JPH0710870A - 新規アミノピリジン誘導体およびその塩 - Google Patents
新規アミノピリジン誘導体およびその塩Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】アンジオテンシンII拮抗作用および血圧降下作
用を有し、高血圧などの循環器系疾患治療剤またはその
中間体として有用な、新規なアミノピリジン誘導体およ
びその塩を提供する。 【構成】一般式(1)で表されるアミノピリジン誘導体
およびその塩。 〔式中、X,YはCHかNであり特にX=N,Y=CH
が望ましく;ZはH、低級アルキル基、アシル基等;R
1,R2はH,Br,CF3、低級アルキル等;R3は
H,NO2,NHR7(R7はH、低級アルキル基、ア
シル基等);R4は2−(置換)フェニル−キノリン−
6−イル、2−(置換)フェニル−インダゾール−6−
イル、2−(置換)フェニル−イミダゾ〔1,2−a〕
ピリジン−6−イル等の複素環基;を示す〕
用を有し、高血圧などの循環器系疾患治療剤またはその
中間体として有用な、新規なアミノピリジン誘導体およ
びその塩を提供する。 【構成】一般式(1)で表されるアミノピリジン誘導体
およびその塩。 〔式中、X,YはCHかNであり特にX=N,Y=CH
が望ましく;ZはH、低級アルキル基、アシル基等;R
1,R2はH,Br,CF3、低級アルキル等;R3は
H,NO2,NHR7(R7はH、低級アルキル基、ア
シル基等);R4は2−(置換)フェニル−キノリン−
6−イル、2−(置換)フェニル−インダゾール−6−
イル、2−(置換)フェニル−イミダゾ〔1,2−a〕
ピリジン−6−イル等の複素環基;を示す〕
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アンジオテンシンII拮
抗作用および血圧降下作用を有し、高血圧などの循環器
系疾患治療剤またはその中間体として有用な新規なアミ
ノピリジン誘導体およびその塩に関する。
抗作用および血圧降下作用を有し、高血圧などの循環器
系疾患治療剤またはその中間体として有用な新規なアミ
ノピリジン誘導体およびその塩に関する。
【0002】
【従来の技術】生体の血圧は、交感神経系や昇圧系と降
圧系のバランスなどで調節されている。昇圧系に関する
ものとしてレニン−アンジオテンシン系がある。レニン
はアンジオテンシノーゲンに作用してアンジオテンシン
Iを生成し、アンジオテンシンIはさらにアンジオテン
シン変換酵素により、アンジオテンシンIIに変換され
る。生成したアンジオテンシンIIは強い血管収縮作用を
有するとともに、副腎皮質に作用してアルドステロンの
分泌を促し、血圧の上昇をもたらすことが知られてい
る。アンジオテンシンIIは細胞膜上のアンジオテンシン
II受容体を介して作用するので、その拮抗薬はアンジオ
テンシン変換酵素阻害剤と同様にアンジオテンシンIIに
よって引き起こされる高血圧症の治療薬として使用でき
る。
圧系のバランスなどで調節されている。昇圧系に関する
ものとしてレニン−アンジオテンシン系がある。レニン
はアンジオテンシノーゲンに作用してアンジオテンシン
Iを生成し、アンジオテンシンIはさらにアンジオテン
シン変換酵素により、アンジオテンシンIIに変換され
る。生成したアンジオテンシンIIは強い血管収縮作用を
有するとともに、副腎皮質に作用してアルドステロンの
分泌を促し、血圧の上昇をもたらすことが知られてい
る。アンジオテンシンIIは細胞膜上のアンジオテンシン
II受容体を介して作用するので、その拮抗薬はアンジオ
テンシン変換酵素阻害剤と同様にアンジオテンシンIIに
よって引き起こされる高血圧症の治療薬として使用でき
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】これまで、アンジオテ
ンシン拮抗剤としてはサララシンに代表されるペプチド
性の拮抗剤が知られていたが、ペプチド性であるために
経口投与では有効ではなかった。
ンシン拮抗剤としてはサララシンに代表されるペプチド
性の拮抗剤が知られていたが、ペプチド性であるために
経口投与では有効ではなかった。
【0004】また最近、非ペプチド性アンジオテンシン
II拮抗剤としてイミダゾール誘導体が報告されており
(例えば、特開昭56−71074号公報、特表平3−
501020号公報等)、これらは経口投与で有効であ
ることが確認されている。これらの拮抗剤はイミダゾー
ル類とアリールハライドとを塩基条件下に結合させる方
法で合成されているが、イミダゾール環の2個の窒素原
子の反応性を制御することができないため、しばしばN
−置換体の混合物を与えてしまう問題があった。また置
換基の種類によっては、目的の混合物の収率がかなり低
くなってしまうという問題があった。
II拮抗剤としてイミダゾール誘導体が報告されており
(例えば、特開昭56−71074号公報、特表平3−
501020号公報等)、これらは経口投与で有効であ
ることが確認されている。これらの拮抗剤はイミダゾー
ル類とアリールハライドとを塩基条件下に結合させる方
法で合成されているが、イミダゾール環の2個の窒素原
子の反応性を制御することができないため、しばしばN
−置換体の混合物を与えてしまう問題があった。また置
換基の種類によっては、目的の混合物の収率がかなり低
くなってしまうという問題があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、アンジオ
テンシンII拮抗作用を有し、経口投与でも有効である非
ペプチド性化合物を鋭意探索した。その結果新規なアミ
ノピリジン誘導体が、アンジオテンシンII拮抗剤または
その中間体として有用であることを見いだした。本発明
は、新規なアミノピリジン誘導体およびその塩を提供す
る下記発明である。
テンシンII拮抗作用を有し、経口投与でも有効である非
ペプチド性化合物を鋭意探索した。その結果新規なアミ
ノピリジン誘導体が、アンジオテンシンII拮抗剤または
その中間体として有用であることを見いだした。本発明
は、新規なアミノピリジン誘導体およびその塩を提供す
る下記発明である。
【0006】すなわち、一般式(1)で表されるアミノ
ピリジン誘導体およびその塩。
ピリジン誘導体およびその塩。
【0007】
【化4】
【0008】[一般式(1)においてR1 、R2 、R
3 、R4 、X、Y、Zは下記の意味を表す。R1 、R2
は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
基、シクロ低級アルキル基、アルケニル基、アルコキシ
ル基、Cm F2m+1−、−(CH2 )n R5 、または−
(CH2 )p COR6 であるが、水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基、−(CH2 )n R5 、または−
(CH2 )p COR6 が好ましく、特に水素原子、低級
アルキル基、−(CH2 )n R5 、または−(CH2 )
p COR6 が好ましい。ここでmは1〜6の整数、nは
1〜4の整数であるが、nは1が好ましい。pは0〜4
の整数であるが、0または1が好ましい。R5 はヒドロ
キシル基またはアルコキシル基、R6 は水素原子、ヒド
ロキシル基、低級アルキル基、またはアルコキシル基で
ある。
3 、R4 、X、Y、Zは下記の意味を表す。R1 、R2
は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル
基、シクロ低級アルキル基、アルケニル基、アルコキシ
ル基、Cm F2m+1−、−(CH2 )n R5 、または−
(CH2 )p COR6 であるが、水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基、−(CH2 )n R5 、または−
(CH2 )p COR6 が好ましく、特に水素原子、低級
アルキル基、−(CH2 )n R5 、または−(CH2 )
p COR6 が好ましい。ここでmは1〜6の整数、nは
1〜4の整数であるが、nは1が好ましい。pは0〜4
の整数であるが、0または1が好ましい。R5 はヒドロ
キシル基またはアルコキシル基、R6 は水素原子、ヒド
ロキシル基、低級アルキル基、またはアルコキシル基で
ある。
【0009】R3 は水素原子、ニトロ基、またはNHR
7 である。ここでR7 は水素原子、ヒドロキシル基、低
級アルキル基、アルアルキル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、またはベンゾイル基である。
7 である。ここでR7 は水素原子、ヒドロキシル基、低
級アルキル基、アルアルキル基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、またはベンゾイル基である。
【0010】R4 は下記化5に示すいずれかの基であ
る。
る。
【0011】X、Yは同一であっても異なっていてもよ
く、それぞれCHまたは窒素原子であるが、Xが窒素原
子、YがCHである場合が好ましい。
く、それぞれCHまたは窒素原子であるが、Xが窒素原
子、YがCHである場合が好ましい。
【0012】Zは水素原子、低級アルキル基、アルコキ
シル基、アルコキシ低級アルキル基、アルアルキル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、またはベンゾイル
基である。]
シル基、アルコキシ低級アルキル基、アルアルキル基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、またはベンゾイル
基である。]
【0013】
【化5】
【0014】[ただし、化5のR8 、R9 、R10、R11
は下記の意味を示す。R8 、R9 は同一であっても異な
っていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル基、アルコキシル基、アルアルキル基、また
はCk F2k+1−であるが、R8 が水素原子、R9 が水素
原子またはハロゲン原子である場合が好ましく、特にR
8 が水素原子、R9 が水素原子、フッ素原子、塩素原
子、または臭素原子である場合が好ましい。ここでkは
1〜6の整数である。
は下記の意味を示す。R8 、R9 は同一であっても異な
っていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低
級アルキル基、アルコキシル基、アルアルキル基、また
はCk F2k+1−であるが、R8 が水素原子、R9 が水素
原子またはハロゲン原子である場合が好ましく、特にR
8 が水素原子、R9 が水素原子、フッ素原子、塩素原
子、または臭素原子である場合が好ましい。ここでkは
1〜6の整数である。
【0015】R10は下記化6に示す基である。
【0016】R11は水素原子、低級アルキル基、ハロ低
級アルキル基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、またはベンゾイル基である。]
級アルキル基、アルケニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、またはベンゾイル基である。]
【0017】
【化6】
【0018】[ただし化6のR12、R13、R14は下記の
意味を示す。R12は−COOH、−COOR15、−CO
NH2 、−CN、−SO3 H、−SO2 NH2 、−NH
SO2 CF3 、C結合テトラゾリル基、または保護基の
付いたC結合テトラゾリル基であるが、−COOH、−
COOR15、C結合テトラゾリル基、または保護基の付
いたC結合テトラゾリル基が好ましい。ここでR15は低
級アルキル基、アルケニル基、シクロ低級アルキル基、
アリール基、またはアルアルキル基であるが、低級アル
キル基が好ましい。
意味を示す。R12は−COOH、−COOR15、−CO
NH2 、−CN、−SO3 H、−SO2 NH2 、−NH
SO2 CF3 、C結合テトラゾリル基、または保護基の
付いたC結合テトラゾリル基であるが、−COOH、−
COOR15、C結合テトラゾリル基、または保護基の付
いたC結合テトラゾリル基が好ましい。ここでR15は低
級アルキル基、アルケニル基、シクロ低級アルキル基、
アリール基、またはアルアルキル基であるが、低級アル
キル基が好ましい。
【0019】R13、R14は同一であっても異なっていて
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、アルコキシル基、またはCj F2j+1−であるが、
水素原子、フッ素原子、塩素原子、低級アルキル基、ま
たはアルコキシル基が好ましく、特に水素原子、フッ素
原子、塩素原子、または低級アルキル基が好ましい。こ
こで、jは1〜6の整数である。]
もよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、アルコキシル基、またはCj F2j+1−であるが、
水素原子、フッ素原子、塩素原子、低級アルキル基、ま
たはアルコキシル基が好ましく、特に水素原子、フッ素
原子、塩素原子、または低級アルキル基が好ましい。こ
こで、jは1〜6の整数である。]
【0020】本発明において、ハロゲン原子としてはフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等である。
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等である。
【0021】また低級とは、炭素原子が6個以下の場合
が好ましい。すなわち低級アルキル基としては、炭素数
が1〜6個のアルキル基が好ましい。該低級アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基等が例示され得る。
が好ましい。すなわち低級アルキル基としては、炭素数
が1〜6個のアルキル基が好ましい。該低級アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基等が例示され得る。
【0022】ハロ低級アルキル基としては、低級アルキ
ル基の水素原子の1個以上がハロゲン原子に置換された
基である。該ハロ低級アルキル基としては、クロロメチ
ル基、2−クロロエチル基、ブロモメチル基、2−ブロ
