JPH07110236A - 基準平面設定装置 - Google Patents
基準平面設定装置Info
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- JPH07110236A JPH07110236A JP25556993A JP25556993A JPH07110236A JP H07110236 A JPH07110236 A JP H07110236A JP 25556993 A JP25556993 A JP 25556993A JP 25556993 A JP25556993 A JP 25556993A JP H07110236 A JPH07110236 A JP H07110236A
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- light emitting
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 設定作業が容易になる基準平面設定装置の提
供。 【構成】 発光, 受光手段26は、発光部LDと受光部PDを
有し、これらトランジスタTr、抵抗R1〜R5、ツェナーダ
イオードZD、オペアンプ0P、可変抵抗VRからなる自動出
力調整回路44が接続され、回転制御部46が設けられてい
る。制御部46は、コンデンサＣと、増幅器AMと、単安定
マルチバイブレータMMと、フリップフロップFFと、スイ
ッチ回路SWとを有し、回路SWの出力側には、照射光を回
転させるモータ２０が接続されている。照射光が反射シ
ート板を照射すると、その反射光が受光部PDで受光さ
れ、この反射光に対応した信号がコンデンサC で検出さ
れ、この検出された信号にに基づいて、シート板を照射
する照射光が所定の角度範囲内でのみ揺動運動を繰り返
すことになる。
供。 【構成】 発光, 受光手段26は、発光部LDと受光部PDを
有し、これらトランジスタTr、抵抗R1〜R5、ツェナーダ
イオードZD、オペアンプ0P、可変抵抗VRからなる自動出
力調整回路44が接続され、回転制御部46が設けられてい
る。制御部46は、コンデンサＣと、増幅器AMと、単安定
マルチバイブレータMMと、フリップフロップFFと、スイ
ッチ回路SWとを有し、回路SWの出力側には、照射光を回
転させるモータ２０が接続されている。照射光が反射シ
ート板を照射すると、その反射光が受光部PDで受光さ
れ、この反射光に対応した信号がコンデンサC で検出さ
れ、この検出された信号にに基づいて、シート板を照射
する照射光が所定の角度範囲内でのみ揺動運動を繰り返
すことになる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、測量などの分野で利
用される基準平面設定装置に関するものである。
用される基準平面設定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】建築構造物の壁や柱などに、平面的な水
平基準平面を設定したり、あるいは、床，天井，柱など
に平面的な垂直基準面を設定する際に用いられる装置と
して、基準平面設定装置が知られている。この種の装置
は、レーザプレーナとも呼ばれていて、レーザビームを
発射する発光手段と、この発光手段を軸線の回りに回転
駆動する回転手段と、発光手段から発射される光をその
光軸と直交する方向に光路変更して、測定点側に向けて
照射する照射手段とを有していて、レーザービームを旋
回照射して、一定の平面を定める装置であって、水準儀
を用いる基準平面設定手段に比べて、作業性が著しく改
善される。
平基準平面を設定したり、あるいは、床，天井，柱など
に平面的な垂直基準面を設定する際に用いられる装置と
して、基準平面設定装置が知られている。この種の装置
は、レーザプレーナとも呼ばれていて、レーザビームを
発射する発光手段と、この発光手段を軸線の回りに回転
駆動する回転手段と、発光手段から発射される光をその
光軸と直交する方向に光路変更して、測定点側に向けて
照射する照射手段とを有していて、レーザービームを旋
回照射して、一定の平面を定める装置であって、水準儀
を用いる基準平面設定手段に比べて、作業性が著しく改
善される。
【０００３】基準平面設定装置を使用して、例えば、水
平基準面を設定する際には、まず、測定範囲内の基準と
なる場所に装置本体を設置し、次いで、作業者が墨み付
け作業を行いたい壁や柱などの近傍に立ち、または、作
業者が受光器やポールなどの測標を測定点に配置する。
そして、作業者は、可視光レーザービームを用いる装置
の場合には、装置本体から発射された可視光レーザービ
ームが壁やポールなどに照射されることによりできる輝
点を観察して、基準平面設定作業を行う。
平基準面を設定する際には、まず、測定範囲内の基準と
なる場所に装置本体を設置し、次いで、作業者が墨み付
け作業を行いたい壁や柱などの近傍に立ち、または、作
業者が受光器やポールなどの測標を測定点に配置する。
そして、作業者は、可視光レーザービームを用いる装置
の場合には、装置本体から発射された可視光レーザービ
