JPH07102381A - メッキ槽内のメッキ屑除去方法 - Google Patents
メッキ槽内のメッキ屑除去方法Info
- Publication number
- JPH07102381A JPH07102381A JP26554393A JP26554393A JPH07102381A JP H07102381 A JPH07102381 A JP H07102381A JP 26554393 A JP26554393 A JP 26554393A JP 26554393 A JP26554393 A JP 26554393A JP H07102381 A JPH07102381 A JP H07102381A
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- JP
- Japan
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- plating
- scrap
- tank
- soln
- plating tank
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/18—Acidic compositions for etching copper or alloys thereof
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 無電解メッキに用いるメッキ槽の内部に折出
したメッキ屑を掃除するメッキ屑除去方法を提供する。 【構成】 銅、ニッケル等を溶解することの出来るＰＨ
２以下の硫酸酸性の過硫酸アンモニウムの水溶液を槽内
へ入れ、加温し、空気を吹き込みつつ攪拌する。
したメッキ屑を掃除するメッキ屑除去方法を提供する。 【構成】 銅、ニッケル等を溶解することの出来るＰＨ
２以下の硫酸酸性の過硫酸アンモニウムの水溶液を槽内
へ入れ、加温し、空気を吹き込みつつ攪拌する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、無電解メッキに用いる
メッキ槽の内部に折出したメッキ屑を掃除するメッキ屑
除去方法に関するものである。
メッキ槽の内部に折出したメッキ屑を掃除するメッキ屑
除去方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】金属のように導電性材料に電解メッキ法
でメッキを施す場合は、メッキ槽の内面に不要のメッキ
屑は殆ど折出が認められない。これに比べ、非導電性材
料に金属メッキ膜を施すことの出来る無電解メッキ法の
場合は、メッキ屑の折出がしばしば認められる。
でメッキを施す場合は、メッキ槽の内面に不要のメッキ
屑は殆ど折出が認められない。これに比べ、非導電性材
料に金属メッキ膜を施すことの出来る無電解メッキ法の
場合は、メッキ屑の折出がしばしば認められる。
【０００３】無電解メッキ法は、被メッキ物に付与した
メッキ触媒が微量ながらメッキ液中に脱落し、これが核
になってメッキ反応が進行し、槽壁又は、槽内に備えら
れた案内ロール、枠等のメッキ不要の個所にも金属メッ
キ膜が折出する。このように、折出した銅、ニッケル等
のメッキ屑は、作業者がブラシ等で剥離後、濃硝酸又は
濃塩酸をメッキ槽に注入して、溶解除去を行っていた。
メッキ触媒が微量ながらメッキ液中に脱落し、これが核
になってメッキ反応が進行し、槽壁又は、槽内に備えら
れた案内ロール、枠等のメッキ不要の個所にも金属メッ
キ膜が折出する。このように、折出した銅、ニッケル等
のメッキ屑は、作業者がブラシ等で剥離後、濃硝酸又は
濃塩酸をメッキ槽に注入して、溶解除去を行っていた。
【０００４】銅，ニッケル等のメッキ屑が濃硝酸又は濃
塩酸に溶解する際は、刺激臭のある毒性の褐色煙が発生
するので、メッキ槽を屋外の通風のよい場所まで搬出し
て作業する必要があった。上記のように、メッキ屑の除
去は複数人の作業者を必要とし、その上作業環境上も好
ましくなかった。
塩酸に溶解する際は、刺激臭のある毒性の褐色煙が発生
するので、メッキ槽を屋外の通風のよい場所まで搬出し
て作業する必要があった。上記のように、メッキ屑の除
去は複数人の作業者を必要とし、その上作業環境上も好
ましくなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の欠点
のない、メッキ槽内に折出した金属メッキ屑を簡単に溶
解除去する方法を提供することを目的とする。
のない、メッキ槽内に折出した金属メッキ屑を簡単に溶
解除去する方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】メッキ作業が終了後、槽
内のメッキ液を排出し、槽内壁、案内ロール等の表面に
折出した金属屑を除去する。そのため、予め用意した
銅、ニッケル等を溶解することの出来るＰＨ２以下の硫
酸酸性の過硫酸アンモニウムの５〜１５重量％水溶液を
槽内へポンプで送液する。
