JPH07107596A - 超音波プローブ、これに使用される電気歪トランスデューサ及び超音波プローブの動作温度範囲拡大方法 - Google Patents

超音波プローブ、これに使用される電気歪トランスデューサ及び超音波プローブの動作温度範囲拡大方法

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JPH07107596A
JPH07107596A JP6214268A JP21426894A JPH07107596A JP H07107596 A JPH07107596 A JP H07107596A JP 6214268 A JP6214268 A JP 6214268A JP 21426894 A JP21426894 A JP 21426894A JP H07107596 A JPH07107596 A JP H07107596A
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Turuvekere R Gururaja
アール グルラジャ ツルベカー
Joseph Fielding
フィールディング ジョセフ
Thomas R Shrout
アール シュラウト トーマス
Sei-Joo Jang
ジャング セイ−ジョー
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    • B06GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS IN GENERAL
    • B06BMETHODS OR APPARATUS FOR GENERATING OR TRANSMITTING MECHANICAL VIBRATIONS OF INFRASONIC, SONIC, OR ULTRASONIC FREQUENCY, e.g. FOR PERFORMING MECHANICAL WORK IN GENERAL
    • B06B1/00Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency
    • B06B1/02Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy
    • B06B1/06Methods or apparatus for generating mechanical vibrations of infrasonic, sonic, or ultrasonic frequency making use of electrical energy operating with piezoelectric effect or with electrostriction
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N30/00Piezoelectric or electrostrictive devices
    • H10N30/80Constructional details
    • H10N30/85Piezoelectric or electrostrictive active materials
    • H10N30/853Ceramic compositions
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
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    • H04R17/04Gramophone pick-ups using a stylus; Recorders using a stylus
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Abstract

(57)【要約】(修正有) 【目的】 室温付近の拡大された動作温度範囲をもたら
す強誘電性固溶体で作られた超音波トランスデューサ、
これを使用する超音波プローブ、該超音波プローブの動
作温度範囲拡大方法の提供。 【構成】 トランスデューサが、式Iに表されるLaド
ープのニオブ酸マグネシウム鉛とチタン酸鉛との固溶体
を主成分とする材料から製造され;トランスデューサ
が、拡大された動作温度範囲を与える。 前記トランスデューサは支持体層9上に付着された少な
くとも1つの電気歪トランスデューサ素子7からなり、
該素子は該素子内に電界を選択的に生じさせるための電