ームが壁やポールなどに照射されることによりできる輝
点を観察して、基準平面設定作業を行う。
【０００４】また、非可視光レーザービームを用いる装
置の場合には、レーザービームを受光器で受光して測定
値を読み取るなどにより基準平面設定作業が行われる。
しかしながら、このような従来の基準平面設定装置に
は、特に、レーザービームを旋回照射するので、以下に
説明する技術的課題が指摘されていた。
置の場合には、レーザービームを受光器で受光して測定
値を読み取るなどにより基準平面設定作業が行われる。
しかしながら、このような従来の基準平面設定装置に
は、特に、レーザービームを旋回照射するので、以下に
説明する技術的課題が指摘されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】すなわち、上述した如
き従来の基準平面設定装置では、レーザビームを旋回照
射すると、装置と測定点の距離が比較的大きく離れてい
る場合には、発光手段を回転駆動する回転手段の角速度
が一定であっても、壁やポールなどに照射されることに
よりできる輝点の周速度が非常に大きくなり、視認によ
り輝点を確認することが非常に困難になり、その結果、
基準平面の設定作業が難しくなる。
き従来の基準平面設定装置では、レーザビームを旋回照
射すると、装置と測定点の距離が比較的大きく離れてい
る場合には、発光手段を回転駆動する回転手段の角速度
が一定であっても、壁やポールなどに照射されることに
よりできる輝点の周速度が非常に大きくなり、視認によ
り輝点を確認することが非常に困難になり、その結果、
基準平面の設定作業が難しくなる。
【０００６】このような問題に対して、例えば、発光手
段を回転駆動する回転手段の角速度を低くすることや、
レーザビームの径を大きくすることなどが考えられる
が、前者の手段では、レーザービームの旋回に時間がか
かり、測量作業の能率が低下するとともに、後者の手段
では、測定の精度が低くなるという別の問題が発生す
る。
段を回転駆動する回転手段の角速度を低くすることや、
レーザビームの径を大きくすることなどが考えられる
が、前者の手段では、レーザービームの旋回に時間がか
かり、測量作業の能率が低下するとともに、後者の手段
では、測定の精度が低くなるという別の問題が発生す
る。
【０００７】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたものであって、その目的とするところは、測
定精度の低下を招くことなく、測量作業の能率が向上で
きる基準平面設定装置を提供することにある。
てなされたものであって、その目的とするところは、測
定精度の低下を招くことなく、測量作業の能率が向上で
きる基準平面設定装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、発光手段と、前記発光手段から発射され
る光をその光軸と直交する方向に光路変更して、反射シ
ート板側に向けて照射する照射手段と、前記反射シート
板に照射された反射光を受光する受光手段と、前記照射
手段で照射する光路変更された照射光を前記光軸の回り
に回転駆動する回転手段と、前記回転手段の回転方向を
制御する回転制御部とを有する基準平面設定装置であっ
て、前記回転制御部は、前記受光手段が前記反射シート
板からの反射光を受光したときに、この反射光に基づく
反射信号を検出する反射信号検出部と、この反射信号検
出部の出力信号を受けて、前記回転手段を所定の角度範
囲で揺動駆動させるスイッチ回路とを有することを特徴
とする。
め、本発明は、発光手段と、前記発光手段から発射され
る光をその光軸と直交する方向に光路変更して、反射シ
ート板側に向けて照射する照射手段と、前記反射シート
板に照射された反射光を受光する受光手段と、前記照射
手段で照射する光路変更された照射光を前記光軸の回り
に回転駆動する回転手段と、前記回転手段の回転方向を
制御する回転制御部とを有する基準平面設定装置であっ
て、前記回転制御部は、前記受光手段が前記反射シート
板からの反射光を受光したときに、この反射光に基づく
反射信号を検出する反射信号検出部と、この反射信号検
出部の出力信号を受けて、前記回転手段を所定の角度範
囲で揺動駆動させるスイッチ回路とを有することを特徴
とする。
【０００９】前記発光手段と受光手段とは、同一パッケ
ージ内に設けられた半導体レーザ素子から構成され、前
記受光手段を前記発光手段の出力モニタとして機能させ
ることができる。
ージ内に設けられた半導体レーザ素子から構成され、前
記受光手段を前記発光手段の出力モニタとして機能させ
ることができる。
【００１０】
【作用】上記構成の基準平面設定装置によれば、照射手
段で照射する光路変更された照射光を軸線の回りに回転
駆動する回転手段の回転方向を制御する回転制御部は、
受光手段が反射シート板からの反射光を受光したとき
に、この反射光に基づく反射信号を検出する反射信号検
出部と、この反射信号検出部の出力信号を受けて、回転
手段を所定の角度範囲で揺動駆動させるスイッチ回路と