モエチル基、1,2−ジクロロエチル基、1,2−ジブ
ロモエチル基、3−トリフルオロメチルプロピル基等が
例示され得る。
ル基の水素原子の1個以上がハロゲン原子に置換された
基である。該ハロ低級アルキル基としては、クロロメチ
ル基、2−クロロエチル基、ブロモメチル基、2−ブロ
モエチル基、1,2−ジクロロエチル基、1,2−ジブ
ロモエチル基、3−トリフルオロメチルプロピル基等が
例示され得る。
【0023】シクロ低級アルキル基としては環を形成す
る炭素数が3〜6個のシクロアルキル基、あるいは該シ
クロアルキル部分を含む基である。シクロ低級アルキル
基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロプロピルメチ
ル基等が例示され得る。
る炭素数が3〜6個のシクロアルキル基、あるいは該シ
クロアルキル部分を含む基である。シクロ低級アルキル
基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロプロピルメチ
ル基等が例示され得る。
【0024】アルケニル基としては、低級のアルケニル
基が好ましく、特に炭素数が1〜4個の場合が好まし
い。該アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、1
−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基等
が例示され得る。
基が好ましく、特に炭素数が1〜4個の場合が好まし
い。該アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、1
−プロペニル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基等
が例示され得る。
【0025】アルコキシル基としては、低級のアルコキ
シル基が好ましく、特に炭素数が1〜4個の場合が好ま
しい。該アルコキシル基としては、メトキシル基、エト
キシル基、プロポキシル基、ブトキシル基等が例示され
得る。またアルコキシカルボニル基としては上記アルコ
キシル基にカルボニル基が結合したメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基等のほか、1,1−ジメチル−2
−クロロエトキシカルボニル基、1,1−ジメチル−2
−ブロモエトキシカルボニル基、1,1−ジメチル−2
−シアノエトキシカルボニル基、アリロキシカルボニル
基等が例示され得る。
シル基が好ましく、特に炭素数が1〜4個の場合が好ま
しい。該アルコキシル基としては、メトキシル基、エト
キシル基、プロポキシル基、ブトキシル基等が例示され
得る。またアルコキシカルボニル基としては上記アルコ
キシル基にカルボニル基が結合したメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
ブトキシカルボニル基等のほか、1,1−ジメチル−2
−クロロエトキシカルボニル基、1,1−ジメチル−2
−ブロモエトキシカルボニル基、1,1−ジメチル−2
−シアノエトキシカルボニル基、アリロキシカルボニル
基等が例示され得る。
【0026】アリール基としては1価の芳香族炭化水素
基であり、フェニル基あるいはフェニル基の芳香環にア
ルキル基やハロゲン原子等が結合した基が好ましい。該
アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル
基、p−ハロフェニル基等が例示され得る。
基であり、フェニル基あるいはフェニル基の芳香環にア
ルキル基やハロゲン原子等が結合した基が好ましい。該
アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル
基、p−ハロフェニル基等が例示され得る。
【0027】アルアルキル基としては、アルキル基に上
記アリール基が置換した基であり、アルキル基の炭素数
は4以下の場合が好ましい。該アルアルキル基として
は、ベンジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、フェ
ネチル基等が例示され得る。
記アリール基が置換した基であり、アルキル基の炭素数
は4以下の場合が好ましい。該アルアルキル基として
は、ベンジル基、ベンズヒドリル基、トリチル基、フェ
ネチル基等が例示され得る。
【0028】保護基の付いたC結合テトラゾリル基とし
ては、トリチルテトラゾリル基、トリメチルシリルテト
ラゾリル基、トリフェニルシリルテトラゾリル基、トリ
メチルスタニルテトラゾリル基、トリブチルスタニルテ
トラゾリル基等が例示され得る。
ては、トリチルテトラゾリル基、トリメチルシリルテト
ラゾリル基、トリフェニルシリルテトラゾリル基、トリ
メチルスタニルテトラゾリル基、トリブチルスタニルテ
トラゾリル基等が例示され得る。
【0029】アシル基としては、炭素原子が6個以下の
基が好ましく、特に炭素原子が1〜4個の場合が好まし
い。該アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基
等が例示され得る。ベンゾイル基としては、芳香環部分
に低級のアルコキシル基が結合しているp−メトキシベ
ンゾイル基等であってもよい。
基が好ましく、特に炭素原子が1〜4個の場合が好まし
い。該アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基
等が例示され得る。ベンゾイル基としては、芳香環部分
に低級のアルコキシル基が結合しているp−メトキシベ
ンゾイル基等であってもよい。
【0030】本発明のアミノピリジン誘導体の塩として
は、アミノピリジン誘導体と無機酸との塩、またはアミ
ノピリジン誘導体と有機酸との塩がある。例えば無機酸
との塩としては、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン
酸塩、有機酸との塩としてはメタンスルホン酸塩、p−
トルエンスルホン酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、クエン
酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、コハ酸塩、乳酸塩、
グルタル酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、または種
々のアミノ酸塩等が挙げられる。さらに、本発明のアミ
ノピリジン誘導体の塩としては、アミノピリジン誘導体
と塩基から形成される塩がある。例えばナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属との塩、カルシウム、マグネシ
ウム等のアルカリ土類金属との塩、アンモニウムとの
塩、またはジメチルアンモニウム、トリエチルアンモニ
ウム等の置換アンモニウムとの塩等である。
は、アミノピリジン誘導体と無機酸との塩、またはアミ
ノピリジン誘導体と有機酸との塩がある。例えば無機酸
との塩としては、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン
酸塩、有機酸との塩としてはメタンスルホン酸塩、p−
トルエンスルホン酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、クエン
酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、コハ酸塩、乳酸塩、
グルタル酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、または種
々のアミノ酸塩等が挙げられる。さらに、本発明のアミ
ノピリジン誘導体の塩としては、アミノピリジン誘導体
と塩基から形成される塩がある。例えばナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属との塩、カルシウム、マグネシ
ウム等のアルカリ土類金属との塩、アンモニウムとの
塩、またはジメチルアンモニウム、トリエチルアンモニ
ウム等の置換アンモニウムとの塩等である。
【0031】塩とせしめる場合には、無機酸、有機酸、
または塩基のいずれを加える場合においても、本発明の
アミノピリジン誘導体の1当量に対して、1〜10当量
程度、好ましくは1〜5当量程度がよい。
または塩基のいずれを加える場合においても、本発明の
アミノピリジン誘導体の1当量に対して、1〜10当量
程度、好ましくは1〜5当量程度がよい。
【0032】本発明のアミノピリジン誘導体およびその
塩としては、以下の場合が好ましい。すなわちR1 、R
2 が同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立
して、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、−
(CH2 )n R5 、または−(CH2 )p COR6 (こ
こでR5 はヒドロキシル基またはアルコキシル基、R6
は水素原子、ヒドロキシル基、またはアルコキシル基、
nは1〜4の整数、pは0〜4の整数)であり、R3 は
ニトロ基または−NHR7 (ここでR7 は水素原子、ア
ルアルキル基、アシル基、またはベンゾイル基)であ
り、R8 およびR9は、それぞれ水素原子またはハロゲ
ン原子であり、R10としては、R11が水素原子、アシル
基、アルコキシカルボニル基、またはベンゾイル基であ
り、R12が−COOR15(ここでR15は低級アルキル基
またはアルアルキル基)、−COOH、C結合テトラゾ
リル基、または保護基の付いたC結合テトラゾリル基で
あり、Xは窒素原子、YはCH、Zは水素原子、アルア
ルキル基、アシル基またはベンゾイル基である場合であ
る。
塩としては、以下の場合が好ましい。すなわちR1 、R
2 が同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立
して、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、−
(CH2 )n R5 、または−(CH2 )p COR6 (こ
こでR5 はヒドロキシル基またはアルコキシル基、R6
は水素原子、ヒドロキシル基、またはアルコキシル基、
nは1〜4の整数、pは0〜4の整数)であり、R3 は
ニトロ基または−NHR7 (ここでR7 は水素原子、ア
ルアルキル基、アシル基、またはベンゾイル基)であ
り、R8 およびR9は、それぞれ水素原子またはハロゲ
ン原子であり、R10としては、R11が水素原子、アシル
基、アルコキシカルボニル基、またはベンゾイル基であ
り、R12が−COOR15(ここでR15は低級アルキル基
またはアルアルキル基)、−COOH、C結合テトラゾ
リル基、または保護基の付いたC結合テトラゾリル基で
あり、Xは窒素原子、YはCH、Zは水素原子、アルア
ルキル基、アシル基またはベンゾイル基である場合であ
る。
【0033】さらに、本発明のアミノピリジン誘導体お
よびその塩としては、特に以下の場合が好ましい。すな
わちR1 、R2 は同一であっても異なっていてもよく、
それぞれ独立して、水素原子、低級アルキル基、−(C
H2 )n R5 、または−(CH2 )p COR6 (ここで
R5 はヒドロキシル基またはアルコキシル基、R6 は水
素原子、ヒドロキシル基、またはアルコキシル基、nは
1、pは0あるいは1)であり、R3 はニトロ基または
−NHR7 (ここでR7 が水素原子、アシル基、または
ベンゾイル基)であり、R8 およびR9 は、それぞれ水
素原子または臭素原子であり、R10としては、R11が水
素原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはベ
ンゾイル基であり、R12が−COOH、−COOR
15(ここでR15は低級アルキル基、またはアルアルキル
基)、またはC結合テトラゾリル基であり、Xは窒素原
子、YはCH、Zは水素原子である場合である。
よびその塩としては、特に以下の場合が好ましい。すな
わちR1 、R2 は同一であっても異なっていてもよく、
それぞれ独立して、水素原子、低級アルキル基、−(C
H2 )n R5 、または−(CH2 )p COR6 (ここで
R5 はヒドロキシル基またはアルコキシル基、R6 は水
素原子、ヒドロキシル基、またはアルコキシル基、nは
1、pは0あるいは1)であり、R3 はニトロ基または
−NHR7 (ここでR7 が水素原子、アシル基、または
ベンゾイル基)であり、R8 およびR9 は、それぞれ水
素原子または臭素原子であり、R10としては、R11が水
素原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、またはベ
ンゾイル基であり、R12が−COOH、−COOR
15(ここでR15は低級アルキル基、またはアルアルキル
基)、またはC結合テトラゾリル基であり、Xは窒素原
子、YはCH、Zは水素原子である場合である。
【0034】本発明のアミノピリジン誘導体およびその
塩は新規化合物であり、以下に示す方法で製造すること
ができるが、これらに限定されない。
塩は新規化合物であり、以下に示す方法で製造すること
ができるが、これらに限定されない。
【0035】第一の方法としては、本発明のアミノピリ
ジン誘導体を原料として、その置換基を変換して、別の
アミノピリジン誘導体とする方法である。例えばR12が
−COOHのものは、R12が−COOR15である化合物
を加水分解することにより得られる。ここでR15は上記
と同じ意味である。
ジン誘導体を原料として、その置換基を変換して、別の
アミノピリジン誘導体とする方法である。例えばR12が
−COOHのものは、R12が−COOR15である化合物
を加水分解することにより得られる。ここでR15は上記
と同じ意味である。
【0036】R12がC結合テトラゾリル基のものを得る
方法は、R12が−CNである化合物をアジ化ナトリウ
ム、アジ化アンモニウム、またはアジ化トリブチルスズ
のような適当なアジド化合物と、トルエン、キシレン、
ジメトキシエタン、テトラヒドロフランなどの無水溶媒
中で、溶媒の還流温度またはその近傍温度で反応させる
方法である。アジ化アンモニウムを用いる場合はアジ化
ナトリウムと塩化アンモニウムからその場で調製するこ