内のメッキ液を排出し、槽内壁、案内ロール等の表面に
折出した金属屑を除去する。そのため、予め用意した
銅、ニッケル等を溶解することの出来るＰＨ２以下の硫
酸酸性の過硫酸アンモニウムの５〜１５重量％水溶液を
槽内へポンプで送液する。
【０００７】次に、液温を２０〜５０℃、好しくは３０
〜４０℃に加温維持し、更に液中に空気を吹き込みつつ
攪拌し、溶解を促進させる。２０℃以下では金属屑の溶
解速度が遅くて掃除に長時間を要する。５０℃以上では
過硫酸アンモニウム液の作用が強くメッキ槽の表面を侵
触する恐れがある。吹き込み空気量はメッキ槽の大きさ
により違ってくるので、適宜調整する。
〜４０℃に加温維持し、更に液中に空気を吹き込みつつ
攪拌し、溶解を促進させる。２０℃以下では金属屑の溶
解速度が遅くて掃除に長時間を要する。５０℃以上では
過硫酸アンモニウム液の作用が強くメッキ槽の表面を侵
触する恐れがある。吹き込み空気量はメッキ槽の大きさ
により違ってくるので、適宜調整する。
【０００８】
【作用】本発明は上記のように予め用意したＰＨ２以下
の硫酸酸性下で、過硫酸アンモニウムを５〜１５重量％
溶解した水溶液をメッキ屑の折出したメッキ槽に入れ、
２０〜５０℃に維持しながら空気を吹き込むことにより
メッキ槽壁、付属ローラーの表面等に折出したメッキ屑
を容易に溶解除去することができる。更に、本発明の方
法において、溶解に使用した過硫酸アンモニウム溶液及
び硫酸は、不揮発性のためガスの発生は認められない。
又、過硫酸アンモニウム溶液は繰返して使用出来る。
の硫酸酸性下で、過硫酸アンモニウムを５〜１５重量％
溶解した水溶液をメッキ屑の折出したメッキ槽に入れ、
２０〜５０℃に維持しながら空気を吹き込むことにより
メッキ槽壁、付属ローラーの表面等に折出したメッキ屑
を容易に溶解除去することができる。更に、本発明の方
法において、溶解に使用した過硫酸アンモニウム溶液及
び硫酸は、不揮発性のためガスの発生は認められない。
又、過硫酸アンモニウム溶液は繰返して使用出来る。
【０００９】
【実施例】次に、実施例を揚げて本発明の方法を具体的
に説明する。 実施例−１ 銅２．５ｇ／ｌ、ホルマリン０．０５ｇ／ｌ及びロッシ
ェル塩６．５ｇ／ｌを含み、且つ苛性ソーダでＰＨ１
２．８、温度３８℃に調整したメッキ液に、予めパラジ
ウム触媒を付与したポリエステル織物を５分間浸漬後取
り出した。更に、新しく用意したポリエステル織物への
メッキを繰返し行った。
に説明する。 実施例−１ 銅２．５ｇ／ｌ、ホルマリン０．０５ｇ／ｌ及びロッシ
ェル塩６．５ｇ／ｌを含み、且つ苛性ソーダでＰＨ１
２．８、温度３８℃に調整したメッキ液に、予めパラジ
ウム触媒を付与したポリエステル織物を５分間浸漬後取
り出した。更に、新しく用意したポリエステル織物への
メッキを繰返し行った。
【００１０】５枚目の被メッキ物を取り出してからメッ
キ液を排出した結果、槽内部に銅メッキ屑が折出してい
た。１０重量％過硫酸アンモニウムが溶存し、硫酸でＰ
Ｈ１に調整した水溶液をメッキ槽に入れ、３５℃に維持
しながら空気を１００ｍｌ／分吹込んで攪拌を行なっ
た。３０分後には、銅メッキ屑は完全に溶解した。
キ液を排出した結果、槽内部に銅メッキ屑が折出してい
た。１０重量％過硫酸アンモニウムが溶存し、硫酸でＰ
Ｈ１に調整した水溶液をメッキ槽に入れ、３５℃に維持
しながら空気を１００ｍｌ／分吹込んで攪拌を行なっ
た。３０分後には、銅メッキ屑は完全に溶解した。
【００１１】実施例−２ ニッケル４．８ｇ／ｌ、水酸化アンモニウム０．１５ｇ
／ｌ及びＥＤＴＡ３．０ｇ／ｌを含むＰＨ９．５、温度
４０℃に調整したメッキ液に、予めパラジウム触媒を付
与したポリエステル紗を浸漬して、７分間メッキ後取り
出した。更に、新しく用意したポリエステル紗へのメッ
キを繰返し行った。
／ｌ及びＥＤＴＡ３．０ｇ／ｌを含むＰＨ９．５、温度
４０℃に調整したメッキ液に、予めパラジウム触媒を付
与したポリエステル紗を浸漬して、７分間メッキ後取り
出した。更に、新しく用意したポリエステル紗へのメッ
キを繰返し行った。
【００１２】５枚目の被メッキ物を液から取り出しメッ
キ液を槽から排出した結果、メッキ槽内にニッケル屑が
折出していた。１２重量％過硫酸アンモニウムが溶存
し、硫酸でＰＨ２に調整した水溶液をメッキ槽に入れ、
４０℃に維持しながら空気を３００ｍｌ／分吹込んで攪
拌を行った。９０分後には、ニッケルメッキ屑は完全に
溶解した。
キ液を槽から排出した結果、メッキ槽内にニッケル屑が
折出していた。１２重量％過硫酸アンモニウムが溶存
し、硫酸でＰＨ２に調整した水溶液をメッキ槽に入れ、
４０℃に維持しながら空気を３００ｍｌ／分吹込んで攪
拌を行った。９０分後には、ニッケルメッキ屑は完全に
溶解した。
【００１３】比較例−１ 実施例−２のニッケルメッキ液と同じ組式で、ポリエス
テル紗を５枚繰返しメッキ後、メッキ液を槽から排出し
た。メッキ槽内にはニッケル屑が折出していた。１２重
量％過硫酸アンモニウムが溶存し、硫酸でＰＨ１に調整