を有しているので、発光手段から反射シート板に向けて
照射する光を、反射ケーゲットを含む所定の角度範囲内
でのみ揺動させることができる。
段で照射する光路変更された照射光を軸線の回りに回転
駆動する回転手段の回転方向を制御する回転制御部は、
受光手段が反射シート板からの反射光を受光したとき
に、この反射光に基づく反射信号を検出する反射信号検
出部と、この反射信号検出部の出力信号を受けて、回転
手段を所定の角度範囲で揺動駆動させるスイッチ回路と
を有しているので、発光手段から反射シート板に向けて
照射する光を、反射ケーゲットを含む所定の角度範囲内
でのみ揺動させることができる。
【００１１】また、請求項２の構成によれば、発光手段
と受光手段とを、同一パッケージ内に設けられた半導体
レーザ素子で構成し、受光手段を発光手段の出力モニタ
として機能させるので、受光手段を独立して設ける必要
がなくなる。
と受光手段とを、同一パッケージ内に設けられた半導体
レーザ素子で構成し、受光手段を発光手段の出力モニタ
として機能させるので、受光手段を独立して設ける必要
がなくなる。
【００１２】
【実施例】以下本発明の好適な実施例について添附図面
を参照して詳細に説明する。図１から図６は、本発明に
かかる基準平面設定装置の一実施例を示している。同図
に示す基準平面設定装置は、略長方体に形成された筐体
１０と、この筐体１０の上面に設けられた円盤状の回転
ヘッド１２とを有している。回転ヘッド１２下面には、
下方に向けて突設された中空筒状の回転軸１４が設けら
れていて、この回転軸１４は、筐体１０の内部に延長さ
れ、複数のベアリングを介在させて中空角形断面の保持
ユニット１６に回転自在に支持されている。
を参照して詳細に説明する。図１から図６は、本発明に
かかる基準平面設定装置の一実施例を示している。同図
に示す基準平面設定装置は、略長方体に形成された筐体
１０と、この筐体１０の上面に設けられた円盤状の回転
ヘッド１２とを有している。回転ヘッド１２下面には、
下方に向けて突設された中空筒状の回転軸１４が設けら
れていて、この回転軸１４は、筐体１０の内部に延長さ
れ、複数のベアリングを介在させて中空角形断面の保持
ユニット１６に回転自在に支持されている。
【００１３】保持ユニット１６の上部側一側面には、ス
テー１８が設けられ、このステー１８には、モータ２０
が支持されている。モータ２０の回転軸は、ベルト２２
を介して、回転軸１４に固設されたプーリ２４に連結さ
れていて、モータ２０を駆動すると、回転軸１４ととも
に回転ヘッド１２が回転するようになっている。保持ユ
ニット１６の下端には、発光および受光手段２６が設け
られている。
テー１８が設けられ、このステー１８には、モータ２０
が支持されている。モータ２０の回転軸は、ベルト２２
を介して、回転軸１４に固設されたプーリ２４に連結さ
れていて、モータ２０を駆動すると、回転軸１４ととも
に回転ヘッド１２が回転するようになっている。保持ユ
ニット１６の下端には、発光および受光手段２６が設け
られている。
【００１４】この発光および受光手段２６の一端には、
回転軸１４内に設けられた導光路２８の端部が近接配置
されており、この導光路２８は、回転ヘッド１２内に設
けられた後述する光学系と、回転ヘッド１２の外周面に
設けた照射孔３０とで、発光および受光手段２６から発
射される光を、回転軸１４の中心に位置する軸線ｌと直
交する方向に変換して、後述する反射シート板Ｔ側に向
けて照射する照射手段を構成している。
回転軸１４内に設けられた導光路２８の端部が近接配置
されており、この導光路２８は、回転ヘッド１２内に設
けられた後述する光学系と、回転ヘッド１２の外周面に
設けた照射孔３０とで、発光および受光手段２６から発
射される光を、回転軸１４の中心に位置する軸線ｌと直
交する方向に変換して、後述する反射シート板Ｔ側に向
けて照射する照射手段を構成している。
【００１５】このとき、照射手段から照射される光路変
更された照射光Ｉ2 は、モータ２０，ベルト２２，回転
軸１４，回転ヘッド１２で構成される回転手段により、
光軸ｌの回りに回転駆動される。一方、保持ユニット１
６は、その上端部側が、筐体１０の内面に設けられた玉
継手３２により首振り自在に支持されている。また、こ
の保持ユニット１６外周面には、一対の調整ねじ３４，
３５が当接可能に配置されるとともに、その一隅部と筐
体１０の内面との間にスプリング３６が設けられてい
る。
更された照射光Ｉ2 は、モータ２０，ベルト２２，回転
軸１４，回転ヘッド１２で構成される回転手段により、
光軸ｌの回りに回転駆動される。一方、保持ユニット１
６は、その上端部側が、筐体１０の内面に設けられた玉
継手３２により首振り自在に支持されている。また、こ
の保持ユニット１６外周面には、一対の調整ねじ３４，
３５が当接可能に配置されるとともに、その一隅部と筐
体１０の内面との間にスプリング３６が設けられてい
る。
【００１６】調整ねじ３４，３５は、筐体１０の隣接す
る２側面に螺着されていて、一方がＸ軸方向の調整用の
ものであり、他方がＹ軸方向の調整用のものであって、
保持ユニット１６を調整ねじ３４，３５側に当接するよ