とが好ましい。またアジ化トリブチルスズを用いる場合
には、アジ化ナトリウムと塩化トリブチルスズからその
場で調製することが好ましい。またアジ化トリブチルス
ズを用いる場合は、反応直後、塩基性水溶液または酸性
水溶液で処理してトリブチルスズを除去することが好ま
しい。
方法は、R12が−CNである化合物をアジ化ナトリウ
ム、アジ化アンモニウム、またはアジ化トリブチルスズ
のような適当なアジド化合物と、トルエン、キシレン、
ジメトキシエタン、テトラヒドロフランなどの無水溶媒
中で、溶媒の還流温度またはその近傍温度で反応させる
方法である。アジ化アンモニウムを用いる場合はアジ化
ナトリウムと塩化アンモニウムからその場で調製するこ
とが好ましい。またアジ化トリブチルスズを用いる場合
には、アジ化ナトリウムと塩化トリブチルスズからその
場で調製することが好ましい。またアジ化トリブチルス
ズを用いる場合は、反応直後、塩基性水溶液または酸性
水溶液で処理してトリブチルスズを除去することが好ま
しい。
【0037】またR12がC結合テトラゾリル基のものを
得る別の方法としては、J. V. Dunciaらの方法(J. Or
g. Chem., 56, 2395 (1991))に従って、R12が−CO
OHである化合物の−COOHを酸クロリドまたは活性
エステルに変換した後、2−アミノプロピオニトリルを
反応させ、さらにトリフェニルホスフィン、アゾジカル
ボン酸ジエチル、およびトリメチルシリルアジドと反応
させる方法を挙げることができる。
得る別の方法としては、J. V. Dunciaらの方法(J. Or
g. Chem., 56, 2395 (1991))に従って、R12が−CO
OHである化合物の−COOHを酸クロリドまたは活性
エステルに変換した後、2−アミノプロピオニトリルを
反応させ、さらにトリフェニルホスフィン、アゾジカル
ボン酸ジエチル、およびトリメチルシリルアジドと反応
させる方法を挙げることができる。
【0038】第二の方法は、本発明のアミノピリジン誘
導体と置換基等が異なる類似化合物を、本発明の化合物
に変換する方法である。ここで類似化合物とは、骨格が
一般式(1)で表される化合物と同一の化合物をいう。
導体と置換基等が異なる類似化合物を、本発明の化合物
に変換する方法である。ここで類似化合物とは、骨格が
一般式(1)で表される化合物と同一の化合物をいう。
【0039】官能基を変換する例としては、保護基で保
護された官能基を脱保護する例がある。また、R12に対
応する位置にアミノ基やメルカプト基が結合している類
似化合物を原料として、本発明のアミノピリジン誘導体
を合成することができる。例えばR12がC結合テトラゾ
リル基であるものは、R12に対応する位置に適当な保護
基で保護されたC結合テトラゾリル基を有する類似化合
物に、脱保護操作を施すことによって得ることができ
る。この場合の保護基としては、トリフェニルメチル基
やシアノエチル基等が挙げられる。また脱保護操作は、
通常の脱保護の条件や方法が適用される。例えば、T.W.
Greene, "Protective Groups in Organic Synthesis"
(John Wiley and Sons, Inc., 1981) に記載されている
汎用操作が例示され得る。
護された官能基を脱保護する例がある。また、R12に対
応する位置にアミノ基やメルカプト基が結合している類
似化合物を原料として、本発明のアミノピリジン誘導体
を合成することができる。例えばR12がC結合テトラゾ
リル基であるものは、R12に対応する位置に適当な保護
基で保護されたC結合テトラゾリル基を有する類似化合
物に、脱保護操作を施すことによって得ることができ
る。この場合の保護基としては、トリフェニルメチル基
やシアノエチル基等が挙げられる。また脱保護操作は、
通常の脱保護の条件や方法が適用される。例えば、T.W.
Greene, "Protective Groups in Organic Synthesis"
(John Wiley and Sons, Inc., 1981) に記載されている
汎用操作が例示され得る。
【0040】またR12が−NHSO2 CF3 であるもの
は、R12に対応する位置にアミノ基を有する類似化合物
から、溶媒中、好ましくはジクロロメタン中で、塩基の
存在下、好ましくはトリエチルアミンの存在下に、無水
トリフルオロメタンスルホン酸と反応させることによっ
て得ることができる。
は、R12に対応する位置にアミノ基を有する類似化合物
から、溶媒中、好ましくはジクロロメタン中で、塩基の
存在下、好ましくはトリエチルアミンの存在下に、無水
トリフルオロメタンスルホン酸と反応させることによっ
て得ることができる。
【0041】この方法において、R12に対応する位置に
アミノ基を有する類似化合物は、R12が−COOHであ
る化合物に、必要であれば他の官能基を適当な保護基で
保護した後、t−ブチルアルコールのようなアルコール
類を溶媒として、トリエチルアミンのような塩基の存在
下に、ジフェニルホスホリルアジドを用いてクルチウス
転位を行なうことによりカーバメートを得、その後エタ
ノール等の溶媒中で塩酸を作用させて酸加水分解反応せ
しめることにより合成することができる。
アミノ基を有する類似化合物は、R12が−COOHであ
る化合物に、必要であれば他の官能基を適当な保護基で
保護した後、t−ブチルアルコールのようなアルコール
類を溶媒として、トリエチルアミンのような塩基の存在
下に、ジフェニルホスホリルアジドを用いてクルチウス
転位を行なうことによりカーバメートを得、その後エタ
ノール等の溶媒中で塩酸を作用させて酸加水分解反応せ
しめることにより合成することができる。
【0042】さらにR12が−SO3 Hである化合物は、
R12に対応する位置にメルカプト基を有する類似化合物
から、メルカプト基を過酸化水素、メタクロロペルオキ
シ安息香酸、過マンガン酸カリウム等で酸化することに
より製造される。この方法でR12に対応する位置にメル
カプト基を有する類似化合物は、例えば第三の方法に従
って合成することができる。
R12に対応する位置にメルカプト基を有する類似化合物
から、メルカプト基を過酸化水素、メタクロロペルオキ
シ安息香酸、過マンガン酸カリウム等で酸化することに
より製造される。この方法でR12に対応する位置にメル
カプト基を有する類似化合物は、例えば第三の方法に従
って合成することができる。
【0043】第三の方法は、2種類以上の化合物の反応
により本発明のアミノピリジン誘導体あるいは類似化合
物を合成する方法である。類似化合物は第二の方法に従
って本発明のアミノピリジン誘導体に変換することがで
きる。
により本発明のアミノピリジン誘導体あるいは類似化合
物を合成する方法である。類似化合物は第二の方法に従
って本発明のアミノピリジン誘導体に変換することがで
きる。
【0044】第三の方法は、骨格形成を伴う方法であ
る。代表的な骨格形成反応は化7で表される化合物と化
8で表される化合物を反応させる方法である。
る。代表的な骨格形成反応は化7で表される化合物と化
8で表される化合物を反応させる方法である。
【0045】
【化7】
【0046】化7において、R24は一般式(1)のR4
と同一であるか、R4 に変換し得る基である。R24が一
般式(1)のR4 と同一である場合、R24は化5より選
ばれる基である。
と同一であるか、R4 に変換し得る基である。R24が一
般式(1)のR4 と同一である場合、R24は化5より選
ばれる基である。
【0047】
【化8】
【0048】化8においてR21、R22、R23はそれぞれ
一般式(1)の対応するR1 、R2、R3 と同一である
か、または、対応するR1 、R2 、R3 に変換し得る基
である。X、Yはそれぞれ一般式(1)のX、Yと同一
である。Wはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等のハロゲン原子またはアミノ基を表す。
一般式(1)の対応するR1 、R2、R3 と同一である
か、または、対応するR1 、R2 、R3 に変換し得る基
である。X、Yはそれぞれ一般式(1)のX、Yと同一
である。Wはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等のハロゲン原子またはアミノ基を表す。
【0049】化7の化合物と化8の化合物との反応は、
塩基の存在下、無溶媒または溶媒中で、0℃〜溶媒の還
流温度あるいは300℃以下の温度で実施することがで
きる。この場合の塩基としては水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウム等が例示され得る。溶媒を用いる場合にはN,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性
溶媒、あるいは、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、t−ブタノール、
オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール等のプロトン性溶媒が例示され得る。
塩基の存在下、無溶媒または溶媒中で、0℃〜溶媒の還
流温度あるいは300℃以下の温度で実施することがで
きる。この場合の塩基としては水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウム等が例示され得る。溶媒を用いる場合にはN,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の非プロトン性
溶媒、あるいは、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、t−ブタノール、
オクタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール等のプロトン性溶媒が例示され得る。
【0050】また別の骨格形成反応として、下記化9で
表される化合物と下記化10で表される化合物とを塩基
の存在下、無溶媒または溶媒中で、0℃〜溶媒の還流温
度あるいは300℃以下の温度の範囲内で反応せしめる
ことによっても合成することができる。該塩基としては
水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナ
トリウムメトキシド、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、トリエチルアミン、トリブチルアミン、水素化
ナトリウム、水素化カリウム等が例示され得る。溶媒を
用いる場合にはN,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等の非プロトン性溶媒、またはメタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、
t−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコールなどのプロトン性溶媒が例示され
得る。
表される化合物と下記化10で表される化合物とを塩基
の存在下、無溶媒または溶媒中で、0℃〜溶媒の還流温
度あるいは300℃以下の温度の範囲内で反応せしめる
ことによっても合成することができる。該塩基としては
水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナ
トリウムメトキシド、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム、トリエチルアミン、トリブチルアミン、水素化
ナトリウム、水素化カリウム等が例示され得る。溶媒を
用いる場合にはN,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等の非プロトン性溶媒、またはメタノール、エタノ
ール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、
t−ブタノール、オクタノール、エチレングリコール、
ジエチレングリコールなどのプロトン性溶媒が例示され
得る。
【0051】
【化9】
【0052】化9において、R34は、一般式(1)の対
応するR4 と同一であるか、または対応するR4 に変換
し得る基であり、Vはフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、またはアミノ基を表
す。
応するR4 と同一であるか、または対応するR4 に変換
し得る基であり、Vはフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、またはアミノ基を表
す。
【0053】
【化10】
【0054】化10において、R31、R32、R33はそれ
ぞれ一般式(1)の対応するR1 、R2 、R3 と同一で
あるか、または、対応するR1 、R2 、R3 に変換し得
る基である。X、Yはそれぞれ一般式(1)のX、Yと
同一である。
ぞれ一般式(1)の対応するR1 、R2 、R3 と同一で
あるか、または、対応するR1 、R2 、R3 に変換し得
る基である。X、Yはそれぞれ一般式(1)のX、Yと
同一である。
【0055】本発明のアミノピリジン誘導体を合成する
場合には、R1 〜R15が出発物質から最終生成物まで必
ずしも同一であるとは限らず、必要に応じて変換を行な
って最終生成物に導くことが必要である。
場合には、R1 〜R15が出発物質から最終生成物まで必
ずしも同一であるとは限らず、必要に応じて変換を行な
って最終生成物に導くことが必要である。
【0056】これらの変換反応は公知の方法、条件に従
って実施することができる。例えばR3 がニトロ基であ
る化合物をアミノ基に変換する場合には、通常の還元反
応の条件を用いることができる。例えば、炭素に担持し
たパラジウム触媒、白金触媒、またはラネーニッケル等
の存在下に、水素還元、ジボランによる還元、鉄、亜鉛
などの金属によって還元する方法を採用することができ
る。
って実施することができる。例えばR3 がニトロ基であ
る化合物をアミノ基に変換する場合には、通常の還元反
応の条件を用いることができる。例えば、炭素に担持し
たパラジウム触媒、白金触媒、またはラネーニッケル等