源に接続される電気接点を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、超音波トランスデュー
サに関し、特に、好ましくは室温付近の拡大された動作
温度範囲をもたらす、リラクサー(relaxor)強
誘電性固溶体で作られた超音波トランスデューサと、こ
れを使用する超音波プローブと、該超音波プローブの動
作温度範囲拡大方法とに関する。
【0002】
【技術背景】超音波を送信及び受信する超音波トランス
デューサは、物体の内部を人間が非侵略的(nonin
vasive)に見ることを可能にする。これらの超音
波トランスデューサには様々な用途があるが、主とし
て、医療診断道具として、人体の超音波撮像に使用され
る。
【0003】超音波トランスデューサは、電気的エネル
ギーを機械的エネルギーに変換する(即ち、トランスデ
ューサに印加される電気信号が、人体内に送り込まれる
機械的音波を発生させる)ために、及び、これとは反対
に、機械的エネルギーを電気的エネルギーに逆に変換す
る(即ち、内部器官から反射した音波が、電気信号に逆
に変換され、撮像装置に送られる)ために、圧電特性を
利用する。このエネルギー変換をトランスデューサがよ
り効率的に行えば行うほど、上記電気信号が強くなる。
トランスデューサ材料の強度と感度の2つの重要な尺度
は、電気機械結合ファクター(electromech
anical coupling factor)k
と誘電率Kである。
【0004】医療用超音波撮像における別の重要なファ
クターは、動作温度範囲全体に亙っての応答の安定性と
再現性である。医療用トランスデューサは、室温(即
ち、約25℃)において動作するよう意図されている。
しかし、実際には室内の温度はこれよりも遥かに低い場
合(例えば15℃以下)もあり、また、通常の使用の間
にプローブが更に遥かに高い温度(例えば40℃以上)
に温度上昇する可能性もある。温度の影響を受ける電気
機械的特性を有する材料でトランスデューサが作られて
いるので、こうした温度変動はトランスデューサ出力に
対して大きな影響を与える可能性がある。
【0005】医療用途のための超音波トランスデューサ
は、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)セラミックスのよ
うな圧電材料から製造されてきた。更には、直流バイア
ス電圧の印加によって高度に分極させられ、且つ圧電特
性を示すことが可能な材料から、トランスデューサを製
造することも知られている。この材料は、直流バイアス
電圧の除去時には、その分極状態を失い、圧電特性を示
さなくなる。直流バイアス電圧の有無によって圧電効果
がオンオフされるという特性は、好ましくはその材料の
「強誘電性から常誘電性(paraelectrici
ty)への」相転移温度に近い温度に維持された材料に
おいて観察されることが可能である。その強誘電性相は
圧電特性を示すが、一方、常誘電性相は圧電特性を示さ
ない。上記の直流バイアス電圧依存特性を有する材料
は、本明細書では「電気歪(electorostri
ctive)」材料と呼ばれる。
【0006】従来の超音波トランスデューサは、印加直
流バイアスが除去された後に残留分極を示す圧電材料を
使用する。従って、このトランスデューサの圧電作用と
従って感度とが一定であり、温度変化に応じて容易に変
化することはない。しかし、電気歪材料を使用すること
によって、例えば、超音波ビーム走査がX方向に電子的
に行われ且つバイアス電圧によってY方向に制御される
可変アパーチャ形プローブのような用途に対してトラン
スデューサを適したものにする、制御可能な感度を有す
るトランスデューサを提供することが可能である。別の
用途は、例えば、交差アレイ電極タイプ2Dプローブ
(crossed−array electrode
type 2D probe)のような2次元アレイで
あり、この2次元アレイでは、圧電活性領域(piez
o−active region)が、直流バイアス電
界のスイッチングによって空間的及び時間的に選択され
ることが可能であり、この選択された領域が受動ポリマ
ー(passive polymer)によって機械的
に隔離される。
【0007】幾つかの材料グループが、電気歪トランス
デューサ用途に使用可能な候補材料として評価されてき
た。こうした材料の2つの例は、チタン酸鉛で変性され
たニオブ酸マグネシウム鉛(PMN−PT)と、チタン
酸ストロンチウムバリウム(BST)とを含む。これら
の個々の電気歪材料における分極と誘電率との温度依存