うに付勢しているスプリング３６の付勢力に抗して、こ
れらのねじ３４，３５をねじ込むことにより、保持ユニ
ット１６を介して、回転軸１４の傾きが調整される。
る２側面に螺着されていて、一方がＸ軸方向の調整用の
ものであり、他方がＹ軸方向の調整用のものであって、
保持ユニット１６を調整ねじ３４，３５側に当接するよ
うに付勢しているスプリング３６の付勢力に抗して、こ
れらのねじ３４，３５をねじ込むことにより、保持ユニ
ット１６を介して、回転軸１４の傾きが調整される。
【００１７】この調整に当たっては、筐体１０の表面側
のＸ，Ｙ，Ｚ方向に設けられた３つの気泡管３８〜４０
が用いられる。図４は、回転ヘッド１２内に内蔵される
光学系の一例を示している。同図に示す光学系は、三角
プリズム４２が用いられていて、発光および受光手段２
６から発射された発射光Ｉ1 は、導光路２８を介して三
角プリズム４２に入射し、プリズム４２で軸線ｌと直交
する方向に変換されて、回転ヘッド１２の照射孔３０か
ら照射光Ｉ2 として、反射シート板Ｔに照射され、反射
シート板Ｔで反射した反射光Ｉ3 は、同様な経路をたど
って発光および受光手段２６に戻る。
のＸ，Ｙ，Ｚ方向に設けられた３つの気泡管３８〜４０
が用いられる。図４は、回転ヘッド１２内に内蔵される
光学系の一例を示している。同図に示す光学系は、三角
プリズム４２が用いられていて、発光および受光手段２
６から発射された発射光Ｉ1 は、導光路２８を介して三
角プリズム４２に入射し、プリズム４２で軸線ｌと直交
する方向に変換されて、回転ヘッド１２の照射孔３０か
ら照射光Ｉ2 として、反射シート板Ｔに照射され、反射
シート板Ｔで反射した反射光Ｉ3 は、同様な経路をたど
って発光および受光手段２６に戻る。
【００１８】なお、反射シート板Ｔは、発光手段２６か
ら発射される所定波長の光を好適に反射するものであっ
て、例えば、小ビーズまたは３つの反射面を持ち、互い
に９０°の関係をもった反射物質が格子状に配列された
ものなどが使用される。また、反射シート板Ｔは、反射
シート面の法線方向に対して、約６０°の照射光に対し
反射光が平行に戻ってくるようなものが使用される。さ
らには、反射シートに十字状のターゲットが描かれてな
くてもよい反射シートが使用される。
ら発射される所定波長の光を好適に反射するものであっ
て、例えば、小ビーズまたは３つの反射面を持ち、互い
に９０°の関係をもった反射物質が格子状に配列された
ものなどが使用される。また、反射シート板Ｔは、反射
シート面の法線方向に対して、約６０°の照射光に対し
反射光が平行に戻ってくるようなものが使用される。さ
らには、反射シートに十字状のターゲットが描かれてな
くてもよい反射シートが使用される。
【００１９】図５は、モータ２０と発光および受光手段
２６の制御回路の一例を示しており、これらの制御回路
は、筐体１０内に内蔵されている。同図に示す制御回路
においては、発光および受光手段２６は、同一パッケー
ジ内に設けられた半導体レーザ素子から構成され、可視
光線を発射する発光部ＬＤと受光部ＰＤとを有してい
る。この発光部ＬＤには、トランジスタＴｒ、複数の抵
抗Ｒ1 〜Ｒ5 、ツェナーダイオードＺＤ、２個のオペア
ンプＯＰ、可変抵抗ＶＲで構成した自動出力調整回路４
４が接続されている。
２６の制御回路の一例を示しており、これらの制御回路
は、筐体１０内に内蔵されている。同図に示す制御回路
においては、発光および受光手段２６は、同一パッケー
ジ内に設けられた半導体レーザ素子から構成され、可視
光線を発射する発光部ＬＤと受光部ＰＤとを有してい
る。この発光部ＬＤには、トランジスタＴｒ、複数の抵
抗Ｒ1 〜Ｒ5 、ツェナーダイオードＺＤ、２個のオペア
ンプＯＰ、可変抵抗ＶＲで構成した自動出力調整回路４
４が接続されている。
【００２０】この自動出力調整回路４４は、発光部ＬＤ
から発射される光を受光部ＰＤでモニタしていて、この
受光部ＰＤで受けた光量に対応した信号で、発光部ＬＤ
に供給する電流を制御して、温度変化などにより発光部
ＬＤから発射される光の変動をなくし、出力が常時一定
になるように制御している。また、同図に示す制御回路
では、モータ２０の回転駆動を制御する回転制御部４６
が設けられている。
から発射される光を受光部ＰＤでモニタしていて、この
受光部ＰＤで受けた光量に対応した信号で、発光部ＬＤ
に供給する電流を制御して、温度変化などにより発光部
ＬＤから発射される光の変動をなくし、出力が常時一定
になるように制御している。また、同図に示す制御回路
では、モータ２０の回転駆動を制御する回転制御部４６
が設けられている。
【００２１】この回転制御部４６は、自動出力調整回路
４４のオペアンプＯＰの出力側に一端が接続されたコン
デンサＣと、コンデンサＣの他端側に接続された増幅器
ＡＭと、この増幅器ＡＭの出力側に入力側が接続された
単安定マルチバイブレータＭＭと、この単安定マルチバ
イブレータＭＭの出力側に入力側が接続されたフリップ
フロップＦＦと、フリップフロップＦＦの出力側に入力
側が接続されたスイッチ回路ＳＷとから構成されてい