の存在下に、水素還元、ジボランによる還元、鉄、亜鉛
などの金属によって還元する方法を採用することができ
る。
【0057】
【実施例】以下に本発明を具体的に例を挙げて説明する
が、これらに限定されない。
が、これらに限定されない。
【0058】[参考例1] 2−(6−アミノメチルキノリン−2−イル)安息香酸
メチルの合成 2−(6−メチルキノリン−2−イル)安息香酸メチル
(1.11g, 4.0mmol)を四塩化炭素(8ml) に溶解し、N−ブ
ロモコハク酸イミド(0.68g, 4mmol)とアゾビスイソブチ
ロニトリル(34mg, 0.2mmol) を加え、1時間加熱還流し
た。溶媒を留去した後、水(50ml)を加え、有機層を分液
した後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を乾
燥濃縮した後、減圧濃縮し、2−(6−ブロモメチルキ
ノリン−2−イル)安息香酸メチルの粗生成物を得た。
上記粗生成物をN、N−ジメチルホルムアミド(8ml) に
溶解し、アジ化ナトリウム(2.6g, 40mmol)を加え、室温
で15時間撹拌した。反応混合物から溶媒を留去し、水(4
0ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥、濃
縮し2−(6−アジドメチルキノリン−2−イル)安息
香酸メチルの粗生成物を得た。 IR:2300cm-1。 上記粗生成物をエタノール(10ml)に溶解し、5%パラジ
ウム担持炭素(200mg)を加え、室温常圧で水素添加し
た。反応混合物をセライト545 で瀘過した後、エタノー
ルを留去し、標記化合物(0.93g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s)。
メチルの合成 2−(6−メチルキノリン−2−イル)安息香酸メチル
(1.11g, 4.0mmol)を四塩化炭素(8ml) に溶解し、N−ブ
ロモコハク酸イミド(0.68g, 4mmol)とアゾビスイソブチ
ロニトリル(34mg, 0.2mmol) を加え、1時間加熱還流し
た。溶媒を留去した後、水(50ml)を加え、有機層を分液
した後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を乾
燥濃縮した後、減圧濃縮し、2−(6−ブロモメチルキ
ノリン−2−イル)安息香酸メチルの粗生成物を得た。
上記粗生成物をN、N−ジメチルホルムアミド(8ml) に
溶解し、アジ化ナトリウム(2.6g, 40mmol)を加え、室温
で15時間撹拌した。反応混合物から溶媒を留去し、水(4
0ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥、濃
縮し2−(6−アジドメチルキノリン−2−イル)安息
香酸メチルの粗生成物を得た。 IR:2300cm-1。 上記粗生成物をエタノール(10ml)に溶解し、5%パラジ
ウム担持炭素(200mg)を加え、室温常圧で水素添加し
た。反応混合物をセライト545 で瀘過した後、エタノー
ルを留去し、標記化合物(0.93g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s)。
【0059】[参考例2] 6−アミノメチル−2−[(2−トリフェニルメチル−
2H−テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリンの
合成 6−メチル−2−[(2−トリフェニルメチル−2H−
テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリン(2.64g,
5mmol)を四塩化炭素(10ml)に溶解し、N−ブロモコハク
酸イミド(0.85g, 5mmol)とアゾビスイソブチロニトリル
(85mg, 0.5mmol) を加え、1時間加熱還流した。溶媒を
留去した後、水(70ml)を加え、有機層を分液した後、水
層をジクロロメタンで抽出した。有機層を乾燥濃縮した
後、減圧濃縮し、6−ブロモメチル−2−[(2−トリ
フェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フェ
ニル]キノリンの粗生成物を得た。上記粗生成物をN、
N−ジメチルホルムアミド(10ml)に溶解し、アジ化ナト
リウム(3.2g, 50mmol)を加え、室温で18時間撹拌した。
反応混合物から溶媒を留去し、水(60ml)を加え、酢酸エ
チルで抽出した。有機層を乾燥、濃縮し、6−アジドメ
チル−2−[(2−トリフェニルメチル−2H−テトラ
ゾール−5−イル)フェニル]キノリンの粗生成物を得
た。 IR:2300cm-1。 上記生成物をN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)に溶
解し、トリフェニルホスフィン(5.2g, 20mmol)を加え、
室温で20時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出
し、乾燥濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより標記化合物(1.5g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s)。
2H−テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリンの
合成 6−メチル−2−[(2−トリフェニルメチル−2H−
テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリン(2.64g,
5mmol)を四塩化炭素(10ml)に溶解し、N−ブロモコハク
酸イミド(0.85g, 5mmol)とアゾビスイソブチロニトリル
(85mg, 0.5mmol) を加え、1時間加熱還流した。溶媒を
留去した後、水(70ml)を加え、有機層を分液した後、水
層をジクロロメタンで抽出した。有機層を乾燥濃縮した
後、減圧濃縮し、6−ブロモメチル−2−[(2−トリ
フェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フェ
ニル]キノリンの粗生成物を得た。上記粗生成物をN、
N−ジメチルホルムアミド(10ml)に溶解し、アジ化ナト
リウム(3.2g, 50mmol)を加え、室温で18時間撹拌した。
反応混合物から溶媒を留去し、水(60ml)を加え、酢酸エ
チルで抽出した。有機層を乾燥、濃縮し、6−アジドメ
チル−2−[(2−トリフェニルメチル−2H−テトラ
ゾール−5−イル)フェニル]キノリンの粗生成物を得
た。 IR:2300cm-1。 上記生成物をN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)に溶
解し、トリフェニルホスフィン(5.2g, 20mmol)を加え、
室温で20時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出
し、乾燥濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより標記化合物(1.5g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s)。
【0060】[参考例3] 2−(5−アミノメチル−3−ブロモ−2H−イソイン
ダゾール−2−イル)安息香酸メチルの合成 2−(5−メチル−3−ブロモ−2H−イソインダゾー
ル−2−イル)安息香酸メチルを原料とし、参考例1と
同様の方法で標記化合物(1.49g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.6(3H, s)。
ダゾール−2−イル)安息香酸メチルの合成 2−(5−メチル−3−ブロモ−2H−イソインダゾー
ル−2−イル)安息香酸メチルを原料とし、参考例1と
同様の方法で標記化合物(1.49g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.6(3H, s)。
【0061】[参考例4] 5−アミノメチル−2−[(2−トリフェニルメチル−
2H−テトラゾール−5−イル)フェニル]−2H−イ
ンダゾールの合成 5−メチル−2−[(2−トリフェニルメチル−2H−
テトラゾール−5−イル)フェニル]−2H−インダゾ
ールを原料とし、参考例2と同様の方法で標記化合物
(2.0g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s)。
2H−テトラゾール−5−イル)フェニル]−2H−イ
ンダゾールの合成 5−メチル−2−[(2−トリフェニルメチル−2H−
テトラゾール−5−イル)フェニル]−2H−インダゾ
ールを原料とし、参考例2と同様の方法で標記化合物
(2.0g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s)。
【0062】[参考例5] 2−(6−アミノメチル−3−ブロモイミダゾ[1,2
−a]ピリジン−2−イル)安息香酸メチルの合成 2−(6−メチル−3−ブロモイミダゾ[1,2−a]
ピリジン−2−イル)安息香酸メチルを原料とし、参考
例1と同様の方法で標記化合物(0.49g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.7(3H, s)。
−a]ピリジン−2−イル)安息香酸メチルの合成 2−(6−メチル−3−ブロモイミダゾ[1,2−a]
ピリジン−2−イル)安息香酸メチルを原料とし、参考
例1と同様の方法で標記化合物(0.49g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.7(3H, s)。
【0063】[参考例6] 2−(7−アミノメチル−3−ブロモイミダゾ[1,2
−a]ピリジン−2−イル)安息香酸メチルの合成 2−(7−メチル−3−ブロモイミダゾ[1,2−a]
ピリジン−2−イル)安息香酸メチルを原料とし、参考
例1と同様の方法で標記化合物(0.49g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s)。
−a]ピリジン−2−イル)安息香酸メチルの合成 2−(7−メチル−3−ブロモイミダゾ[1,2−a]
ピリジン−2−イル)安息香酸メチルを原料とし、参考
例1と同様の方法で標記化合物(0.49g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s)。
【0064】[参考例7] 2−[1−t−ブトキシカルボニル−5−アミノメチル
−1H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息香酸メチ
ルおよび2−[1−t−ブトキシカルボニル−6−アミ
ノメチル−1H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息
香酸メチルの合成 2−[1−t−ブトキシカルボニル−5−メチル−1H
−ベンズイミダゾール−2−イル]安息香酸メチルおよ
び2−[1−t−ブトキシカルボニル−6−メチル−1
H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息香酸メチルの
混合物を原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(0.82g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
1.3(9H, s)。
−1H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息香酸メチ
ルおよび2−[1−t−ブトキシカルボニル−6−アミ
ノメチル−1H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息
香酸メチルの合成 2−[1−t−ブトキシカルボニル−5−メチル−1H
−ベンズイミダゾール−2−イル]安息香酸メチルおよ
び2−[1−t−ブトキシカルボニル−6−メチル−1
H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息香酸メチルの
混合物を原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(0.82g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
1.3(9H, s)。
【0065】[参考例8] 2−(5−アミノメチル−2−ベンズオキサゾリル)安
息香酸メチルの合成 2−(5−メチル−2−ベンズオキサゾリル)安息香酸
メチルを原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(2.56g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s)。
息香酸メチルの合成 2−(5−メチル−2−ベンズオキサゾリル)安息香酸
メチルを原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(2.56g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s)。
【0066】[参考例9] 2−(6−アミノメチル−2−ベンズオキサゾリル)安
息香酸メチルの合成 2−(6−メチル−2−ベンズオキサゾリル)安息香酸
メチルを原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(1.34g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s)。
息香酸メチルの合成 2−(6−メチル−2−ベンズオキサゾリル)安息香酸
メチルを原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(1.34g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s)。
【0067】[参考例10] 2−(5−アミノメチル−2−ベンズチアゾリル)安息