した水溶液をメッキ槽に入れ、４０℃に維持して２０時
間静置したがニッケルメッキ屑は完全には溶解しなかっ
た。
テル紗を５枚繰返しメッキ後、メッキ液を槽から排出し
た。メッキ槽内にはニッケル屑が折出していた。１２重
量％過硫酸アンモニウムが溶存し、硫酸でＰＨ１に調整
した水溶液をメッキ槽に入れ、４０℃に維持して２０時
間静置したがニッケルメッキ屑は完全には溶解しなかっ
た。
【００１４】比較例−２ 実施例−２と同じ組式のメッキ液にポリエステル紗を５
枚繰返しメッキ後、メッキ液を槽から排出した。メッキ
槽内には、ニッケル屑が折出していた。１２％過硫酸ア
ンモニウムが溶存した液を入れ、４０℃に維持しながら
１５０ｍｌ／分空気を吹込んで６時間攪拌を行ったが、
ニッケルメッキ屑は完全には溶解しなかった。ＰＨは
３．５であった。
枚繰返しメッキ後、メッキ液を槽から排出した。メッキ
槽内には、ニッケル屑が折出していた。１２％過硫酸ア
ンモニウムが溶存した液を入れ、４０℃に維持しながら
１５０ｍｌ／分空気を吹込んで６時間攪拌を行ったが、
ニッケルメッキ屑は完全には溶解しなかった。ＰＨは
３．５であった。
【００１５】
【発明の効果】本発明は上記のように、メッキ槽内の側
壁、底面、付属ローラー等の表面に折出した金属メッキ
屑を容易に溶解除去することができ、掃除に要する人手
及び時間が大巾に減り、又有害ガスの発生がないので槽
を屋外へ搬出する必要がない等、作業環境が改善され
る。更に、過硫酸アンモニウム水溶液はＰＨを調整すれ
ば繰返し使用出来るため、経済性にも優れている。
壁、底面、付属ローラー等の表面に折出した金属メッキ
屑を容易に溶解除去することができ、掃除に要する人手
及び時間が大巾に減り、又有害ガスの発生がないので槽
を屋外へ搬出する必要がない等、作業環境が改善され
る。更に、過硫酸アンモニウム水溶液はＰＨを調整すれ
ば繰返し使用出来るため、経済性にも優れている。
Claims (1)
- 【請求項１】 硫酸でＰＨ２以下に維持した、過硫酸ア
ンモニウムの５〜１５重量％水溶液に空気を吹き込みメ
ッキ槽内のメッキ屑を除去する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26554393A JPH07102381A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | メッキ槽内のメッキ屑除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26554393A JPH07102381A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | メッキ槽内のメッキ屑除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07102381A true JPH07102381A (ja) | 1995-04-18 |
Family
ID=17418586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26554393A Pending JPH07102381A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | メッキ槽内のメッキ屑除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07102381A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2287361A1 (en) * | 2009-06-18 | 2011-02-23 | United Technologies Corporation | Recast removal method |
| US8236190B2 (en) | 2008-06-13 | 2012-08-07 | United Technologies Corporation | Recast removal method |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP26554393A patent/JPH07102381A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8236190B2 (en) | 2008-06-13 | 2012-08-07 | United Technologies Corporation | Recast removal method |
| EP2287361A1 (en) * | 2009-06-18 | 2011-02-23 | United Technologies Corporation | Recast removal method |
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