て、スイッチ回路ＳＷの出力側には、モータ２０が接続
されている。
４４のオペアンプＯＰの出力側に一端が接続されたコン
デンサＣと、コンデンサＣの他端側に接続された増幅器
ＡＭと、この増幅器ＡＭの出力側に入力側が接続された
単安定マルチバイブレータＭＭと、この単安定マルチバ
イブレータＭＭの出力側に入力側が接続されたフリップ
フロップＦＦと、フリップフロップＦＦの出力側に入力
側が接続されたスイッチ回路ＳＷとから構成されてい
て、スイッチ回路ＳＷの出力側には、モータ２０が接続
されている。
【００２２】このように構成された回転制御部４６で
は、受光部ＰＤが受光した光に対応する電気信号がコン
デンサＣに入力されることになるが、受光部ＰＤは、発
光部ＬＤのモニタと反射シート板Ｔからの反射光Ｉ3 を
受光しており、発光部ＬＤの出力は、自動出力調整回路
４４により一定に保たれているので、受光部ＰＤからの
出力信号は、所定の大きさの直流成分に、反射光Ｉ3 を
受光することによる変動成分が重畳されたものとなり、
これがコンデンサＣを通過すると、直流成分が除去さ
れ、その結果、コンデンサＣの出力信号は、図６に示
すように、反射光Ｉ 3 を受光することによる変動成分の
みとなる。
は、受光部ＰＤが受光した光に対応する電気信号がコン
デンサＣに入力されることになるが、受光部ＰＤは、発
光部ＬＤのモニタと反射シート板Ｔからの反射光Ｉ3 を
受光しており、発光部ＬＤの出力は、自動出力調整回路
４４により一定に保たれているので、受光部ＰＤからの
出力信号は、所定の大きさの直流成分に、反射光Ｉ3 を
受光することによる変動成分が重畳されたものとなり、
これがコンデンサＣを通過すると、直流成分が除去さ
れ、その結果、コンデンサＣの出力信号は、図６に示
すように、反射光Ｉ 3 を受光することによる変動成分の
みとなる。
【００２３】つまり、コンデンサＣは、受光部ＰＤが反
射シート板Ｔからの反射光Ｉ3 を受光したときに、この
反射光Ｉ3 に基づく反射信号を検出する反射信号検出部
を構成している。そして、コンデンサＣの出力信号は、
増幅器ＡＭで増幅された後に、単安定マルチバイブレー
タＭＭに入力される。増幅器ＡＭの出力信号を受けた単
安定マルチバイブレータＭＭは、増幅器ＡＭの立ち上が
りで作動し、所定時間だけ出力が継続する信号が送出さ
れる。
射シート板Ｔからの反射光Ｉ3 を受光したときに、この
反射光Ｉ3 に基づく反射信号を検出する反射信号検出部
を構成している。そして、コンデンサＣの出力信号は、
増幅器ＡＭで増幅された後に、単安定マルチバイブレー
タＭＭに入力される。増幅器ＡＭの出力信号を受けた単
安定マルチバイブレータＭＭは、増幅器ＡＭの立ち上が
りで作動し、所定時間だけ出力が継続する信号が送出さ
れる。
【００２４】図６にで示した波形が単安定マルチバイ
ブレータＭＭの出力信号であり、この出力信号が次にフ
リップフロップＦＦに入力され、信号の立上がりと立
下がりとにより、交互に反転する信号がフリップフロ
ップＦＦからスイッチ回路ＳＷに出力される。このよう
な信号を受けたスイッチ回路ＳＷでは、信号の立ち
下がりでモータ２０の回転を停止し、信号の立ち上が
りでモータ２０を正回転させ、信号の次の立ち下がり
でモータ２０の回転を停止し、信号のこの次の立ち上
がりでモータ２０を逆回転させる動作を繰り返す。
ブレータＭＭの出力信号であり、この出力信号が次にフ
リップフロップＦＦに入力され、信号の立上がりと立
下がりとにより、交互に反転する信号がフリップフロ
ップＦＦからスイッチ回路ＳＷに出力される。このよう
な信号を受けたスイッチ回路ＳＷでは、信号の立ち
下がりでモータ２０の回転を停止し、信号の立ち上が
りでモータ２０を正回転させ、信号の次の立ち下がり
でモータ２０の回転を停止し、信号のこの次の立ち上
がりでモータ２０を逆回転させる動作を繰り返す。
【００２５】モータ２０がこのような動作を繰り返す
と、モータ２０により回転駆動される回転軸１４および
回転ヘッド１２は、反射シート板Ｔを含んで所定の角度
範囲内でのみ揺動運動を繰り返すことになり、その結
果、照射光Ｉ1 が同じ角度範囲内で反射シート板Ｔを繰
り返し照射することになる。なお、モータ２０の回転が
停止しても回転軸１４や回転ヘッド１２などは、その慣
性により回転が続き、回転が続いている間は、反射光Ｉ
3 が受光部ＰＤで受光されるので、コンデンサＣの出力
信号は、図６に示したようになる。
と、モータ２０により回転駆動される回転軸１４および
回転ヘッド１２は、反射シート板Ｔを含んで所定の角度
範囲内でのみ揺動運動を繰り返すことになり、その結
果、照射光Ｉ1 が同じ角度範囲内で反射シート板Ｔを繰
り返し照射することになる。なお、モータ２０の回転が
停止しても回転軸１４や回転ヘッド１２などは、その慣
性により回転が続き、回転が続いている間は、反射光Ｉ
3 が受光部ＰＤで受光されるので、コンデンサＣの出力
信号は、図６に示したようになる。
【００２６】次に、上記構成の基準平面設定装置の使用
方法について図７を参照して簡単に説明する。同図に示
す使用方法は、本発明の装置を用いて水平基準面を壁４