性が、図1と図2とに示されている。
【0008】BSTの温度依存特性が図1に示されてい
る。BSTは「通常の」強誘電性を有する材料であり、
即ち、その誘電極大温度Tmaxは分極消失温度T
実質的に一致する。従って、Tmaxを下回る温度にお
いて、BSTは、印加直流バイアスが取り除かれた後も
安定した残留分極を示す。こうした分極残留は、調節可
能な感度を有するトランスデューサを提供するという目
的の妨げとなる。Tmaxを上回る温度で動作するため
には、BSTは、必要な分極を実現するために比較的強
い電界を必要とし、従って、患者の安全を考慮してトラ
ンスデューサに印加される電界を最小化することが求め
られる実際の装置に使用されることは困難である。
【0009】別のタイプの電気歪材料は、例えば、PM
N−PTのような「リラクサー」強誘電性材料である。
このリラクサー強誘電性材料では、誘電極大温度T
maxは、分極消失温度Tよりも著しく高い。従っ
て、PMN−PTタイプの材料の動作温度範囲は、図2
に示されるように、TからTmaxまでの間である。
PMNは、拡散相転移を有するリラクサー材料であり、
拡大された誘電極大を生じさせる。通常の強誘電性材料
であるPTは、リラクサーPMNと共に固溶体を形成す
る。Tmaxを増大させるために、PTの量を増大する
ことが可能である。しかし、PT量の増大は、動作温度
範囲を拡大させずに、この動作温度範囲を単に上方にシ
フトさせるだけである。約90モル%のPMNと約10
モル%のPTとを含むPMN−PT固溶体を、室温を中
心として約25℃に亙る動作温度範囲(即ち、15℃の
と40℃のTmax)を有する超音波トランスデュ
ーサにおいて使用することが提案されている。しかし、
この動作温度範囲は、遥かに低い温度の室内での使用に
は十分でなく、あるいは、デバイスが温度上昇する時に
は十分でない。
【0010】
【発明の目的】本発明の目的は、拡大された動作温度範
囲を有し、且つ温度変化に伴った感度変動が比較的小さ
い、電気歪トランスデューサ材料を開発し、該材料によ
り製造されるトランデューサ、これを使用する超音波プ
ローブ、及び該超音波プローブの動作温度拡大方法を提
供することである。
【0011】
【発明の概要】超音波トランスデューサ用途に非常に適
した、室温付近の幅広い動作温度範囲を有する電気歪材
料が発見されている。この材料は、選択された一連のラ
ンタンドープ(dope)PMN−PT固溶体組成物を
含み、その結果として動作温度範囲が約48℃に有効に
2倍にされることが可能である。このランタンドープ
は、例えば室温(25℃)のような必要とされる動作温
度の各サイド(即ち、25℃より高温側と低温側)に十
分なマージンを与える。上記の選択された一連の組成物
は、電気歪トランスデューサの製造に使用される従来の
材料に比較して、温度に依存した感度変動の度合いが小
さいことを可能にする。
【0012】本発明の実施に使用するのに適した組成物
は、次の式Iによって示される、ランタンLaがドープ
された、ニオブ酸マグネシウム鉛(PMN)とチタン酸
鉛(PT)との固溶体を含む。
【0013】
【化4】
【0014】式I内のPMN:PTの比率を表すxを変
化させることによって、温度Tmaxの変化と、最適ラ
ンタンドープ量の変化とその結果としての動作温度範囲
の変化とが得られる。室温(即ち、約25℃)を中心と
する拡大された動作温度範囲を有するトランスデューサ
の場合には、好ましい組成物のグループが次の中から選
択される。
【0015】(a)yが約1モル%で、xが約12.5
〜17.5モル%である。 (b)yが約2モル%で、xが約17〜22モル%であ
る。 (c)yが約3モル%で、xが約23〜28モル%であ
る。
【0016】本明細書で説明される特定の好ましい組成
物の1つは、x=約15モル%のPTと、y=約1モル
%のLaとを含み、−7℃から41℃までの48℃に亙
る動作温度範囲を示す。
【0017】より低い温度限界を有する別の特定の好ま
しい組成物は、x=約13.5モル%のPTと、y=約
1モル%のLaとを含み、−15℃から31℃までの4
6℃に亙る動作温度範囲を示す。
【0018】より高い温度限界を有する更に別の特定の
好ましい組成物は、x=約17.5モル%のPTと、y
=約1モル%のLaとを含み、18℃から55℃までの
33℃に亙る動作温度範囲を示す。
【0019】本発明の別の側面において、電気歪トラン
スデューサの動作温度範囲を広げるための方法が提供さ
れ、この方法では、特定のトランスデューサ用途におい
