製品ガス（窒素あるいは酸素）を精留
分離している。このような空気分離装置は、例えば特開
昭56-97772号、特開昭55-49681号、特開昭55-38423号、
特開昭54-52667号、特開昭54-84888号に開示される。
ところで、半導体製造プロセス等では、大量の窒素が使
用されているが、ここで使用される窒素は、非常に高純
度のものが要求される。特に、窒素中に一酸化炭素、水
素が含まれることは、半導体の性能劣化、品質不良の原
因となり好ましくない。深冷分離により製造された窒素
ガス中には、窒素と同程度の沸点を有するか、それより
低い沸点を有する物質が混入している。この様な物質と
しては、ヘリウム、ネオン、水素、アルゴン、一酸化炭
素が挙げられる。一方、炭化水素、塩素、二酸化炭素、
水分等は、窒素より沸点が高いため、窒素中にはほとん
ど含まれない。従って、半導体製造プロセスに使用する
窒素を深冷分離による空気分離法で製造する場合には、
水素および一酸化炭素を如何に除去するかが問題とな
る。この様な背景のもとで、従来は、窒素ガス中に含ま
れる水素、一酸化炭素を除去する精製装置が使用されて
いた。以下、従来の精製装置の構成について概略説明す
る。第３図に従来の水素および一酸化炭素の除去装置の
系統図を示す。
用されているが、ここで使用される窒素は、非常に高純
度のものが要求される。特に、窒素中に一酸化炭素、水
素が含まれることは、半導体の性能劣化、品質不良の原
因となり好ましくない。深冷分離により製造された窒素
ガス中には、窒素と同程度の沸点を有するか、それより
低い沸点を有する物質が混入している。この様な物質と
しては、ヘリウム、ネオン、水素、アルゴン、一酸化炭
素が挙げられる。一方、炭化水素、塩素、二酸化炭素、
水分等は、窒素より沸点が高いため、窒素中にはほとん
ど含まれない。従って、半導体製造プロセスに使用する
窒素を深冷分離による空気分離法で製造する場合には、
水素および一酸化炭素を如何に除去するかが問題とな
る。この様な背景のもとで、従来は、窒素ガス中に含ま
れる水素、一酸化炭素を除去する精製装置が使用されて
いた。以下、従来の精製装置の構成について概略説明す
る。第３図に従来の水素および一酸化炭素の除去装置の
系統図を示す。
導管41から供給される水素、一酸化炭素を含む窒素ガス
に対して、導管42を通して、燃焼用の酸素ガスが添加さ
れる。添加する酸素ガスの量は、水素と一酸化炭素を燃
焼するに必要な量より、多少多目とし、未燃の水素、一
酸化炭素が残存しない様にする。次に、この混合ガス
は、電気ヒータ51により、90〜120℃程度まで昇温した
後、燃焼触媒を充填した触媒槽52に供給される。これ
は、水素は室温でも酸素と反応燃焼するが、一酸化炭素
の燃焼開始には前記の温度まで昇温する必要があるため
である。触媒槽52の中で、水素は酸素と反応して水分
に、一酸化炭素は酸素と反応して二酸化炭素となる。未
反応の加剰に加えられた酸素は、次に設けられた酸素吸
収触媒（例えばCu）を充填した触媒槽53により反応吸収
され、窒素ガス中から除去される。次いで、導管46を介
して冷却器54に導かれ、ここで室温まで冷却される。冷
却された窒素ガスは導管47を介して吸着塔55に供給さ
れ、ここに充填されている吸着剤により、水分と炭酸ガ
スが除去される。通常、酸素吸収触媒槽53と吸着塔55
は、夫々２基設置され、切替使用される。すなわち、一
方が吸収または吸着動作中に他方はその機能を再生さ
せ、これらを切替えることによって連続して吸収または
吸着動作を行わせる。
に対して、導管42を通して、燃焼用の酸素ガスが添加さ
れる。添加する酸素ガスの量は、水素と一酸化炭素を燃
焼するに必要な量より、多少多目とし、未燃の水素、一
酸化炭素が残存しない様にする。次に、この混合ガス
は、電気ヒータ51により、90〜120℃程度まで昇温した
後、燃焼触媒を充填した触媒槽52に供給される。これ
