JPH0710811B2 - ニトロフエノ−ルの製造方法 - Google Patents

ニトロフエノ−ルの製造方法

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JPH0710811B2
JPH0710811B2 JP60079356A JP7935685A JPH0710811B2 JP H0710811 B2 JPH0710811 B2 JP H0710811B2 JP 60079356 A JP60079356 A JP 60079356A JP 7935685 A JP7935685 A JP 7935685A JP H0710811 B2 JPH0710811 B2 JP H0710811B2
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賢一 杉本
良満 田辺
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ニトロフェノールの製造方法に関する。更に
詳しくは、アリルニトロフェニルエーテルを触媒量の不
均一系Pd触媒および触媒量の3価のホスフィン化合物の
存在下に塩基を用いて解裂することを特徴とするニトロ
フェノールの製造方法に関する。
ニトロフェノールは農薬、医薬、染料および耐熱性高分
子のモノマーの原子として非常に重要な化合物である。
(従来の技術) 従来、o−およびp−ニトロフェノールはフェノールの
ニトロ化により工業的に容易に製造できることは広く知
られている。一方、m−ニトロフェノールの製造法に関
しては、(1)m−ニトロアニリンからジアゾニウム塩
を経由して加水分解する方法(オーガニック.シンセシ
ス.コレクティブ(Org.Synth.Coll.),Vol1,404(194
1))、(2)アルキルm−ニトロフェニルエーテルを
経由して、これを加水分解する方法(特開昭59−157,05
9)、(3)ニトロベンゼンを過酸化水素を用いてヒド
ロキシル化する方法(西ドイツ公開特許第3.135.559号
など)などが知られているにすぎない。
しかしながら、これらの従来技術については、(1)の
方法では、大量の酸および水を使用しなければならない
ので容積効率が非常に悪い上に、大量の廃酸を処理しな
ければならない、(2)の方法では大量の塩酸または臭
化水素酸を使用しなければならないので、酸による反応
装置の腐食が生じ、また用いた酸は、反応後薄められて
いて、繰り返し再使用することが困難であり、その上安
価な塩酸を使用した場合でも、反応は高温加圧下に行わ
なければならない、さらに(3)の方法では位置異性体
の混合物を生じ、収率も極めて低く、安全性に問題があ
る、等の種々の欠点があり、工業的に実施するにはこれ
らの欠点を解消する必要がある。
m−ニトロフェノールは各種の精密化学品の原料として
非常に重要な物質であるにもかかわらず、工業的に、し
かも安価に製造する方法は、従来、まったく知られてい
ない。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、m−ニトロフェノールを製造する上記
従来技術のような欠点のない工業的な方法を提供するこ
とである。
(問題点を解決するための手段) 本発明者らは、上記目的の達成のために種々、考察およ
び検討を重ねた。
そこで、従来技術の欠点を解消する方法として、アリル
ニトロフェニルエーテルを原料とすることを着想し、m
−ニトロフェノールの製造法について鋭意検討した。
すでにアリルフェニルエーテルの解裂にPd触媒を用いる
方法は従来知られている。
すなわち、均一系の反応では、触媒量のPdCl2またはpd
(CH3COO)触媒およびトリフェニルホスフィンの存在
下にアリルフェニルエーテルにギ酸を作用させるとフェ
ノールとプロピレンが生成し(アンゲヴァンデ.ヒェミ
ー(Angew.Chem.),85,986(1973))、更に、この反
応を種々のアリルフェニルエールに適用した場合に、ギ
酸またはギ酸のアミン塩を用いると1−オレフィンとフ
ェノールが形成することが知られている(テトラヘドロ
ン.レターズ(Tetrahedron Lett.),1979613)。ま
た、不均一系の反応では、メタノール/水中、アリルフ
ェニルエーテルを10%Pd/Cおよび過塩素酸の存在下に6
時間還流冷却するとフェノールが95%以上の収率で得ら
れることが知られている。しかしながら、均一系の反応
では回収したPd触媒は再処理して使用する必要があり、
一方、不均一系の反応では、回収したPd触媒はそのまま
再使用可能で工業的に有利な方法であるが、通常原料に
対して10%Pd/Cを3〜5モル%も使用しなければなら
ず、Pd触媒の製造コストに占める割合は大きくなる。
このような従来技術の中で分子内にニトロ基のような還
元されやすい基を有するアリルニトロフェニルエーテル
に不均一系のPd触媒の存在下に塩を作用させることによ
りニトロ基を還元することなく、解裂反応のみを行ない
ニトロフェノールを製造するという試みは、従来、まっ