８に設定する場合を示していて、装置の使用に当たって
は、基準平面を設定すべく壁４８の近傍に装置を設置
し、水平基準面の近傍に反射シート板Ｔが設置される。
装置の設置に当たっては、三脚５０が用いられ、装置
は、筐体１０の下面側に設けられた袋ねじ５２を三脚５
０と結合することにより三脚５０上にセットされる。
方法について図７を参照して簡単に説明する。同図に示
す使用方法は、本発明の装置を用いて水平基準面を壁４
８に設定する場合を示していて、装置の使用に当たって
は、基準平面を設定すべく壁４８の近傍に装置を設置
し、水平基準面の近傍に反射シート板Ｔが設置される。
装置の設置に当たっては、三脚５０が用いられ、装置
は、筐体１０の下面側に設けられた袋ねじ５２を三脚５
０と結合することにより三脚５０上にセットされる。
【００２７】なお、筐体１０の側面側に設けた袋ねじ５
４は、垂直基準面を設定する際に用いられるものであ
る。装置のセットが終了すると、調整ねじ３４，３５と
気泡管３８〜４０とを使用して、保持ユニット１６の垂
直度が調整され、これが完了すると、電源を投入して、
発光部ＬＤを動作させ照射光Ｉ2 が壁４８に照射され
る。
４は、垂直基準面を設定する際に用いられるものであ
る。装置のセットが終了すると、調整ねじ３４，３５と
気泡管３８〜４０とを使用して、保持ユニット１６の垂
直度が調整され、これが完了すると、電源を投入して、
発光部ＬＤを動作させ照射光Ｉ2 が壁４８に照射され
る。
【００２８】このとき、照射光Ｉ2 が反射シート板Ｔに
照射されない間は、受光部ＰＤで反射光Ｉ3 を殆ど受光
しないので、回転制御部４６の状態は変化せず、モータ
２０は、所定の方向、例えば、時計方向に回転し続け
る。そして、照射光Ｉ2 が反射シート板Ｔに照射される
と、反射光Ｉ3 が受光部ＰＤに受光され、これにより回
転制御部４６でモータ２０の回転が停止される。
照射されない間は、受光部ＰＤで反射光Ｉ3 を殆ど受光
しないので、回転制御部４６の状態は変化せず、モータ
２０は、所定の方向、例えば、時計方向に回転し続け
る。そして、照射光Ｉ2 が反射シート板Ｔに照射される
と、反射光Ｉ3 が受光部ＰＤに受光され、これにより回
転制御部４６でモータ２０の回転が停止される。
【００２９】この回転の停止期間は、回転制御部４６の
単安定マルチバイブレータＭＭの設定時間に対応したも
のであり、この設定時間から回転軸１４等の回転系の慣
性回転時間を減算した時間だけ、照射光Ｉ2 は同じ位置
を照射する。そして、回転制御部４６の単安定マルチバ
イブレータＭＭの設定時間が経過すると、モータ２０
は、反時計方向に回転し、再び受光部ＰＤが反射光Ｉ3
を受光すると、所定時間モータ２０が停止して、その後
時計方向に回転し、以後はこのような動作が継続する。
単安定マルチバイブレータＭＭの設定時間に対応したも
のであり、この設定時間から回転軸１４等の回転系の慣
性回転時間を減算した時間だけ、照射光Ｉ2 は同じ位置
を照射する。そして、回転制御部４６の単安定マルチバ
イブレータＭＭの設定時間が経過すると、モータ２０
は、反時計方向に回転し、再び受光部ＰＤが反射光Ｉ3
を受光すると、所定時間モータ２０が停止して、その後
時計方向に回転し、以後はこのような動作が継続する。
【００３０】この結果、発光部ＬＤから反射シート板Ｔ
に向けて照射する照射光Ｉ2 は、、反射ケーゲッＴを含
む所定の角度範囲θ内でのみ一定時間停止し、かつ揺動
する動作を繰り返すことになる。このような動作を繰り
返す基準平面設定装置によれば、照射光Ｉ2 の周速度が
大きくなったとしても、その揺動範囲が規制されている
ので、可視光発光部ＬＤを用いた場合には、照射光Ｉ2
の輝点の視認が容易に行え、基準平面の設定作業が簡単
になるとともに、非可視光発光部ＬＤを用いた場合に
は、受光器を受光可能な位置に容易にセットできる。
に向けて照射する照射光Ｉ2 は、、反射ケーゲッＴを含
む所定の角度範囲θ内でのみ一定時間停止し、かつ揺動
する動作を繰り返すことになる。このような動作を繰り
返す基準平面設定装置によれば、照射光Ｉ2 の周速度が
大きくなったとしても、その揺動範囲が規制されている
ので、可視光発光部ＬＤを用いた場合には、照射光Ｉ2
の輝点の視認が容易に行え、基準平面の設定作業が簡単
になるとともに、非可視光発光部ＬＤを用いた場合に
は、受光器を受光可能な位置に容易にセットできる。
【００３１】そして、このような作用効果は、測量能率
の低下を招く、回転手段の角速度を低くすることや、測
定精度の低下を招く、レーザビームの径を大きくすると
いった手段を講じることなく得られる。また、本実施例
の装置では、発光部ＬＤと受光部ＰＤとを、同一パッケ
ージ内に設けられた半導体レーザ素子で構成し、受光部
ＰＤで反射光Ｉ3 を受光するとともに、この受光部ＰＤ
を発光部ＬＤの出力モニタとして機能させるので、受光
部Ｐを独立して設ける必要がなくなり、装置の構成が簡
単になっている。なお、上記実施例では、本発明装置を
水平基準面を設定する場合について説明したが、本発明
装置は垂直基準面の設定についても使用できることは言
うまでもない。