は、水素は室温でも酸素と反応燃焼するが、一酸化炭素
の燃焼開始には前記の温度まで昇温する必要があるため
である。触媒槽52の中で、水素は酸素と反応して水分
に、一酸化炭素は酸素と反応して二酸化炭素となる。未
反応の加剰に加えられた酸素は、次に設けられた酸素吸
収触媒（例えばCu）を充填した触媒槽53により反応吸収
され、窒素ガス中から除去される。次いで、導管46を介
して冷却器54に導かれ、ここで室温まで冷却される。冷
却された窒素ガスは導管47を介して吸着塔55に供給さ
れ、ここに充填されている吸着剤により、水分と炭酸ガ
スが除去される。通常、酸素吸収触媒槽53と吸着塔55
は、夫々２基設置され、切替使用される。すなわち、一
方が吸収または吸着動作中に他方はその機能を再生さ
せ、これらを切替えることによって連続して吸収または
吸着動作を行わせる。
このような精製装置を付加することによって、空気分離
装置で製造された窒素を精製し、窒素中から一酸化炭
素、水素を除去することができる。
装置で製造された窒素を精製し、窒素中から一酸化炭
素、水素を除去することができる。
上記従来技術は装置全体の簡略化とランニングコストの
低減について配慮がされておらず、装置全体が複雑化す
ると共に、高純度の酸素の使用、電力エネルギーの消費
等による運転費がコストアップとなる欠点があった。
低減について配慮がされておらず、装置全体が複雑化す
ると共に、高純度の酸素の使用、電力エネルギーの消費
等による運転費がコストアップとなる欠点があった。
本発明の目的は、圧縮機の昇圧熱及び加熱器の加熱によ
り原料空気を昇温して触媒反応させ、水素及び一酸化炭
素を含まない高純度の窒素ガスを製造する窒素製造方法
及び装置を提供することである。
り原料空気を昇温して触媒反応させ、水素及び一酸化炭
素を含まない高純度の窒素ガスを製造する窒素製造方法
及び装置を提供することである。
上記目的を達成するために、空気圧縮機で圧縮された原
料空気を反応・燃焼後の温度の高い原料空気と熱交換に
より昇温し、更に加熱器で触媒反応に適した90℃〜120
℃の温度まで昇温させ、該昇温した原料空気中の可燃成
分（一酸化炭素、水素等）と酸素と触媒槽で反応・燃焼
させ、該反応・燃焼により昇温した原料空気を前記原料
空気と熱交換により冷却後、更に常温まで冷却し、原料
空気中の水分および二酸化炭素等の不純物を除去し、該
不純物の除去された原料空気から深冷分離により高純度
の窒素ガスを製造することにより、達成される。
料空気を反応・燃焼後の温度の高い原料空気と熱交換に
より昇温し、更に加熱器で触媒反応に適した90℃〜120
℃の温度まで昇温させ、該昇温した原料空気中の可燃成
分（一酸化炭素、水素等）と酸素と触媒槽で反応・燃焼
させ、該反応・燃焼により昇温した原料空気を前記原料
空気と熱交換により冷却後、更に常温まで冷却し、原料
空気中の水分および二酸化炭素等の不純物を除去し、該
不純物の除去された原料空気から深冷分離により高純度
の窒素ガスを製造することにより、達成される。
空気圧縮機で圧縮され昇温した原料空気は、反応・燃焼
後の温度の高い原料空気により昇温し、更に加熱器で触
媒反応に適した温度まで昇温する。次に触媒槽で昇温し
た原料空気中の可燃成分と酸素とが反応・燃焼し、触媒
槽内で水素、一酸化炭素等の可燃物が除去される。該反
応、燃焼により昇温した原料空気は前記原料空気と熱交
換により冷却され、更に冷却器で常温まで冷却し、不純
物除去装置へ供給される。
後の温度の高い原料空気により昇温し、更に加熱器で触
媒反応に適した温度まで昇温する。次に触媒槽で昇温し
た原料空気中の可燃成分と酸素とが反応・燃焼し、触媒
槽内で水素、一酸化炭素等の可燃物が除去される。該反
応、燃焼により昇温した原料空気は前記原料空気と熱交
換により冷却され、更に冷却器で常温まで冷却し、不純
物除去装置へ供給される。
以下、本発明を実施例により説明する。第１図は圧縮空