たく行なわれていなかった。
本発明は、不均一系Pd触媒を用いる塩基によるアリルニ
トロフェニルエーテルの解裂反応であって、この本発明
はアリルニトロフェニルエーテルに触媒量のPd触媒およ
び触媒量の3価のホスフィン化合物の存在下、塩基を作
用させると、驚ろくべきことにアリル基が脱離して、ニ
トロフェノールが高収率で製造でき、しかも用いる触媒
の量は原料に対して0.05〜1モル%程度で十分であり、
酸触媒を用いる従来の方法にくらべて、大巾に削減でき
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明はアリルニトロフェニルエーテルを触
媒量の不均一系Pd触媒および触媒量の3価のホスフィン
化合物の存在下、塩基を用いて解裂することを特徴とす
るニトロフェノールの新規な製造方法である。
本発明の方法で製造される化合物は、ニトロフェノール
の3種類の異性体であり、具体的にはo−ニトロフェノ
ール、m−ニトロフェノールおよびp−ニトロフェノー
ルである。特に、本発明の方法は従来、工業的に製造の
困難でありm−ニトロフェノールの製造法として有用で
ある。
本発明の方法で原料として使用される化合物は、アリル
ニトロフェニルエーテルの3種類の異性体であり、具体
的にはアリルo−ニトロフェニルエーテル、アリルm−
ニトロフェニルエーテルおよびアリルp−ニトロフェニ
ルエーテルである。これらの化合物はそれぞれ対応する
ジニトロベンゼン、クロロニトロベンゼンまたはブロモ
ニトロベンゼンの各種の異性体とアリルアルコールとの
縮合反応により容易に製造できる(例えば、特開昭58−
180,461;59−25,353;59−44,343)。
Pd触媒は金属の状態でも使用することができるが、通常
はカーボン、硫酸バリウム、シリカゲル、アルミナ、セ
ライトなどの担体表面に担持させた一般的に接触還元に
用いられる触媒を使用する。使用量は上限に関して特に
制限はないが、原料のアリルニトロフェニルエーテルに
対して金属として0.05〜10モル%であり、通常、金属の
状態で使用する場合は1〜10モル%、担体に担持させた
場合では0.05〜5モル%の範囲であり、好ましくは0.05
〜1モル%で十分である。
三価のホスフィン化合物としては、トリエチルホスフィ
ン、トリイソプロピルホスフィン、トリ−n−ブチルホ
スフィンなどのトリアルキルホスフィン、トリシクロヘ
キシホスフィンなどのトリシクロアルキルホスフィン、
トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリ
(p−クロロフェニル)ホスフィンなどのトリアリール
ホスフィン、トリベンジルホスフィンなどのトリアラル
キルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィン)
エタンなどのメチレン鎖で架橋したホスフィンなどが使
用される。
使用量は特に限定されないが、通常、使用するPd触媒の
3〜20倍モル量で十分である。
また、塩基としては、C1〜C9アルキル基を有する脂肪族
アミン類、芳香族アミン類、C1〜C5の脂肪族のアンモニ
ウム塩、脂肪族アミン塩、芳香族アミン塩、フェノール
類のアルカリ金属塩などが使用される。具体的には、メ
チルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピ
ルアミン、ブチルアミン、ジペンチルアミン、ヘキシル
アミン、ノニルアミン、アニリン、ピリジン、トルイジ
ン、アニシジン、ピペラジン、シクロヘキシルアミン、
モルホリン、ピペリジン、アンモニウム・アセテート、
アンモニウム・プロピオネート、アンモニウム・ブチレ
ート、トリエチルアンモニウム・アセテート、イソプロ
ピルアンモニウム・アセテート、アニリニウム・アセテ
ート、ピリジニウム・アセテート、フェノールのナトリ
ウム塩、クレゾールのカリウム塩などが挙げられる。
これは単独は勿論、2種類以上を併用しても何らさしつ
かえはない。
塩基の使用量は上限に関して特に制限はないが、通常原
料のアリルニトロフェニルエーテル類に対して1〜5倍
モルあればよく、好ましくは1〜3倍モルで十分であ
る。
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に限
定されるものでなく、例えば、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール等のアルコール類、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のグリコール
類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチ
ルセロソルブ、ジグライム等のエーテル類、ヘキサン、
シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリク
ロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水