て、拡大された動作温度範囲の下限と上限との組合せを
生じさせるために、PTのモル%とLaのモル%とが選
択される。
【0020】
【実施例】本発明によって、動作温度範囲が広く且つ温
度依存性が低減した超音波プローブの製造を可能にす
る、選択された一連のランタンドープPMN−PT固溶
体組成物を主成分とする電気歪材料が提供される。温度
依存性の問題を図示するために、図3〜図5は、PMN
−PT系の様々な特性の温度依存性を示す。
【0021】図3は、温度Tの変化に伴う誘電率Kの変
化を示す。Tmaxを中心とする比較的広い(拡散)ピ
ークをKが有することに留意されたい。
【0022】図4は、温度Tの変化に伴う、所与の直流
バイアス印加下における厚さ結合係数kの変化を示
す。この結合係数は、より低い温度では比較的一定であ
り、Tmax付近で急激に低下する。最適の結合効率と
最大の感度とを得るためには、Tmaxを下回る温度で
動作することが好ましいだろう。
【0023】図5は、温度に応じた残留分極Pを示
す。この残留分極は、Tにおいて急激に低下する。ヒ
ステリシスなしにオンオフ切り換えが行われることが可
能なトランスデューサを得るためには、残留分極がゼロ
であることが必要である。従って、電気歪トランスデュ
ーサにおいて調整可能な感度を使用するためには、T
を上回る温度で動作させることが必要だろう。
【0024】上記の考察から、電気歪材料における動作
温度範囲がTmaxとTの間であるということが明ら
かである。
【0025】図6は、「分極P」対「電界E」のグラフ
であり、上記動作温度において不要ヒステリシス(残留
分極)を有する材料を示す。電界が増大するにつれて、
ドメインが収束させられ、分極は、Psatにおいて飽
和するまで増大し続ける。電界が取り除かれる時には、
分極はゼロに戻らず、残留分極Pが残り、即ち、トラ
ンスデューサが完全にオフにされることは不可能であ
る。図6とは異なり、図7には、必要とされる非ヒステ
リシス特性が示されている。この図では、電界が取り除
かれる時に、分極がゼロに戻る。印加電界を変化させる
ことによって、分極に対する完全な制御(及び再現性)
が得られる。
【0026】上記材料が、(オンとオフとの間で、及
び、これらの間の可変的な振幅において)完全に制御可
能で且つ再現可能な分極を示す、動作温度範囲(T
max−T)を拡大することが望ましいだろう。P
のモル%を増大させることによって、Tmaxを上昇さ
せることが示唆されている。しかし、これは、動作温度
範囲を拡大せずに、動作温度範囲を単に上方にシフトさ
せるにすぎない。
【0027】本発明によって、電気歪超音波トランスデ
ューサの動作温度範囲が、ランタンドープPMN−PT
固溶体から上記トランスデューサを製造することによっ
て拡大可能であるということが発見されている。1つの
特定の実施例では、指定された動作温度範囲(即ち、T
max−T)の増大をもたらすために、表1〜表4に
示す通りの様々なPMN:PT組成物に1モル%のLa
が添加される。表1〜表4に示す通りの厚さ結合係数k
を、2つの印加電界強さ(5kV/cm及び10kV
/cm)と、3つの動作温度(0℃、25℃及び50
℃)とにおいて測定した。(印加電界がゼロである場合
の)残留結合ファクターktremも、飽和電界E
satと共に測定した。表1〜表4からのデータを図8
〜図10にグラフとして示した。
【0028】
【表1】
【0029】
【表2】
【0030】
【表3】
【0031】
【表4】
【0032】本発明の組成物e及びfが、上記の3つの
温度(0℃、25℃及び50℃)全てにおいてゼロの残
留分極を示した。組成物f(85%PMN、15%P
T、1%La)は、室温の各サイドに十分なマージン
(即ち、−7℃から41℃まで)を有する最も幅広い動
作温度範囲(48℃)を有した。組成物eは、最低のT
(−20℃)を有し、これと同時に、25℃を上回る
十分なマージンを有し、全体で44℃に亙る動作温度範
囲を有した。組成物gは、最高のTmax(55℃)を
有し、これと同時に、25℃を下回る温度において十分
なマージンを有し、全体で33℃に亙る動作温度範囲を
有した。
【0033】図8は、Laを含まない従来技術の組成物
の場合(曲線a、PMN:PT=90:10)と、本発
明の組成物の場合(曲線b、PMN:PT:La=8
5:15:1)とにおいて、(1KHzでの)Tmax
に対するPTモル%の影響を比較するものである。図に
示されるように、所与のTmaxの場合、最適PTモル
%は曲線aと曲線bとの間で相違している。