の低下を招く、回転手段の角速度を低くすることや、測
定精度の低下を招く、レーザビームの径を大きくすると
いった手段を講じることなく得られる。また、本実施例
の装置では、発光部ＬＤと受光部ＰＤとを、同一パッケ
ージ内に設けられた半導体レーザ素子で構成し、受光部
ＰＤで反射光Ｉ3 を受光するとともに、この受光部ＰＤ
を発光部ＬＤの出力モニタとして機能させるので、受光
部Ｐを独立して設ける必要がなくなり、装置の構成が簡
単になっている。なお、上記実施例では、本発明装置を
水平基準面を設定する場合について説明したが、本発明
装置は垂直基準面の設定についても使用できることは言
うまでもない。
【００３２】
【発明の効果】以上、実施例で詳細に説明したように、
本発明にかかる基準平面設定装置によれば、精度の低下
を来すことなく、反射シート板側でレーザ光スポットが
視認できるので、基準線の水盛り線目印の設定作業が容
易にできるという優れた効果が得られる。
本発明にかかる基準平面設定装置によれば、精度の低下
を来すことなく、反射シート板側でレーザ光スポットが
視認できるので、基準線の水盛り線目印の設定作業が容
易にできるという優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる基準平面設定装置の一実施例を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図２】図１の縦断面図である。
【図３】図１の上面図である。
【図４】図１の光学系の説明図である。
【図５】図１の装置の電気系の回路の一例を示す回路図
である。
である。
【図６】図５に示した回路図の要部信号波形図である。
【図７】本発明にかかる基準平面設定装置の使用状態の
一例を示す側面図と平面図である。
一例を示す側面図と平面図である。
【符号の説明】 １２ 回転ヘッド １４ 回転軸 ２０ モータ ２６ 発光および受光手段 ４４ 自動出力調整回路 ＬＤ 発光部 ＰＤ 受光部 ４６ 回転制御部 Ｃ コンデンサ（反射信号検出部） ＳＷ スイッチ回路 Ｔ 反射シート板
Claims (2)
- 【請求項１】 発光手段と、前記発光手段から発射され
る光をその光軸と直交する方向に光路変更して、反射シ
ート板側に向けて照射する照射手段と、前記反射シート
板に照射された反射光を受光する受光手段と、前記照射
手段で照射する照射光を前記光軸の回りに回転駆動する
回転手段と、前記回転手段の回転方向を制御する回転制
御部とを有する基準平面設定装置であって、 前記回転制御部は、前記受光手段が前記反射シート板か
らの反射光を受光したときに、この反射光に基づく反射
信号を検出する反射信号検出部と、この反射信号検出部
の出力信号を受けて、前記回転手段を所定の角度範囲で
揺動駆動させるスイッチ回路とを有することを特徴とす
る基準平面設定装置。 - 【請求項２】 前記発光手段と受光手段とは、同一パッ
ケージ内に設けられた半導体レーザ素子から構成され、
前記受光手段が前記発光手段の出力モニタとして機能す
ることを特徴とする請求項１記載の基準平面設定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25556993A JP2501081B2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 基準平面設定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25556993A JP2501081B2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 基準平面設定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07110236A true JPH07110236A (ja) | 1995-04-25 |
| JP2501081B2 JP2501081B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=17280542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25556993A Expired - Lifetime JP2501081B2 (ja) | 1993-10-13 | 1993-10-13 | 基準平面設定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2501081B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7399610B2 (en) | 2004-10-15 | 2008-07-15 | Shimadzu Corporation | Method for cell-free protein synthesis using extract solution derived from insect cell |