素類およびN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等が使用できる。なお、水と混和しない反応溶
媒を使用した際に、反応の進行が遅い場合は四級アンモ
ニウム塩、四級ホスホニウム塩のような一般に使用され
ている相間移動触媒を加えることによって速めることが
できる。溶媒の使用量は、原料を懸濁させるかあるいは
完全に溶解させるに足る量で十分であり特に限定されな
いが、通常、原料に対して0.5〜10重量倍で十分であ
る。
反応温度は特に限定はないが、通常、20〜200℃の範囲
である。
反応時間も特に限定はなく、通常30分〜10時間の範囲で
ある。
反応圧力は、特に制限はなく、常圧で十分である。反応
の実施態様は特に限定されるものではないが、通常、Pd
触媒および3価ホスフィン触媒を溶媒に懸濁させた状態
下に原料と塩基を加え、ついで撹拌下に所定の温度で反
応を行なう。
反応の終点は薄層クロマトグラフィーまたは液体クロマ
トグラフィーによって決定する。
反応終了後、反応液を過して触媒を除去し、溶媒を留
去後、減圧蒸留すると目的とするニトロフェノールが高
純度、高収率で得られる。回収したPd触媒は、そのまま
の状態で再使用することができる。
(作用および効果) 本発明の方法によれば、アリルニトロフェニルエーテル
を触媒量の不均一系Pd触媒および触媒量の3価のホスフ
ィン化合物の存在下、塩基を用いて解裂することにより
ニトロフェノールを高純度かつ、高収率で製造できる。
また、本発明の方法は、工業的製造が困難であったm−
ニトロフェノールを従来の製造方法にくらべて複雑な工
程の必要もなく安価に製造でき、しかも回収したPd触媒
は再使用できるという点でも工業的に極めて優れた方法
である。
(実施例) 以下、本発明の方法を実施例で更に具体的に説明する。
実施例1 5%Pd/C(日本エンゲルハルト社製)595mg(0.28mmo
l)をテトラヒドロフラン50mlに懸濁し、更にトリフェ
ニルホスフィン735mg(2.8mmol)、アリル−m−ニトロ
フェニルエーテル10g(0.056mol)および46%メチルア
ミン水溶液1.75g(0.112mol)を加えて溶解し、64℃で
役1時間撹拌する。液体クロマトグラフィーによるm−
ニトロフェノールの収率は97%であった。
過、THFで洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮して得られる黄褐色オイルを減圧蒸留すると、m−ニ
トロフェノールが黄色オイルとして得られ、このものは
すぐ結晶化した。
収量6.2g収率80%、bp125〜127゜/3mmHg、mp94〜96℃、
黄色結晶。
実施例2 原料としてアリルo−ニトロフェニルエーテルを用いた
以外は実施例1と全く同様の操作を行ない、o−ニトロ
フェノールを得た。収量6.5g収率83%、bp94〜96゜/20m
mHg、mp44〜45℃。
実施例3 原料としてアリルp−ニトロフェニルエーテルを用いた
以外は実施例1と全く同様の操作を行ない、p−ニトロ
フェノールを得た。収量6.0g、収率77%、mp112〜114
℃。
実施例4〜10 原料としてアリルm−ニトロフェニルエーテルを用い、
条件を変えて反応を行なった結果を表に示す。この際、
反応のスケールを1/5倍量とし、溶媒を20ml用いた以外
は、アリルm−ニトロフェニルエーテル、Pd触媒、3価
のホスフィン化合物および塩基のモル比は実施例1と全
く同様であり、収率は液体クロマトグラフィーより求め
た。
比較例1 10%Pd/C(日本エンゲルハルト社製)100mg(0.1mmol)
をジオキサン25m/水5mlに懸濁させ、更に35%過塩素酸
0.11m、アリルm−ニトロフェニルエーテルを1g(0.005
6モル)加えて溶解し、88℃で18時間撹拌した。液体ク
ロマトグラフィーによるm−ニトロフェノールの収率は
5%であった。
比較例2 溶媒としてメタノールを、酸としてp−トルエンスルホ
ン酸0.1gを用い、反応時間を8時間とした以外は比較例
1と同様に反応を行なった。液体クロマトグラフィーに
よるm−ニトロフェノールの収率は10%であった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】アリルニトロフェニルエーテルを触媒量の
    不均一系Pd触媒および触媒量の3価のホスフィン化合物
    の存在下に塩基を用いて解裂することを特徴とするニト
    ロフェノールの製造方法。
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JP6623042B2 (ja) 2015-11-24 2019-12-18 公益財団法人微生物化学研究会 触媒、及びその製造方法、並びに光学活性アンチ−1,2−ニトロアルカノール化合物の製造方法

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