【0034】図9は、Laを含まない従来技術の組成物
の場合(曲線a、PMN:PT=90:10)と、本発
明の組成物の場合(曲線b、PMN:PT:La=8
5:15:1)とにおいて、動作温度範囲(Tmax
)に対するPTモル%の影響を比較するものであ
る。
【0035】図10は、上記と同一の従来技術の組成物
と本発明の組成物との場合(曲線a、曲線b)の、動作
温度範囲(Tmax−T)対Tmaxの関係を比較す
るものである。図に示される通り、50℃の所与のT
maxの場合には、本発明の組成物の動作温度範囲(曲
線b)は、従来技術の組成物の動作温度範囲(曲線a)
の場合よりも著しく広い。
【0036】図11は、直流バイアスの印加がある場合
と無い場合とにおける、上記と同一の従来技術のPMN
−PT組成物(PMN:PT=90:10)の、温度に
応じた感度の変化を示すグラフである。不要な残留感度
が約20℃まで存続する。更には、(直流バイアス印加
時に)温度に応じた大きな不要な感度変動が認められ
る。
【0037】図12は、室温付近において、本発明の好
ましい組成物(PMN:PT:La=85:15:1)
が、図11に示された組成物に比較して、著しい性能の
改善をもたらすことを示す。(直流バイアスの印加が無
い時の)残留感度は、より低い温度(約15℃)までし
か認められない。直流バイアスの印加がある場合の残留
感度のレベルは、0℃においてさえ非常に小さい。従来
技術の組成物の場合(図11)には、直流バイアス無し
の感度(残留感度)は、約13℃まで、直流バイアスの
印加がある場合の感度よりも高い。これとは対照的に、
本発明の組成物(図12)の場合には、(直流バイアス
印加下の)感度曲線は実質的に平坦であり、このこと
は、室温付近において、拡大された動作温度範囲全体に
亙って、より一層一定の相対パルス−エコー感度(re
lative pulse−echo sensiti
vity)が得られることを意味する。
【0038】これらの組成物は、N.Kim他の「ラン
タン変性ニオブ酸マグネシウム鉛−チタン酸鉛セラミッ
クスの誘電特性と圧電特性(Dielectric a
ndPiezoelectric Propertie
s of Lanthanum−Modified L
ead Magnesium Niobium−Lea
d Titanate Ceramics)」(Fer
roelectrics,1989,Vol.93,p
p.341〜349)に概ね説明されている。
【0039】本発明の他の好ましい組成物が、約10〜
30モル%のxと約0.5〜3モル%のyという望まし
い範囲内において、図13に示されている。これらの3
つの室温動作範囲組成物は、次の通りである。
【0040】(a)約1モル%のyと、約12.5〜1
7.5モル%のy; (b)約2モル%のyと、約17〜22モル%のy; (c)約3モル%のyと、約23〜28モル%のy;
【0041】図14は、本発明のトランスデューサ材料
を取り入れた、超音波エネルギーを送受信するための医
療用超音波撮像プローブ4の1つの実施例を示す。この
プローブは、比較的厚い、インピーダンス整合支持体層
(impedance−matching backi
ng layer)9、即ち、トランスデューサの感度
か、帯域幅か、あるいはパルス長を最適化するのに適し
た音響インピーダンスを有する減衰層(damping
layer)を有する。トランスデューサ7は、その
両側に導電接触層6,8を有し、この複合物が支持体層
9の上部表面上に装着される。バイアス電圧と励起電圧
とが、図示されるように、トランスデューサ層7を挟ん
で印加される。少なくとも1つのインピーダンス整合層
5がトランスデューサの上方に備えられてもよく、最後
に、音響ビームを集束させるためのレンズ10が層5の
上に装着されることが可能である。トランスデューサア
レイ内で発生させられる音響エネルギーは、インピーダ
ンス整合層5を通して伝送され、レンズ10によって集
束され、検査対象(即ち、人体)に送り込まれる。
【0042】あるいは、上記プローブは、個々の素子が
別々に電圧印加されることが可能であるように物理的に
分離された、支持体層上に配置された数10個から数1
00個のトランスデューサ素子のアレイを含むことも可
能である(図15)。この実施例では、互いに間隔を置
いた個々の並列のトランスデューサ素子20a等が、支
持体材料21と個々の音響整合層22a等との間に配置
される。指示された厚さ方向に極性を与えるために、共
通の電極23と複数の導線24a等とによって電界が印
加される。音響レンズ25が、音響整合層22の上に備