香酸メチルの合成 2−(5−メチル−2−ベンズチアゾリル)安息香酸メ
チルを原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(1.2g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s)。
香酸メチルの合成 2−(5−メチル−2−ベンズチアゾリル)安息香酸メ
チルを原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(1.2g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s)。
【0068】[参考例11] 2−(6−アミノメチル−2−ベンズチアゾリル)安息
香酸メチルの合成 2−(6−メチル−2−ベンズチアゾリル)安息香酸メ
チルを原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(0.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s)。
香酸メチルの合成 2−(6−メチル−2−ベンズチアゾリル)安息香酸メ
チルを原料とし、参考例1と同様の方法で標記化合物
(0.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s)。
【0069】[実施例1] 2−[[6−(N−(4,6−ジメチル−3−ニトロピ
リジン−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イ
ル]安息香酸メチルの合成 参考例1で合成した2−(6−アミノメチルキノリン−
2−イル)安息香酸メチル(0.88g, 3mmol)と2−クロロ
−3−ニトロ−4,6−ジメチルピリジン(0.56g, 3mmo
l)をブタノールに溶解し、ここに炭酸水素ナトリウム
(0.5g)を加え、18時間加熱還流した。溶媒を減圧留去
し、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製して、標記化合物(0.66g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
リジン−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イ
ル]安息香酸メチルの合成 参考例1で合成した2−(6−アミノメチルキノリン−
2−イル)安息香酸メチル(0.88g, 3mmol)と2−クロロ
−3−ニトロ−4,6−ジメチルピリジン(0.56g, 3mmo
l)をブタノールに溶解し、ここに炭酸水素ナトリウム
(0.5g)を加え、18時間加熱還流した。溶媒を減圧留去
し、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
にて精製して、標記化合物(0.66g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
【0070】[実施例2] 2−[[6−(N−(4,6−ジメチル−3−アミノピ
リジン−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イ
ル]安息香酸メチルの合成 実施例1で合成した2−[6−(N−(4,6−ジメチ
ル−3−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル)キ
ノリン−2−イル]安息香酸メチル(0.44g, 1.0mmol)を
エタノール(30ml)に溶解し、10%パラジウム担持炭素(1
00mg) を加えて、室温、1気圧で水素雰囲気下にて15時
間撹拌した。セライト545 で瀘過した後、減圧濃縮し、
標記化合物(0.40g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.7(3H, s),
2.45(3H, s), 2.4(3H,s) 。
リジン−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イ
ル]安息香酸メチルの合成 実施例1で合成した2−[6−(N−(4,6−ジメチ
ル−3−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル)キ
ノリン−2−イル]安息香酸メチル(0.44g, 1.0mmol)を
エタノール(30ml)に溶解し、10%パラジウム担持炭素(1
00mg) を加えて、室温、1気圧で水素雰囲気下にて15時
間撹拌した。セライト545 で瀘過した後、減圧濃縮し、
標記化合物(0.40g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.7(3H, s),
2.45(3H, s), 2.4(3H,s) 。
【0071】[実施例3] 2−[[6−(N−(4,6−ジメチル−3−アミノピ
リジン−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イ
ル]安息香酸の合成 実施例2で合成した2−[6−(N−(4,6−ジメチ
ル−3−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル)キ
ノリン−2−イル]安息香酸メチル(0.39g, 0.95mmol)
をメタノール(3ml) 、テトラヒドロフラン(3ml) に溶解
し、2N水酸化ナトリウム(0.5ml) を加えて、室温で15
時間撹拌した。減圧濃縮し、2N塩酸で中和し、標記化
合物(0.3g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.45(3H, s),
2.4(3H, s) 。
リジン−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イ
ル]安息香酸の合成 実施例2で合成した2−[6−(N−(4,6−ジメチ
ル−3−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル)キ
ノリン−2−イル]安息香酸メチル(0.39g, 0.95mmol)
をメタノール(3ml) 、テトラヒドロフラン(3ml) に溶解
し、2N水酸化ナトリウム(0.5ml) を加えて、室温で15
時間撹拌した。減圧濃縮し、2N塩酸で中和し、標記化
合物(0.3g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.45(3H, s),
2.4(3H, s) 。
【0072】[実施例4] 2−[[6−(N−(4−メチル−3−ニトロピリジン
−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イル]安
息香酸メチルの合成 参考例1で合成した2−(6−アミノメチルキノリン−
2−イル)安息香酸メチル(0.88g, 3mmol)と2−クロロ
−3−ニトロ−4−メチルピリジン(0.52g, 3mmol)をブ
タノールに溶解し、ここに炭酸水素ナトリウム(0.5g)を
加え、18時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、反応混
合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
て、標記化合物(0.54g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s)。
−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イル]安
息香酸メチルの合成 参考例1で合成した2−(6−アミノメチルキノリン−
2−イル)安息香酸メチル(0.88g, 3mmol)と2−クロロ
−3−ニトロ−4−メチルピリジン(0.52g, 3mmol)をブ
タノールに溶解し、ここに炭酸水素ナトリウム(0.5g)を
加え、18時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、反応混
合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し
て、標記化合物(0.54g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s)。
【0073】[実施例5] 2−[[6−(N−(4−メチル−3−アミノピリジン
−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イル]安
息香酸メチルの合成 実施例4で合成した2−[[6−(N−(4−メチル−
3−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル)]キノ
リン−2−イル]安息香酸メチル(0.54g, 1.1mmol)をエ
タノール(25ml)に溶解し、10%パラジウム担持炭素(100
mg) を加えて、室温、1気圧で水素雰囲気下にて15時間
撹拌した。セライト545 で瀘過した後、減圧濃縮し、標
記化合物(0.50g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.7(3H, s),
2.45(3H, s) 。
−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イル]安
息香酸メチルの合成 実施例4で合成した2−[[6−(N−(4−メチル−
3−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル)]キノ
リン−2−イル]安息香酸メチル(0.54g, 1.1mmol)をエ
タノール(25ml)に溶解し、10%パラジウム担持炭素(100
mg) を加えて、室温、1気圧で水素雰囲気下にて15時間
撹拌した。セライト545 で瀘過した後、減圧濃縮し、標
記化合物(0.50g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.7(3H, s),
2.45(3H, s) 。
【0074】[実施例6] 2−[[6−(N−(4−メチル−3−アミノピリジン
−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イル]安
息香酸の合成 実施例5で合成した2−[[6−(N−(4−メチル−
3−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル)]キノ
リン−2−イル]安息香酸メチル(0.50g, 1.1mmol)をメ
タノール(3ml) 、テトラヒドロフラン(3ml) に溶解し、
2N水酸化ナトリウム(0.5ml) を加えて、室温で15時間
撹拌した。減圧濃縮し、2N塩酸で中和し、標記化合物
(0.35g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.5(3H, s)。
−2−イル)アミノメチル)]キノリン−2−イル]安
息香酸の合成 実施例5で合成した2−[[6−(N−(4−メチル−
3−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル)]キノ
リン−2−イル]安息香酸メチル(0.50g, 1.1mmol)をメ
タノール(3ml) 、テトラヒドロフラン(3ml) に溶解し、
2N水酸化ナトリウム(0.5ml) を加えて、室温で15時間
撹拌した。減圧濃縮し、2N塩酸で中和し、標記化合物
(0.35g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.5(3H, s)。
【0075】[実施例7] 2−[[6−(N−(3−ニトロピリジン−2−イ
ル))アミノメチル]キノリン−2−イル]安息香酸メ
チルの合成 参考例1で合成した2−(6−アミノメチルキノリン−
2−イル)安息香酸メチルを用い、2−クロロ−3−ニ
トロ−4、6−ジメチルピリジンの代わりに、2−クロ
ロ−3−ニトロピリジンを用いて、実施例1と同様の操
作を行ない、標記化合物(3.9g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s)。
ル))アミノメチル]キノリン−2−イル]安息香酸メ
チルの合成 参考例1で合成した2−(6−アミノメチルキノリン−
2−イル)安息香酸メチルを用い、2−クロロ−3−ニ
トロ−4、6−ジメチルピリジンの代わりに、2−クロ
ロ−3−ニトロピリジンを用いて、実施例1と同様の操
作を行ない、標記化合物(3.9g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s)。
【0076】[実施例8] 2−[[6−(N−(3−アミノピリジン−2−イ
ル))アミノメチル]キノリン−2−イル]安息香酸メ
チルの合成 実施例7で合成した2−[[6−(N−(3−ニトロピ
リジン−2−イル))アミノメチル]キノリン−2−イ
ル]安息香酸メチルを用い、実施例2と同様の操作によ
り、標記化合物(3.2g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.7(3H, s)。
ル))アミノメチル]キノリン−2−イル]安息香酸メ
チルの合成 実施例7で合成した2−[[6−(N−(3−ニトロピ
リジン−2−イル))アミノメチル]キノリン−2−イ
ル]安息香酸メチルを用い、実施例2と同様の操作によ
り、標記化合物(3.2g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.7(3H, s)。
【0077】[実施例9] 2−[[6−(N−(3−アミノピリジン−2−イ
ル))アミノメチル]キノリン−2−イル]安息香酸の
合成 実施例8で合成した2−[[6−(N−(3−アミノピ
リジン−2−イル))アミノメチル]キノリン−2−イ
ル]安息香酸メチルを用い、実施例3と同様の操作によ
り、標記化合物(2.5g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s)。
ル))アミノメチル]キノリン−2−イル]安息香酸の
合成 実施例8で合成した2−[[6−(N−(3−アミノピ
リジン−2−イル))アミノメチル]キノリン−2−イ