気が冷却器４を通ってから、水素、一酸化炭素を除去す
る場合の本発明一実施例を示すフローシート図である。
この様な例は、圧縮空気が空気分離以外の用途にも使用
される場合に多く見られ、圧縮空気源が別に設置されて
いる場合などである。
気が冷却器４を通ってから、水素、一酸化炭素を除去す
る場合の本発明一実施例を示すフローシート図である。
この様な例は、圧縮空気が空気分離以外の用途にも使用
される場合に多く見られ、圧縮空気源が別に設置されて
いる場合などである。
第１図において、フィルター１は原料となる空気中のち
り等を除去する。空気圧縮機２はフィルター１通過後の
原料空気を圧縮（昇圧）する。冷却器４は原料空気を常
温まで冷却する。
り等を除去する。空気圧縮機２はフィルター１通過後の
原料空気を圧縮（昇圧）する。冷却器４は原料空気を常
温まで冷却する。
従って、冷却器４によって常温まで冷却された圧縮空気
は、熱交換器10内で、戻りの水素、一酸化炭素等の可燃
物を除去された温度の高い圧縮空気と熱交換して温度上
昇する。更に加熱器９により昇温されてから、触媒槽３
に入る。該触媒槽３には、白金やパラジムウ等の触媒が
充填されており、ここで空気中の可燃成分が燃焼され
る。従って、触媒槽３内で水素、一酸化炭素等の可燃物
が燃焼除去され、熱交換器10内で常温まで冷却される。
吸着塔５には、水分および二酸化炭素等の不純物を吸着
する吸着剤が充填されており、ここで原料空気中の水分
および二酸化炭素等の不純物を吸着除去する。100は深
冷分離部であり、熱交換器６、精留塔７等で構成され
る。熱交換器６は、原料空気を精留塔７からの戻りガス
の寒冷によって深冷温度まで低下させる。精留塔７は、
熱交換器６によって低温となった原料空気の供給を受
け、製品ガス（この例では、窒素のみ）を精留分離す
る。ここでの廃ガスおよび製品ガスは、熱交換器６の戻
りガスとなる。８は精留塔上部の凝縮器、11〜23は導
管、31は膨張弁、32〜39は吸着塔５の切替弁である。
は、熱交換器10内で、戻りの水素、一酸化炭素等の可燃
物を除去された温度の高い圧縮空気と熱交換して温度上
昇する。更に加熱器９により昇温されてから、触媒槽３
に入る。該触媒槽３には、白金やパラジムウ等の触媒が
充填されており、ここで空気中の可燃成分が燃焼され
る。従って、触媒槽３内で水素、一酸化炭素等の可燃物
が燃焼除去され、熱交換器10内で常温まで冷却される。
吸着塔５には、水分および二酸化炭素等の不純物を吸着
する吸着剤が充填されており、ここで原料空気中の水分
および二酸化炭素等の不純物を吸着除去する。100は深
冷分離部であり、熱交換器６、精留塔７等で構成され
る。熱交換器６は、原料空気を精留塔７からの戻りガス
の寒冷によって深冷温度まで低下させる。精留塔７は、
熱交換器６によって低温となった原料空気の供給を受
け、製品ガス（この例では、窒素のみ）を精留分離す
る。ここでの廃ガスおよび製品ガスは、熱交換器６の戻
りガスとなる。８は精留塔上部の凝縮器、11〜23は導
管、31は膨張弁、32〜39は吸着塔５の切替弁である。
水素、一酸化炭素等を燃焼させる燃焼触媒を充填した触
媒槽３は、加熱器９の出口と、熱交換器10の中間に設け
られている。これは、昇温および加熱により空気の温度
が90〜120℃に上昇していることを利用して触媒槽３に
おける反応を起こさせるためである。空気中の水素、一
酸化炭素等の可燃物は空気中に大過剰に存在する酸素と
燃焼触媒のもとで反応する。反応生成物は、水分および
二酸化炭素等の不純物である。酸素21％に対して、水
素、一酸化炭素の濃度は高々数十ppm程度であり、未反
応の水素、一酸化炭素が残存する可能性は非常に希であ
る。反応による生成熱もわずかであり、温度上昇は高々
数度Ｃなので、加熱防止等の考慮は必要でない。水素、
一酸化炭素等の可燃物が燃焼除去された空気は、導管26