えられる。
【0043】このタイプのトランスデューサは、上記の
ような制御可能な感度を有する、プローブ以外の用途に
使用されることが可能である。他の用途は可変アパーチ
ャプローブ(variable aperture p
robe)としての使用を含み、例えば、バイアス電圧
によって超音波ビーム走査がX方向において電子的に行
われ、Y方向において制御される。別の用途は、例えば
十字形アレイ電極タイプの2Dプローブのような2次元
アレイであり、こうした2次元アレイでは、圧電活性領
域が直流バイアス電界スイッチングによって空間的且つ
時間的に選択されることが可能であり、選択された領域
が受動ポリマーによって機械的に隔絶される。例えば、
人体に対するトランスデューサからの音響エネルギーの
結合を改善するために、又は、アレイ形超音波トランス
デューサで使用される時に不要な横方向振動を減少させ
るために、本発明のランタンドープPMN−PT組成物
を(例えば、エポキシ又はポリウレタンのようなポリマ
ーと混合して)複合材料として使用することも望ましい
だろう。こうした複合物の構成の1つが図16(a)と
(b)とに示されており、この構成では、本発明のPM
N−PT組成物が、「PMN−PT棒:ポリマー」の比
率が1:3である複合物内の棒として備えられるか(図
16(a))、又は、「PMN−PT:ポリマー」の比
率が2:2である複合物内の層として備えられる(図1
6(b))。
【0044】現時点で本発明の好ましい実施例と考えら
れるものが示され説明されてきたが、特許請求の範囲で
定義される通りの本発明の範囲から逸脱することなし
に、様々な変更が上記実施例に加えられることが可能で
あるということが、当業者には明らかだろう。例えば、
上記の好ましい実施例は、室温(25℃)付近で動作さ
せられる電気歪超音波トランスデューサにおける安定性
の増大と温度変化に伴う感度変動の低減とに関するもの
であったが、PMNとPTとランタンとの比率を変化さ
せることによって、室温を上回る又は下回る動作温度に
関して、同様の利点が得られることが可能である。
【0045】以上のように、〔1〕本発明の超音波プロ
ーブは、超音波エネルギーを送受信するための電気歪ト
ランスデューサを有し、及び、該トランスデューサを電
源に接続するために該トランスデューサに取り付けられ
た、該トランスデューサに電界を選択的に印加するため
の電気接点を有しており、:該トランスデューサが、前
式Iによって表されるLaドープのPMNとPTとの固
溶体を主成分とする材料から製造され;該トランスデュ
ーサが、拡大された動作温度範囲を与える;ことを特徴
とし、次のように好ましい実施態様を有する。
【0046】〔2〕上記〔1〕において、トランスデュ
ーサが、室温を中心とする拡大された動作温度範囲を与
え、次のものを含むグループから選択される固溶体を含
む。 (a)約1モル%のy、約12.5〜17.5モル%の
x; (b)約2モル%のy、約17〜22モル%のx; (c)約3モル%のy、約23〜28モル%のx;
【0047】〔3〕上記〔2〕において、xが約15モ
ル%であり、yが約1モル%である。
【0048】〔4〕上記〔2〕において、xが約17.
5モル%であり、yが約1モル%である。
【0049】〔5〕上記〔2〕において、xが約13.
5モル%であり、yが約1モル%である。
【0050】〔6〕上記〔1〕において、トランスデュ
ーサが、ポリマーとPMN:PT:La固溶体との複合
物である。
【0051】また、〔7〕本発明の電気歪トランスデュ
ーサは、超音波エネルギーを送受信するためのものであ
って:支持体層と;該支持体層上に付着させられた少な
くとも1つの電気歪トランスデューサ素子と;該トラン
スデューサ素子内に電界を選択的に生じさせるために電
源に接続されることが可能な、該トランスデューサ素子
に取り付けられた電気接点とを備え;該トランスデュー
サが、前式Iによって表されるLaドープのPMNとP
Tとの固溶体を主成分とする材料から製造され;該トラ
ンスデューサが、拡大された動作温度範囲を与えること
を特徴とし、次のような好ましい実施態様を有する。
【0052】〔8〕上記〔7〕において、トランスデュ
ーサが、室温を中心とする拡大された動作温度範囲を与
え、次のものを含むグループから選択される固溶体を含
む。 (a)約1モル%のy、約12.5〜17.5モル%の
x; (b)約2モル%のy、約17〜22モル%のx; (c)約3モル%のy、約23〜28モル%のx;
【0053】
〔9〕上記〔8〕において、xが約13.