ル]安息香酸メチルを用い、実施例3と同様の操作によ
り、標記化合物(2.5g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s)。
【0078】[実施例10] 3−ニトロ−4,6−ジメチル−2−[N−[[[2−
(2−トリフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−
イル)フェニル]キノリン−6−イル]メチル]アミ
ノ]ピリジンの合成 参考例2で合成した6−アミノメチル−2−[(2−ト
リフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フ
ェニル]キノリンを用い、実施例1と同様の操作を行な
い、標記化合物(1.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s)。
(2−トリフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−
イル)フェニル]キノリン−6−イル]メチル]アミ
ノ]ピリジンの合成 参考例2で合成した6−アミノメチル−2−[(2−ト
リフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フ
ェニル]キノリンを用い、実施例1と同様の操作を行な
い、標記化合物(1.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s)。
【0079】[実施例11] 3−アミノ−4,6−ジメチル−2−[N−[[[2−
(1H−テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリン
−6−イル]メチル]アミノ]ピリジンの合成 実施例10で合成した3−ニトロ−4、6−ジメチル−
2−[N−[[2−(2−トリフェニルメチル−2H−
テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリン−6−イ
ル]メチルアミノ]ピリジンを用い、実施例2と同様の
操作を行ない、標記化合物(0.9g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s)。
(1H−テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリン
−6−イル]メチル]アミノ]ピリジンの合成 実施例10で合成した3−ニトロ−4、6−ジメチル−
2−[N−[[2−(2−トリフェニルメチル−2H−
テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリン−6−イ
ル]メチルアミノ]ピリジンを用い、実施例2と同様の
操作を行ない、標記化合物(0.9g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s)。
【0080】[実施例12] 3−ニトロ−4−メチル−2−[N−[[[2−(2−
トリフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)
フェニル]キノリン−6−イル]メチル]アミノ]ピリ
ジンの合成 参考例2で合成した6−アミノメチル−2−[(2−ト
リフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フ
ェニル]キノリンを用い、実施例4と同様の操作を行な
い、標記化合物(0.5g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s)。
トリフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)
フェニル]キノリン−6−イル]メチル]アミノ]ピリ
ジンの合成 参考例2で合成した6−アミノメチル−2−[(2−ト
リフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フ
ェニル]キノリンを用い、実施例4と同様の操作を行な
い、標記化合物(0.5g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s)。
【0081】[実施例13] 3−アミノ−4−メチル−2−[N−[[[2−(1H
−テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリン−6−
イル]メチル]アミノ]ピリジンの合成 実施例12で合成した3−ニトロ−4−メチル−2−
[N−[[[2−(2−トリフェニルメチル−2H−テ
トラゾール−5−イル)フェニル]キノリン−6−イ
ル]メチル]アミノ]ピリジンを用い、実施例5と同様
の操作を行ない、標記化合物(0.3g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s)。
−テトラゾール−5−イル)フェニル]キノリン−6−
イル]メチル]アミノ]ピリジンの合成 実施例12で合成した3−ニトロ−4−メチル−2−
[N−[[[2−(2−トリフェニルメチル−2H−テ
トラゾール−5−イル)フェニル]キノリン−6−イ
ル]メチル]アミノ]ピリジンを用い、実施例5と同様
の操作を行ない、標記化合物(0.3g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s)。
【0082】[実施例14] 2−[3−ブロモ−5−(N−(4,6−ジメチル−3
−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−
インダゾール−2−イル]安息香酸メチルの合成 参考例3で合成した2−(5−アミノメチル−3−ブロ
モ−2H−イソインダゾール−2−イル)安息香酸メチ
ルを用い、実施例1と同様の操作を行ない、標記化合物
(1.3g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.6(3H, s),
2.6(2H, s), 2.5(3H,s)。
−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−
インダゾール−2−イル]安息香酸メチルの合成 参考例3で合成した2−(5−アミノメチル−3−ブロ
モ−2H−イソインダゾール−2−イル)安息香酸メチ
ルを用い、実施例1と同様の操作を行ない、標記化合物
(1.3g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.6(3H, s),
2.6(2H, s), 2.5(3H,s)。
【0083】[実施例15] 2−[3−ブロモ−5−(N−(4,6−ジメチル−3
−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−
インダゾール−2−イル]安息香酸メチルの合成 実施例14で合成した2−[3−ブロモ−5−(N−
(4,6−ジメチル−3−ニトロピリジン−2−イル)
アミノメチル)−2H−インダゾール−2−イル]安息
香酸メチルを用い、実施例2と同様の操作を行ない、標
記化合物(1.0g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.6(2H, s), 2.5(3H,s)。
−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−
インダゾール−2−イル]安息香酸メチルの合成 実施例14で合成した2−[3−ブロモ−5−(N−
(4,6−ジメチル−3−ニトロピリジン−2−イル)
アミノメチル)−2H−インダゾール−2−イル]安息
香酸メチルを用い、実施例2と同様の操作を行ない、標
記化合物(1.0g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.6(2H, s), 2.5(3H,s)。
【0084】[実施例16] 2−[3−ブロモ−5−(N−(4,6−ジメチル−3
−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−
インダゾール−2−イル]安息香酸の合成 実施例15で合成した2−[3−ブロモ−5−(N−
(4,6−ジメチル−3−アミノピリジン−2−イル)
アミノメチル)−2H−インダゾール−2−イル]安息
香酸メチルを用い、実施例3と同様の操作を行ない、標
記化合物(0.6g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.6(2H, s),
2.5(3H, s)。
−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−
インダゾール−2−イル]安息香酸の合成 実施例15で合成した2−[3−ブロモ−5−(N−
(4,6−ジメチル−3−アミノピリジン−2−イル)
アミノメチル)−2H−インダゾール−2−イル]安息
香酸メチルを用い、実施例3と同様の操作を行ない、標
記化合物(0.6g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.6(2H, s),
2.5(3H, s)。
【0085】[実施例17] 2−[3−ブロモ−5−(N−(4−メチル−3−ニト
ロピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−インダ
ゾール−2−イル]安息香酸メチルの合成 参考例3で合成した2−(5−アミノメチル−3−ブロ
モ−2H−イソインダゾール−2−イル)安息香酸メチ
ルを用い、実施例1と同様の操作を行ない、標記化合物
(1.1g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s) 。
ロピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−インダ
ゾール−2−イル]安息香酸メチルの合成 参考例3で合成した2−(5−アミノメチル−3−ブロ
モ−2H−イソインダゾール−2−イル)安息香酸メチ
ルを用い、実施例1と同様の操作を行ない、標記化合物
(1.1g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s) 。
【0086】[実施例18] 2−[3−ブロモ−5−(N−(4−メチル−3−アミ
ノピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−インダ
ゾール−2−イル]安息香酸メチルの合成 実施例17で合成した2−[3−ブロモ−5−(N−
(4−メチル−3−ニトロピリジン−2−イル)アミノ
メチル)−2H−インダゾール−2−イル]安息香酸メ
チルを用い、実施例2と同様の操作を行ない、標記化合
物(0.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s)。
ノピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−インダ
ゾール−2−イル]安息香酸メチルの合成 実施例17で合成した2−[3−ブロモ−5−(N−
(4−メチル−3−ニトロピリジン−2−イル)アミノ
メチル)−2H−インダゾール−2−イル]安息香酸メ
チルを用い、実施例2と同様の操作を行ない、標記化合
物(0.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s)。
【0087】[実施例19] 2−[3−ブロモ−5−(N−(4−メチル−3−アミ
ノピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−インダ
ゾール−2−イル]安息香酸の合成 実施例3と同様にして、実施例18で合成した2−[3
−ブロモ−5−(N−(4−メチル−3−アミノピリジ
ン−2−イル)アミノメチル)−2H−インダゾール−
2−イル]安息香酸メチルを用い、実施例3と同様の操
作を行ない、標記化合物(0.5g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.6(2H, s)。
ノピリジン−2−イル)アミノメチル)−2H−インダ
ゾール−2−イル]安息香酸の合成 実施例3と同様にして、実施例18で合成した2−[3
−ブロモ−5−(N−(4−メチル−3−アミノピリジ
ン−2−イル)アミノメチル)−2H−インダゾール−
2−イル]安息香酸メチルを用い、実施例3と同様の操
作を行ない、標記化合物(0.5g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.6(2H, s)。
【0088】[実施例20] 3−ニトロ−4,6−ジメチル−2−[N−[[2−
(2−トリフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−
イル)フェニル]−2H−インダゾール−5−イル]メ
チル]アミノ]ピリジンの合成 参考例4で合成した5−アミノメチル−2−[(2−ト
リフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フ
ェニル]−2H−インダゾールを用い、実施例10と同
様の操作を行ない、標記化合物(0.35g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 2.5(3H, s),
2.4(3H, s)。
(2−トリフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−
イル)フェニル]−2H−インダゾール−5−イル]メ
チル]アミノ]ピリジンの合成 参考例4で合成した5−アミノメチル−2−[(2−ト
リフェニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フ
ェニル]−2H−インダゾールを用い、実施例10と同
様の操作を行ない、標記化合物(0.35g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.6(2H, s), 2.5(3H, s),
2.4(3H, s)。
【0089】[実施例21] 3−アミノ−4,6−ジメチル−2−[N−[[[(1