を通って熱交換器10に導かれる。熱交換器10で常温の原
料空気と熱交換より常温まで冷却された後、導管14によ
り、吸着塔５に導かれる。吸着塔５は通常２基かそれ以
上設けられ、一方を再生しながら、交互に切替えられて
使用される。吸着塔５には水分、炭酸ガス等の不純物を
吸着除去する吸着剤が充填されているので、吸着塔出口
の空気中には水分、二酸化炭素等の不純物はほとんど含
まれない。吸着塔５を出た空気は、熱交換器６、精留塔
７等で構成される深冷分離部100に導かれる。まず、導
管15により原料空気は熱交換器６に導入される。原料空
気は、ここで窒素ガス、廃ガスと熱交換し冷却される。
更にこの空気は、精留塔７の底部に導管16を通して供給
される。ここで、原料空気は塔内に多数設けられている
精留皿上の液体と気液接触し、精留分離される。この結
果、精留塔７の底部には酸素濃度の高い液体空気が溜
る。一方窒素ガスは、精留塔上部の導管17を通して精留
塔より抜出され、空気熱交換器６の内部で温度回復し
て、製品窒素ガスとして導管18を通して送出される。こ
の場合、精留操作前でCO、H2を除去しており、製品窒素
ガス中に一酸化炭素、水素等の可燃成分は含まれない。
なお、この例では、精留塔７は、窒素のみを製造する単
式精留塔としたが、これは酸素ガスを同時に採取する複
式精留塔であってもかまわない。一方液体空気は導管19
を通して精留塔から抜出され、途中膨張弁31で脱圧さ
れ、所謂ジュール・トムソン効果により、温度降下した
後、凝縮器８の冷熱源として凝縮器に供給され、ここで
蒸発した後、導管21、空気熱交換器６を通して常温まで
温度回復し、吸着塔５の再生ガスとして使用され、大気
中に導管23を通して放出される。
媒槽３は、加熱器９の出口と、熱交換器10の中間に設け
られている。これは、昇温および加熱により空気の温度
が90〜120℃に上昇していることを利用して触媒槽３に
おける反応を起こさせるためである。空気中の水素、一
酸化炭素等の可燃物は空気中に大過剰に存在する酸素と
燃焼触媒のもとで反応する。反応生成物は、水分および
二酸化炭素等の不純物である。酸素21％に対して、水
素、一酸化炭素の濃度は高々数十ppm程度であり、未反
応の水素、一酸化炭素が残存する可能性は非常に希であ
る。反応による生成熱もわずかであり、温度上昇は高々
数度Ｃなので、加熱防止等の考慮は必要でない。水素、
一酸化炭素等の可燃物が燃焼除去された空気は、導管26
を通って熱交換器10に導かれる。熱交換器10で常温の原
料空気と熱交換より常温まで冷却された後、導管14によ
り、吸着塔５に導かれる。吸着塔５は通常２基かそれ以
上設けられ、一方を再生しながら、交互に切替えられて
使用される。吸着塔５には水分、炭酸ガス等の不純物を
吸着除去する吸着剤が充填されているので、吸着塔出口
の空気中には水分、二酸化炭素等の不純物はほとんど含
まれない。吸着塔５を出た空気は、熱交換器６、精留塔
７等で構成される深冷分離部100に導かれる。まず、導
管15により原料空気は熱交換器６に導入される。原料空
気は、ここで窒素ガス、廃ガスと熱交換し冷却される。
更にこの空気は、精留塔７の底部に導管16を通して供給
される。ここで、原料空気は塔内に多数設けられている
精留皿上の液体と気液接触し、精留分離される。この結
果、精留塔７の底部には酸素濃度の高い液体空気が溜
る。一方窒素ガスは、精留塔上部の導管17を通して精留
塔より抜出され、空気熱交換器６の内部で温度回復し
て、製品窒素ガスとして導管18を通して送出される。こ
の場合、精留操作前でCO、H2を除去しており、製品窒素
ガス中に一酸化炭素、水素等の可燃成分は含まれない。
なお、この例では、精留塔７は、窒素のみを製造する単
式精留塔としたが、これは酸素ガスを同時に採取する複
式精留塔であってもかまわない。一方液体空気は導管19
を通して精留塔から抜出され、途中膨張弁31で脱圧さ