5〜17.5モル%であり、yが約1モル%である。
【0054】更に、〔10〕本発明の超音波プローブの
動作温度範囲拡大方法は、PMNとPTとの固溶体を主
成分とする、超音波エネルギーを送受信するための電気
歪トランスデューサと、該トランスデューサを電源に接
続するために該トランスデューサに取り付けられた、該
トランスデューサに電界を選択的に印加するための電気
接点とを与えるステップと;該動作温度範囲を拡大する
ために、前式Iに従って、該固溶体におけるPMNとP
Tとの相対モル%を選択し、1モル%のLaをドープす
るステップと;を含むことを特徴とし、次のような好ま
しい実施態様を有する。
【0055】〔11〕上記〔10〕において、トランス
デューサが、室温を中心とする拡大された動作温度範囲
を与え、次のものを含むグループから選択される固溶体
を含む。 (a)約1モル%のy、約12.5〜17.5モル%の
x; (b)約2モル%のy、約17〜22モル%のx; (c)約3モル%のy、約23〜28モル%のx;
【0056】〔12〕上記〔11〕において、xが約1
3.5〜17.5モル%であり、yが約1モル%であ
る。
【0057】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明では、動作
温度範囲が室温付近において低い温度(例えば15℃以
下)から高い温度(例えば40℃以上)まで拡大し、し
かも温度変化に伴った感度変動が比較的小さく、かつ印
加される電界を極めて小さくすることができる電気歪ト
ランスデューサ材料を提供し、この材料を使用すること
によって、拡大された動作温度範囲の全体に亙って出力
への影響がなく、従って応答の安定性と優れた再現性と
を得ることができると共に、印加電界を小さくすること
ができる電気歪トランスデューサと、該トランスデュー
サを使用した超音波プローブとを得ることができる。こ
のように、本発明によれば、人体の超音波撮像用等の医
療診断道具として、安定した診断結果をもたらすと共
に、患者に対して安全で、優れたプローブを提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】「通常の」強誘電性材料(BST)における残
留分極Pと誘電率Kとの温度依存態様を示すグラフで
ある。
【図2】「リラクサー」強誘電性材料(PMN−PT)
における残留分極Pと誘電率Kとの温度依存態様を示
すグラフである。
【図3】PMN−PTにおける「誘電率K」対「温度」
の関係を示すグラフである。
【図4】所与の直流バイアスの印加がある場合のPMN
−PTにおける「厚さ結合係数K」対「温度」の関係
を示すグラフである。
【図5】PMN−PTにおける「残留分極P」対「温
度」の関係を示すグラフである。
【図6】電界が取り除かれた時のPMN−PT中のヒス
テリシス(残留分極)を示すグラフである。
【図7】電界が取り除かれた時のPMN−PT中のヒス
テリシス(残留分極)が実質的に存在しない状態を示す
グラフである。
【図8】所与のTmax(例えば約40℃)を得る場合
の、1モル%のLaを含むPMN−PT系と、Laを含
まないPMN−PT系とにおける、1kHzで測定され
たTmaxの変化を示すグラフである(このグラフに示
される組成物(a)は90:10のPMN:PTを含む
組成物であり、組成物(b)は85:15のPMN:P
Tと1モル%のLaとを含む組成物である)。
【図9】1モル%のLaを含むPMN−PT系と、La
を含まないPMN−PT系とにおける、動作温度範囲
(Tmax−T)を示すグラフである。
【図10】所与のTmax(例えば約50℃)を得る際
に「Tmax−T」に大きな差があるということを示
す、1モル%のLaを含むPMN−PT系と、Laを含
まないPMN−PT系とにおける、「Tmax」対「T
max−T」の関係を示すグラフである。
【図11】直流バイアスが印加されている場合と印加さ
れていない場合とにおける、従来技術のPMN−PT組
成物に関する、温度に応じた感度の変化を示すグラフで
ある(残留感度が20℃まで存続することに留意された
い)。
【図12】直流バイアスが印加されている場合と印加さ
れていない場合とにおいて、本発明のPMN−PT組成