H−テトラゾール−5−イル)フェニル]−2H−イン
ダゾール−5−イル]メチル]アミノ]ピリジンの合成 実施例20で合成した3−アミノ−4、6−ジメチル−
2−[N−[[[2−(2−トリフェニルメチル−2H
−テトラゾール−5−イル)フェニル]−2H−インダ
ゾール−5−イル]メチル]アミノ]ピリジンを用い、
実施例11と同様の操作を行ない、標記化合物(0.43g)
を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.5(3H, s),
2.4(3H, s)。
H−テトラゾール−5−イル)フェニル]−2H−イン
ダゾール−5−イル]メチル]アミノ]ピリジンの合成 実施例20で合成した3−アミノ−4、6−ジメチル−
2−[N−[[[2−(2−トリフェニルメチル−2H
−テトラゾール−5−イル)フェニル]−2H−インダ
ゾール−5−イル]メチル]アミノ]ピリジンを用い、
実施例11と同様の操作を行ない、標記化合物(0.43g)
を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 2.5(3H, s),
2.4(3H, s)。
【0090】[実施例22] 2−[3−ブロモ−6−[N−(4,6−ジメチル−3
−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル]イミダゾ
[1,2−a]ピリジン−2−イル]安息香酸メチルの
合成 参考例5で合成した5−メチル−2−[(2−トリフェ
ニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フェニ
ル]−2H−インダゾールを用い、実施例1と同様の操
作を行ない、標記化合物(1.1g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル]イミダゾ
[1,2−a]ピリジン−2−イル]安息香酸メチルの
合成 参考例5で合成した5−メチル−2−[(2−トリフェ
ニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フェニ
ル]−2H−インダゾールを用い、実施例1と同様の操
作を行ない、標記化合物(1.1g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
【0091】[実施例23] 2−[3−ブロモ−6−[N−(4,6−ジメチル−3
−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル]イミダゾ
[1,2−a]ピリジン−2−イル]安息香酸メチルの
合成 実施例22で合成した2−[3−ブロモ−6−[N−
(4,6−ジメチル−3−ニトロピリジン−2−イル)
アミノメチル]イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−
イル]安息香酸メチルを用い、実施例2と同様の操作を
行ない、標記化合物(0.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル]イミダゾ
[1,2−a]ピリジン−2−イル]安息香酸メチルの
合成 実施例22で合成した2−[3−ブロモ−6−[N−
(4,6−ジメチル−3−ニトロピリジン−2−イル)
アミノメチル]イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−
イル]安息香酸メチルを用い、実施例2と同様の操作を
行ない、標記化合物(0.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
【0092】[実施例24] 2−[3−ブロモ−7−[N−(4,6−ジメチル−3
−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル]イミダゾ
[1,2−a]ピリジン−2−イル]安息香酸メチルの
合成 参考例6で合成した6−メチル−2−[(2−トリフェ
ニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フェニ
ル]−2H−インダゾールを用い、実施例1と同様の操
作を行ない、標記化合物(0.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル]イミダゾ
[1,2−a]ピリジン−2−イル]安息香酸メチルの
合成 参考例6で合成した6−メチル−2−[(2−トリフェ
ニルメチル−2H−テトラゾール−5−イル)フェニ
ル]−2H−インダゾールを用い、実施例1と同様の操
作を行ない、標記化合物(0.8g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
【0093】[実施例25] 2−[3−ブロモ−7−[N−(4,6−ジメチル−3
−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル]イミダゾ
[1,2−a]ピリジン−2−イル]安息香酸メチルの
合成 実施例24で合成した2−[3−ブロモ−7−[N−
(4,6−ジメチル−3−ニトロピリジン−2−イル)
アミノメチル]イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−
イル]安息香酸メチルを用い、実施例2と同様の操作を
行ない、標記化合物(0.6g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
−アミノピリジン−2−イル)アミノメチル]イミダゾ
[1,2−a]ピリジン−2−イル]安息香酸メチルの
合成 実施例24で合成した2−[3−ブロモ−7−[N−
(4,6−ジメチル−3−ニトロピリジン−2−イル)
アミノメチル]イミダゾ[1,2−a]ピリジン−2−
イル]安息香酸メチルを用い、実施例2と同様の操作を
行ない、標記化合物(0.6g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
【0094】[実施例26] 2−[1−t−ブトキシカルボニル−5−(N−(4,
6−ジメチル−3−ニトロピリジン−2−イル)アミノ
メチル)−1H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息
香酸メチルおよび2−[1−t−ブトキシカルボニル−
6−(N−(4、6−ジメチル−3−ニトロピリジン−
2−イル)アミノメチル)−1H−ベンズイミダゾール
−2−イル]安息香酸メチルの合成 参考例7で合成した2−[1−t−ブトキシカルボニル
−5−アミノメチル−1H−ベンズイミダゾール−2−
イル]安息香酸メチルおよび2−[1−t−ブトキシカ
ルボニル−6−アミノメチル−1H−ベンズイミダゾー
ル−2−イル]安息香酸メチルの混合物を用い、実施例
1と同様の操作を行ない、標記化合物(0.9g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s), 1.3(9H, s)。
6−ジメチル−3−ニトロピリジン−2−イル)アミノ
メチル)−1H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息
香酸メチルおよび2−[1−t−ブトキシカルボニル−
6−(N−(4、6−ジメチル−3−ニトロピリジン−
2−イル)アミノメチル)−1H−ベンズイミダゾール
−2−イル]安息香酸メチルの合成 参考例7で合成した2−[1−t−ブトキシカルボニル
−5−アミノメチル−1H−ベンズイミダゾール−2−
イル]安息香酸メチルおよび2−[1−t−ブトキシカ
ルボニル−6−アミノメチル−1H−ベンズイミダゾー
ル−2−イル]安息香酸メチルの混合物を用い、実施例
1と同様の操作を行ない、標記化合物(0.9g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s), 1.3(9H, s)。
【0095】[実施例27] 2−[1−t−ブトキシカルボニル−5−(N−(4,
6−ジメチル−3−アミノピリジン−2−イル)アミノ
メチル)−1H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息
香酸メチルおよび2−[1−t−ブトキシカルボニル−
6−(N−(4,6−ジメチル−3−アミノピリジン−
2−イル)アミノメチル)−1H−ベンズイミダゾール
−2−イル]安息香酸メチルの合成 実施例26で合成した2−[1−t−ブトキシカルボニ
ル−5−(N−(4,6−ジメチル−3−ニトロピリジ
ン−2−イル)アミノメチル)−1H−ベンズイミダゾ
ール−2−イル]安息香酸メチルおよび2−[1−t−
ブトキシカルボニル−6−(N−(4,6−ジメチル−
3−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル)−1H
−ベンズイミダゾール−2−イル]安息香酸メチルの混
合物を用い、実施例2と同様の操作を行ない、標記化合
物(0.9g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s), 1.3(9H, s) 。
6−ジメチル−3−アミノピリジン−2−イル)アミノ
メチル)−1H−ベンズイミダゾール−2−イル]安息
香酸メチルおよび2−[1−t−ブトキシカルボニル−
6−(N−(4,6−ジメチル−3−アミノピリジン−
2−イル)アミノメチル)−1H−ベンズイミダゾール
−2−イル]安息香酸メチルの合成 実施例26で合成した2−[1−t−ブトキシカルボニ
ル−5−(N−(4,6−ジメチル−3−ニトロピリジ
ン−2−イル)アミノメチル)−1H−ベンズイミダゾ
ール−2−イル]安息香酸メチルおよび2−[1−t−
ブトキシカルボニル−6−(N−(4,6−ジメチル−
3−ニトロピリジン−2−イル)アミノメチル)−1H
−ベンズイミダゾール−2−イル]安息香酸メチルの混
合物を用い、実施例2と同様の操作を行ない、標記化合
物(0.9g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s), 1.3(9H, s) 。
【0096】[実施例28] 2−[5−(N−(4,6−ジメチル−3−ニトロピリ
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズオキサゾ
リル]安息香酸メチルの合成 参考例8で合成した2−(5−アミノメチル−2−ベン
ズオキサゾリル)安息香酸メチルを原料とし、実施例1
と同様の操作を行ない、標記化合物(1.78g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s),
2.55(3H, s), 2.5(3H,s) 。
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズオキサゾ
リル]安息香酸メチルの合成 参考例8で合成した2−(5−アミノメチル−2−ベン
ズオキサゾリル)安息香酸メチルを原料とし、実施例1
と同様の操作を行ない、標記化合物(1.78g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s),
2.55(3H, s), 2.5(3H,s) 。
【0097】[実施例29] 2−[5−(N−(4,6−ジメチル−3−アミノピリ
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズオキサゾ
リル]安息香酸メチルの合成 実施例28で合成した2−[5−(N−(4,6−ジメ
チル−3−ニトロピリジン−2−イル))アミノメチル
−2−ベンズオキサゾリル]安息香酸メチルを原料と
し、実施例2と同様の操作を行ない、標記化合物(1.3g)
を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s) 。
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズオキサゾ
リル]安息香酸メチルの合成 実施例28で合成した2−[5−(N−(4,6−ジメ
チル−3−ニトロピリジン−2−イル))アミノメチル
−2−ベンズオキサゾリル]安息香酸メチルを原料と
し、実施例2と同様の操作を行ない、標記化合物(1.3g)
を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s) 。
【0098】[実施例30] 2−[6−(N−(4,6−ジメチル−3−ニトロピリ
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズオキサゾ
リル]安息香酸メチルの合成 参考例9で合成した2−(6−アミノメチル−2−ベン
ズオキサゾリル)安息香酸メチルを原料とし、実施例1
と同様の操作を行ない、標記化合物(0.87g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズオキサゾ
リル]安息香酸メチルの合成 参考例9で合成した2−(6−アミノメチル−2−ベン
ズオキサゾリル)安息香酸メチルを原料とし、実施例1
と同様の操作を行ない、標記化合物(0.87g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.4(3H,s)。
【0099】[実施例31] 2−[6−(N−(4,6−ジメチル−3−アミノピリ
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズオキサゾ
リル]安息香酸メチルの合成 実施例30で合成した2−[6−(N−(4,6−ジメ
チル−3−ニトロピリジン−2−イル))アミノメチル
−2−ベンズオキサゾリル]安息香酸メチルを原料と
し、実施例2と同様の操作を行ない、標記化合物(0.6g)
を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s) 。
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズオキサゾ
リル]安息香酸メチルの合成 実施例30で合成した2−[6−(N−(4,6−ジメ
チル−3−ニトロピリジン−2−イル))アミノメチル