れ、所謂ジュール・トムソン効果により、温度降下した
後、凝縮器８の冷熱源として凝縮器に供給され、ここで
蒸発した後、導管21、空気熱交換器６を通して常温まで
温度回復し、吸着塔５の再生ガスとして使用され、大気
中に導管23を通して放出される。
本実施例は処理空気量の多い場合に、熱交換器によって
熱回収しているので、加熱器の容量を小さくできて有利
である。小型のものでは、第１図における機器の圧縮空
気に対する設置の順番を冷却器４、加熱器９、触媒槽３
とし、この後に更に冷却器４を設けた方が装置として簡
単になる。
熱回収しているので、加熱器の容量を小さくできて有利
である。小型のものでは、第１図における機器の圧縮空
気に対する設置の順番を冷却器４、加熱器９、触媒槽３
とし、この後に更に冷却器４を設けた方が装置として簡
単になる。
第２図は、空気圧縮機による原料空気の圧縮熱を利用す
るために、第１図における冷却器４を取り除いた場合の
本発明の他の実施例である。
るために、第１図における冷却器４を取り除いた場合の
本発明の他の実施例である。
即ち、本実施例は長期運転による触媒性能の劣化をカバ
ーし、原料空気中の可燃物と酸素との反応・燃焼による
水素、一酸化炭素の除去の信頼度を向上するために、触
媒槽での反応温度（触媒槽での反応温度は、触媒の種
類、使用方法、対象ガスの種類によって異なるのは周知
である）を高目に設定するものである。
ーし、原料空気中の可燃物と酸素との反応・燃焼による
水素、一酸化炭素の除去の信頼度を向上するために、触
媒槽での反応温度（触媒槽での反応温度は、触媒の種
類、使用方法、対象ガスの種類によって異なるのは周知
である）を高目に設定するものである。
第２図において、第１図との違いは空気圧縮機２と熱交
換器10との間の冷却器４を取り除き、更に熱交換器10と
吸着塔５との間に冷却器４を設けたことにある。即ち、
空気圧縮機２による圧縮熱の有効活用を図る為に、空気
圧縮機２の出口と触媒槽３との間に熱交換器10と加熱器
９とを順次設ける。触媒槽３で反応・燃焼した原料空気
は導管26で熱交換器10に導かれ、前記原料空気と熱交換
により冷却後、導管14で冷却器４に導かれる。該冷却器
４で原料空気を常温まで冷却し、導管13で原料空気を吸
着塔５に導入する。
換器10との間の冷却器４を取り除き、更に熱交換器10と
吸着塔５との間に冷却器４を設けたことにある。即ち、
空気圧縮機２による圧縮熱の有効活用を図る為に、空気
圧縮機２の出口と触媒槽３との間に熱交換器10と加熱器
９とを順次設ける。触媒槽３で反応・燃焼した原料空気
は導管26で熱交換器10に導かれ、前記原料空気と熱交換
により冷却後、導管14で冷却器４に導かれる。該冷却器
４で原料空気を常温まで冷却し、導管13で原料空気を吸
着塔５に導入する。
従って、空気圧縮機２で昇圧され昇温した原料空気は、
熱交換器10で反応・燃焼により昇温した温度の高い原料
空気と熱交換によりさらに昇温する。次に、触媒反応に
適した90℃〜120℃の温度まで加熱器９により更に昇温
させる。（一般的に触媒による反応温度は、触媒の寿命
や触媒性能の劣化を考慮して高目に設定する。）該昇温
した原料空気の可燃物を触媒槽３で反応・燃焼させる。
該反応・燃焼により昇温した原料空気を熱交換器10によ
り冷却し、更に冷却器４により常温まで冷却後吸着塔５
に導入する。
熱交換器10で反応・燃焼により昇温した温度の高い原料
空気と熱交換によりさらに昇温する。次に、触媒反応に
適した90℃〜120℃の温度まで加熱器９により更に昇温
させる。（一般的に触媒による反応温度は、触媒の寿命
や触媒性能の劣化を考慮して高目に設定する。）該昇温
した原料空気の可燃物を触媒槽３で反応・燃焼させる。
該反応・燃焼により昇温した原料空気を熱交換器10によ
り冷却し、更に冷却器４により常温まで冷却後吸着塔５
に導入する。
尚、本実施例（第１図も同様）による加熱器９は水素お