物では、温度に応じた感度の変化が著しく少ないという
ことを示すグラフである(直流バイアス印加なしの残留
感度がより低い温度に移行させられるということに留意
されたい)。
【図13】本発明による一連の好ましいPMN−PT組
成物の組成を示すグラフである。
【図14】本発明のPMN−PT組成物を組み込んだ超
音波プローブの断面図である。
【図15】本発明のPMN−PT組成物から作られたト
ランスデューサ素子のアレイを有する超音波プローブの
斜視図である。
【図16】本発明のPMN−PT組成物から作られた複
合物の略図であり、(a)が「PMN−PT棒:ポリマ
ー」の比率が1:3である複合物を示し、(b)が「P
MN−PT:ポリマー」の比率が2:2である複合物を
示している。
【符号の説明】
4 医療用超音波撮像プローブ 5 インピーダンス整合層 6,8 導電接触層 7 トランスデューサ層 9 インピーダンス整合支持体層 10 レンズ 20a,20b,・・・ トランスデューサ素子 21 支持体材料 22a,22b,・・・ 音響整合層 23 共通電極 24a,24b,・・・ 導線 25 レンズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス アール シュラウト アメリカ合衆国ペンシルバニア州ステイ ト・カレッジ エルムウッド・ストリート 834 (72)発明者 セイ−ジョー ジャング アメリカ合衆国ペンシルバニア州ステイ ト・カレッジ キャメロット・レーン 220

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 超音波エネルギーを送受信するための電
    気歪トランスデューサを有し、及び、前記トランスデュ
    ーサを電源に接続するために前記トランスデューサに取
    り付けられた、前記トランスデューサに電界を選択的に
    印加するための電気接点を有する、超音波プローブにお
    いて:前記トランスデューサが、次式Iによって表され
    る、ランタンLaをドープされた、ニオブ酸マグネシウ
    ム鉛(PMN)とチタン酸鉛(PT)との固溶体を主成
    分とする材料から製造され; 【化1】 前記トランスデューサが、拡大された動作温度範囲を与
    える;ことを特徴とする超音波プローブ。
  2. 【請求項2】 超音波エネルギーを送受信するための電
    気歪トランスデューサであって:支持体層と;前記支持
    体層上に付着させられた少なくとも1つの電気歪トラン
    スデューサ素子と;前記トランスデューサ素子内に電界
    を選択的に生じさせるために電源に接続されることが可
    能な、前記トランスデューサ素子に取り付けられた電気
    接点とを備え;前記トランスデューサが、次式Iによっ
    て表される、ランタンLaをドープされた、ニオブ酸マ
    グネシウム鉛(PMN)とチタン酸鉛(PT)との固溶
    体を主成分とする材料から製造され; 【化2】 前記トランスデューサが、拡大された動作温度範囲を与
    える;ことを特徴とする電気歪トランスデューサ。
  3. 【請求項3】 超音波プローブの動作温度範囲を拡大す
    るための方法であって:ニオブ酸マグネシウム鉛(PM
    N)とチタン酸鉛(PT)との固溶体を主成分とする、
    超音波エネルギーを送受信するための電気歪トランスデ
    ューサと、前記トランスデューサを電源に接続するため
    に前記トランスデューサに取り付けられた、前記トラン
    スデューサに電界を選択的に印加するための電気接点と
    を与えるステップと;前記動作温度範囲を拡大するため
    に、次式Iに従って、前記固溶体におけるPMNとPT
    との相対モル%を選択し、1モル%のランタンをドープ
    するステップと; 【化3】 を含むことを特徴とする動作温度範囲拡大方法。
JP6214268A 1993-08-27 1994-08-15 超音波プローブ、これに使用される電気歪トランスデューサ及び超音波プローブの動作温度範囲拡大方法 Pending JPH07107596A (ja)

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