−2−ベンズオキサゾリル]安息香酸メチルを原料と
し、実施例2と同様の操作を行ない、標記化合物(0.6g)
を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s) 。
【0100】[実施例32] 2−[5−(N−(4,6−ジメチル−3−ニトロピリ
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズチアゾリ
ル]安息香酸メチルの合成 参考例10で合成した2−(5−アミノメチル−2−ベ
ンズチアゾリル)安息香酸メチルを原料とし、実施例1
と同様の操作を行ない、標記化合物(2.2g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.55(3H, s), 2.5(3H,s) 。
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズチアゾリ
ル]安息香酸メチルの合成 参考例10で合成した2−(5−アミノメチル−2−ベ
ンズチアゾリル)安息香酸メチルを原料とし、実施例1
と同様の操作を行ない、標記化合物(2.2g)を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.7(3H, s),
2.55(3H, s), 2.5(3H,s) 。
【0101】[実施例33] 2−[5−(N−(4,6−ジメチル−3−アミノピリ
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズチアゾリ
ル]安息香酸メチルの合成 実施例32で合成した2−[5−(N−(4,6−ジメ
チル−3−ニトロピリジン−2−イル))アミノメチル
−2−ベンズチアゾリル]安息香酸メチルを原料とし、
実施例2と同様の操作を行ない、標記化合物(1.7g)を得
た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s) 。
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズチアゾリ
ル]安息香酸メチルの合成 実施例32で合成した2−[5−(N−(4,6−ジメ
チル−3−ニトロピリジン−2−イル))アミノメチル
−2−ベンズチアゾリル]安息香酸メチルを原料とし、
実施例2と同様の操作を行ない、標記化合物(1.7g)を得
た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.8(2H, s), 3.7(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s) 。
【0102】[実施例34] 2−[6−(N−(4,6−ジメチル−3−ニトロピリ
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズチアゾリ
ル]安息香酸メチルの合成 参考例11で合成した2−(6−アミノメチル−2−ベ
ンズチアゾリル)安息香酸メチルを原料とし、実施例1
と同様の操作を行ない、標記化合物(0.83g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.55(3H, s), 2.5(3H,s) 。
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズチアゾリ
ル]安息香酸メチルの合成 参考例11で合成した2−(6−アミノメチル−2−ベ
ンズチアゾリル)安息香酸メチルを原料とし、実施例1
と同様の操作を行ない、標記化合物(0.83g) を得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.55(3H, s), 2.5(3H,s) 。
【0103】[実施例35] 2−[6−(N−(4,6−ジメチル−3−アミノピリ
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズチアゾリ
ル]安息香酸メチルの合成 実施例34で合成した2−[6−(N−(4,6−ジメ
チル−3−ニトロピリジン−2−イル))アミノメチル
−2−ベンズチアゾリル]安息香酸メチルを原料とし、
実施例2と同様の操作を行ない、標記化合物(0.65g) を
得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s) 。
ジン−2−イル))アミノメチル−2−ベンズチアゾリ
ル]安息香酸メチルの合成 実施例34で合成した2−[6−(N−(4,6−ジメ
チル−3−ニトロピリジン−2−イル))アミノメチル
−2−ベンズチアゾリル]安息香酸メチルを原料とし、
実施例2と同様の操作を行ない、標記化合物(0.65g) を
得た。1 H-NMR(CDCl3,TMS) δ(ppm):5.7(2H, s), 3.6(3H, s),
2.5(3H, s), 2.45(3H,s) 。
【0104】
【発明の効果】本発明の新規アミノピリジン誘導体およ
びその塩は、アンジオテンシンII拮抗作用および血圧降
下作用を有し、高血圧などの循環器系疾患治療剤または
その中間体として有用であると考えられる。
びその塩は、アンジオテンシンII拮抗作用および血圧降
下作用を有し、高血圧などの循環器系疾患治療剤または
その中間体として有用であると考えられる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/47 ABN 9454−4C C07D 401/14 213 413/12 213 413/14 213 417/12 213 417/14 213 471/04 108 E
Claims (8)
- 【請求項1】一般式(1)で表されるアミノピリジン誘
導体およびその塩。 【化1】 [一般式(1)においてR1 、R2 、R3 、R4 、X、
Y、Zは下記の意味を表す。R1 、R2 は同一であって
も異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、シクロ低級
アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、Cm F
2m+1−、−(CH2 )n R5 、または−(CH2 )p C
OR6 である。ここでmは1〜6の整数、nは1〜4の
整数、pは0〜4の整数、R5 はヒドロキシル基または
アルコキシル基、R6 は水素原子、ヒドロキシル基、低
級アルキル基、またはアルコキシル基である。R3 は水
素原子、ニトロ基、またはNHR7 である。ここでR7
は水素原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、アルア
ルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または
ベンゾイル基である。R4 は下記化2に示すいずれかの
基である。X、Yは同一であっても異なっていてもよ
く、それぞれCHまたは窒素原子である。Zは水素原
子、低級アルキル基、アルコキシル基、アルコキシ低級
アルキル基、アルアルキル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、またはベンゾイル基である。] 【化2】 [ただし、化2のR8 、R9 、R10、R11は下記の意味
を示す。R8 、R9 は同一であっても異なっていてもよ
く、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、アルコキシル基、アルアルキル基、またはCk F
2k+1−である。ここでkは1〜6の整数である。R10は
下記化3に示す基である。R11は水素原子、低級アルキ
ル基、ハロ低級アルキル基、アルケニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、またはベンゾイル基であ
る。] 【化3】 [ただし化3のR12、R13、R14は下記の意味を示す。
R12は−COOH、−COOR15、−CONH2 、−C
N、−SO3 H、−SO2 NH2 、−NHSO2 CF
3 、C結合テトラゾリル基、または保護基の付いたC結
合テトラゾリル基である。ここでR15は低級アルキル
基、アルケニル基、シクロ低級アルキル基、アリール
基、またはアルアルキル基である。R13、R14は同一で
あっても異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、アルコキシル基、またはC
j F2j+1−である。ここでjは1〜6の整数である。] - 【請求項2】一般式(1)のR1 およびR2 がそれぞれ
水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、−(CH
2 )n R5 、または−(CH2 )p COR6 (ここでR
5 はヒドロキシル基またはアルコキシル基、R6 は水素
原子、ヒドロキシル基、低級アルキル基、またはアルコ
キシル基、nは1〜4の整数、pは0〜4の整数であ
る。)である、請求項1のアミノピリジン誘導体および
その塩。 - 【請求項3】化2のR8 が水素原子であり、R9 が水素
原子またはハロゲン原子である、請求項1または2のア
ミノピリジン誘導体およびその塩。 - 【請求項4】化3のR12が−COOH、−COOR
15(ここでR15は低級アルキル基、アルケニル基、シク
ロ低級アルキル基、アリール基、またはアルアルキル基
である。)、C結合テトラゾリル基、または保護基の付
いたC結合テトラゾリル基である、請求項1〜3のいず
れか1項のアミノピリジン誘導体およびその塩。 - 【請求項5】化3のR13およびR14がそれぞれ水素原
子、フッ素原子、塩素原子、低級アルキル基、またはア
ルコキシル基である、請求項1〜4のいずれか1項のア
ミノピリジン誘導体およびその塩。 - 【請求項6】一般式(1)のXが窒素原子であり、Yが
CHである、請求項1〜5のいずれか1項のアミノピリ
ジン誘導体およびその塩。 - 【請求項7】一般式(1)のR4 が化2の置換キノリン
基、置換イソインダゾール基、または置換イミダゾ
[1,2−a]ピリジン基である、請求項1〜5のいず
れか1項のアミノピリジン誘導体およびその塩。 - 【請求項8】一般式(1)のR1 およびR2 がそれぞれ
水素原子、低級アルキル基、−(CH2 )n R5 、また
は−(CH2 )p COR6 (ここでR5 はヒドロキシル
基またはアルコキシル基、R6 は水素原子、ヒドロキシ
ル基、低級アルキル基、またはアルコキシル基、nは
1、pは0または1である。)であり、Xが窒素原子、
YがCHであり、化2のR8 が水素原子、R9 が水素原
子、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子であり、化
3のR12が−COOH、−COOR15(ここでR15は低
級アルキル基である。)、C結合テトラゾリル基、また
は保護基の付いたC結合テトラゾリル基であり、R13、
R14がそれぞれ水素原子、フッ素原子、塩素原子、また
は低級アルキル基である、請求項1のアミノピリジン誘
導体およびその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5176238A JPH0710870A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 新規アミノピリジン誘導体およびその塩 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5176238A JPH0710870A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 新規アミノピリジン誘導体およびその塩 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0710870A true JPH0710870A (ja) | 1995-01-13 |
Family
ID=16010058
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5176238A Pending JPH0710870A (ja) | 1993-06-23 | 1993-06-23 | 新規アミノピリジン誘導体およびその塩 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0710870A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7576215B2 (en) | 2003-12-12 | 2009-08-18 | Wyeth | Quinolines and pharmaceutical compositions thereof |
US8188094B2 (en) | 2007-04-20 | 2012-05-29 | Probiodrug Ag | Inhibitors of glutaminyl cyclase |
WO2017049498A1 (zh) * | 2015-09-23 | 2017-03-30 | 前湾医药科技(深圳)有限公司 | 一种咪唑并吡啶类化合物与在制备pi3k抑制剂中的应用 |
-
1993
- 1993-06-23 JP JP5176238A patent/JPH0710870A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7576215B2 (en) | 2003-12-12 | 2009-08-18 | Wyeth | Quinolines and pharmaceutical compositions thereof |
US8188094B2 (en) | 2007-04-20 | 2012-05-29 | Probiodrug Ag | Inhibitors of glutaminyl cyclase |
WO2017049498A1 (zh) * | 2015-09-23 | 2017-03-30 | 前湾医药科技(深圳)有限公司 | 一种咪唑并吡啶类化合物与在制备pi3k抑制剂中的应用 |
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