よび一酸化炭素等の可燃成分の燃焼に適当な90℃〜120
℃の温度まで昇温している。加熱器の熱源としては、電
気、蒸気、燃焼ガスなどが挙げられる。水素、一酸化炭
素等の可燃成分を除去した後の系統は第１図の場合と同
様であり、説明は省略する。
よび一酸化炭素等の可燃成分の燃焼に適当な90℃〜120
℃の温度まで昇温している。加熱器の熱源としては、電
気、蒸気、燃焼ガスなどが挙げられる。水素、一酸化炭
素等の可燃成分を除去した後の系統は第１図の場合と同
様であり、説明は省略する。
上述した実施例では、圧縮熱を利用し、更に触媒反応に
よる反応・燃焼熱を利用しているので、水素、一酸化炭
素が燃焼温度まで昇温するヒーターの電気エネルギーが
低減できる。深冷方式の空気分離装置と組合せてあるの
で、窒素ガスより沸点の低い炭化水素類も除去できる等
の効果を同時に得ることが出来る。さらに、本実施例で
は原料空気中の不純物（水分および二酸化炭素）の除去
手段に吸着塔を用いているが、これは可逆式熱交換器に
よる除去装置を用いても同様の効果を得ることが出来
る。
よる反応・燃焼熱を利用しているので、水素、一酸化炭
素が燃焼温度まで昇温するヒーターの電気エネルギーが
低減できる。深冷方式の空気分離装置と組合せてあるの
で、窒素ガスより沸点の低い炭化水素類も除去できる等
の効果を同時に得ることが出来る。さらに、本実施例で
は原料空気中の不純物（水分および二酸化炭素）の除去
手段に吸着塔を用いているが、これは可逆式熱交換器に
よる除去装置を用いても同様の効果を得ることが出来
る。
以上説明したように、本発明によれば、圧縮機の昇圧熱
及び加熱器の加熱により原料空気を昇温して触媒反応さ
せ、水素及び一酸化炭素を含まない高純度の窒素ガス製
造方法および装置を提供することが出来る。
及び加熱器の加熱により原料空気を昇温して触媒反応さ
せ、水素及び一酸化炭素を含まない高純度の窒素ガス製
造方法および装置を提供することが出来る。
第１図及び第２図は、夫々本発明の一実施例を示す窒素
製造装置の系統図であり、第３図は従来の窒素精製装置
の一例を示す系統図である。 １……フィルター、２……空気圧縮機、３……触媒槽、
４……冷却器、５……吸着塔、６……熱交換器、７……
精留塔、８……凝縮器、11〜23……導管、31……膨張弁
製造装置の系統図であり、第３図は従来の窒素精製装置
の一例を示す系統図である。 １……フィルター、２……空気圧縮機、３……触媒槽、
４……冷却器、５……吸着塔、６……熱交換器、７……
精留塔、８……凝縮器、11〜23……導管、31……膨張弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０１Ｂ 21/04 Ｚ Ｆ２５Ｊ 3/04 Ｚ 8925−4Ｄ
Claims (2)
- 【請求項１】原料空気を空気圧縮機で圧縮・昇温し、 該圧縮・昇温された原料空気を後述の触媒槽で得られる
反応・燃焼後の温度の高い原料空気と熱交換により昇温
し、 該熱交換により昇温された原料空気を更に加熱器で90℃
〜120℃の温度まで昇温し、 該昇温された原料空気を触媒槽に導入し、該触媒槽で原
料空気中の水素および一酸化炭素を酸素と反応・燃焼さ
せ、 該反応・燃焼により昇温した原料空気を前記圧縮・昇温
後の原料空気と熱交換させて冷却し、 該熱交換を経て常温まで冷却された原料空気中の不純物
を吸着除去し、 該不純物の除去された原料空気から深冷分離により高純
度の窒素ガスを製造する ことを特徴とする窒素製造方法。 - 【請求項２】原料空気を圧縮する空気圧縮機と、 該圧縮された原料空気を後述の触媒槽で得られる反応・
燃焼後の温度の高い原料空気で昇温する熱交換器と、 該熱交換により昇温された原料空気を90℃〜120℃の温
度までさらに昇温する加熱器と、 該加熱器で昇温された原料空気中の水素および一酸化炭
素を酸素と反応・燃焼させる触媒槽と、 該触媒槽で反応・燃焼により昇温された原料空気を上記