| US7615344B2 (en) | 2003-05-22 | 2009-11-10 | Riken | Process for producing extract for cell-free protein synthesis and cell extract produced thereby |
| US8226976B2 (en) | 2007-11-05 | 2012-07-24 | Riken | Method of using cell-free protein synthesis to produce a membrane protein |
| US8445232B2 (en) | 2004-11-17 | 2013-05-21 | Riken | Cell-free system for synthesis of proteins derived from cultured mammalian cells |
| US8603774B2 (en) | 2002-11-28 | 2013-12-10 | National Food Research Institute | Extract of E. coli cells having mutation in ribosomal protein S12, and method for producing protein in cell-free system using the extract |
| US8664355B2 (en) | 2004-11-19 | 2014-03-04 | Riken | Cell-free protein synthesis method with the use of linear template DNA and cell extract therefor |
| US11618777B2 (en) | 2015-07-31 | 2023-04-04 | Shigeyuki Yokoyama | Method of manufacturing membrane protein and utilization thereof |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05157843A (ja) * | 1991-12-10 | 1993-06-25 | Kansei Corp | 車間距離測定レーダ |
| JPH06137870A (ja) * | 1992-10-27 | 1994-05-20 | Topcon Corp | 往復レーザ走査システムを有するレーザ回転照射装置 |
-
1993
- 1993-10-13 JP JP25556993A patent/JP2501081B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05157843A (ja) * | 1991-12-10 | 1993-06-25 | Kansei Corp | 車間距離測定レーダ |
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| US7615344B2 (en) | 2003-05-22 | 2009-11-10 | Riken | Process for producing extract for cell-free protein synthesis and cell extract produced thereby |
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| US8445232B2 (en) | 2004-11-17 | 2013-05-21 | Riken | Cell-free system for synthesis of proteins derived from cultured mammalian cells |
| US8664355B2 (en) | 2004-11-19 | 2014-03-04 | Riken | Cell-free protein synthesis method with the use of linear template DNA and cell extract therefor |
| US8226976B2 (en) | 2007-11-05 | 2012-07-24 | Riken | Method of using cell-free protein synthesis to produce a membrane protein |
| US11618777B2 (en) | 2015-07-31 | 2023-04-04 | Shigeyuki Yokoyama | Method of manufacturing membrane protein and utilization thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2501081B2 (ja) | 1996-05-29 |
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