熱交換器に導き、上記空気圧縮機からの原料空気との熱
交換により冷却させる冷却構造を含み、上記昇温された
原料空気を常温にまで冷却する冷却手段と、 該冷却手段からの原料空気中の不純物を除去する除去装
置と、 該除去装置からの原料空気から深冷分離により高純度の
窒素ガスを製造する深冷分離手段と からなることを特徴とする窒素製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012587A JPH0711384B2 (ja) | 1985-03-29 | 1990-01-24 | 窒素製造方法および装置 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60063534A JPS61225568A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 空気分離装置 |
| JP2012587A JPH0711384B2 (ja) | 1985-03-29 | 1990-01-24 | 窒素製造方法および装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60063534A Division JPS61225568A (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | 空気分離装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03194381A JPH03194381A (ja) | 1991-08-26 |
| JPH0711384B2 true JPH0711384B2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=26348218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012587A Expired - Lifetime JPH0711384B2 (ja) | 1985-03-29 | 1990-01-24 | 窒素製造方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0711384B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05172458A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-09 | Kobe Steel Ltd | 空気分離装置における不純物除去装置 |
| JPH1133356A (ja) * | 1997-07-25 | 1999-02-09 | Osaka Oxygen Ind Ltd | 空気清浄装置 |
| JP3665451B2 (ja) * | 1997-09-24 | 2005-06-29 | ジャパン・エア・ガシズ株式会社 | 空気清浄装置 |
| CN111232937A (zh) * | 2020-03-03 | 2020-06-05 | 杭州誉顺科技有限公司 | 一种多塔循环变压吸附制氮的装置及方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61123389U (ja) * | 1985-01-17 | 1986-08-04 |
-
1990
- 1990-01-24 JP JP2012587A patent/JPH0711384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03194381A (ja) | 1991-08-26 |
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