JPH0699147A - 電子部品又は精密部品類の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被洗浄物を破損することなく、簡便にかつ短
時間で効率よく複数の被洗浄物を洗浄することが可能な
電子部品又は精密部品類の洗浄方法を提供すること。 【構成】 本発明の電子部品又は精密部品類の洗浄方法
は、洗浄液による一回以上の洗浄工程及び／又はすすぎ
液による一回以上のすすぎ工程を有する、電子部品又は
精密部品類の洗浄方法において、上記洗浄液又は上記す
すぎ液を仕込んだ洗浄槽に、被洗浄物保持治具を装備し
た回転軸を上記洗浄槽中の液相に対して略水平に配設
し、被洗浄物を上記被洗浄物保持治具により保持し、該
被洗浄物を、上記回転軸を回転させることにより上記液
相中と気相中とを交互に通過させて洗浄することを特徴
とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電子部品又は精密部品
類の洗浄方法、詳しくは、油脂、機械油、切削油、グリ
ース、液晶及びフラックス等の汚染物質が付着した電子
部品又は精密部品類の洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
精密部品又は治工具類等の固体表面に存在する、油脂、
機械油、切削油、グリース、液晶及びフラックス等の有
機物を主体とする汚れの除去には、ケロシン、ベンゼ
ン、キシレン等の炭化水素系溶剤；トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素系溶剤；トリクロロ
トリフルオロエタン等のフロン系溶剤；界面活性剤やビ
ルダーを配合した水系の洗浄液等が使用されている。特
に、電子、電気、機械等の部品には、その高洗浄性、難
燃性という特性を生かしてフロン系溶剤又は塩素系溶剤
が使用されてきた。

【０００３】しかしながら、上記塩素系溶剤及びフロン
系溶剤を用いる洗浄液は、安全性、毒性、環境汚染性等
に大きな問題を有していることが明らかにされ、国際レ
ベルでその廃止が進められている。

【０００４】この様な背景から塩素系溶剤やフロン系溶
剤に替わる洗浄液として、テルペン系溶剤、炭化水素系
溶剤、アルコール系溶剤等の溶剤系代替洗浄液や界面活
性剤等を含有する水系の洗浄液が開発され、これらの洗
浄液を用いた洗浄方法は、通常、被洗浄物を洗浄液中に
浸漬すること又はシャワーノズルを用いて洗浄液を被洗
浄物に噴射すること等による洗浄工程とこれらの洗浄工
程と同様にして実施されるすすぎ工程とを有する。

【０００５】上記の被洗浄物を洗浄液中に浸漬すること
による洗浄工程又はすすぎ工程において適用される洗浄
方法としては、超音波振動法、揺動法、液中シャワー法
及び液中回転法等が挙げられる。また、シャワーノズル
を用いて洗浄液又はすすぎ液を被洗浄物に噴射すること
等による洗浄工程又はすすぎ工程において適用される洗
浄方法としては、シャワーノズルとして回転ノズルを用
いる方法及び被洗浄物を回転させながら洗浄液又はすす
ぎ液を被洗浄物に噴射する方法等が挙げられる。

【０００６】しかし、上記超音波振動法は、被洗浄物自
体が破損する場合があるという問題があり、上記揺動
法、上記液中シャワー法、及び上記シャワーノズルを用
いて洗浄液を被洗浄物に噴射すること等による方法は、
被洗浄物が単数の場合には効果的であるが、治具に複数
の被洗浄物がセットされた場合には全ての被洗浄物を効
率よく均一に洗浄することが困難となるという問題があ
った。また、上記液中回転法（実開昭６１−１０９１３
６号公報参照）は、上記の問題を解決する比較的良好な
手段であるが、この場合にも治具に複数の被洗浄物がセ
ットされた場合には被洗浄物間の液が共回りすることに
よって被洗浄物周辺の液の更新が行われ難いため、洗浄
性が低下するという問題があった。

【０００７】従って、本発明の目的は、被洗浄物を破損
することなく、簡便にかつ短時間で効率よく複数の被洗
浄物を洗浄することが可能な電子部品又は精密部品類の
洗浄方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、被洗浄物を洗浄槽内の
液相（洗浄液又はすすぎ液）と気相とを交互に通過させ
るように回転させることにより、被洗浄物周辺の液の更
新が、確実に且つ効率よく行われ、複数の被洗浄物を効
率よく洗浄できることを知見した。

【０００９】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
ので、洗浄液による一回以上の洗浄工程及び／又はすす
ぎ液による一回以上のすすぎ工程を有する、電子部品又
は精密部品類の洗浄方法において、上記洗浄液又は上記
すすぎ液を仕込んだ洗浄槽に、被洗浄物保持治具を装備
した回転軸を上記洗浄槽中の液相に対して略水平に配設
し、被洗浄物を上記被洗浄物保持治具により保持し、該
被洗浄物を、上記回転軸を回転させることにより上記液
相中と気相中とを交互に通過させて洗浄することを特徴
とする電子部品又は精密部品類の洗浄方法を提供するも
のである。

【００１０】以下、本発明の洗浄方法について詳細に説
明する。本発明の洗浄方法における洗浄工程は、洗浄液
により洗浄を行う工程である。上記洗浄工程における洗
浄方法としては、特に限定はなく、浸漬法（被洗浄物を
洗浄槽に浸漬させる方法）、例えば、超音波法、揺動
法、液中シャワー法、液中回転法等が挙げられ、又、シ
ャワー法（シャワーノズルを用いて洗浄液を被洗浄物に
噴射する方法）、例えば、シャワーノズルとして回転ノ
ズルを用いる方法、被洗浄物を回転させながら洗浄液を
被洗浄物に噴射する方法等が挙げられ、該洗浄工程は適
宜これらを組み合わせて実施される。

【００１１】本発明の洗浄方法におけるすすぎ工程は、
すすぎ液により、被洗浄物表面に残留する洗浄液や汚染
物質等をすすぎ落とす工程である。上記すすぎ工程にお
けるすすぎ方法としては、特に限定はなく、上記洗浄工
程における洗浄方法と同様に、例えば、シャワー法、浸
漬法等が挙げられ、該すすぎ工程は、適宜これらを組み
合わせて実施される。

【００１２】本発明の洗浄方法の実施に用いられる洗浄
装置としては、上記洗浄液又は上記すすぎ液を仕込んだ
洗浄槽に、被洗浄物保持治具を装備した回転軸を上記洗
浄槽中の液相に対して略水平に配設した洗浄装置が挙げ
られる。

【００１３】上記洗浄槽としては、通常の浸漬法による
洗浄工程に用いられる洗浄槽が挙げられる。

【００１４】上記回転軸に装備される上記被洗浄物保持
治具としては、被洗浄物を保持し、被洗浄物を、上記回
転軸を回転させることにより上記液相中と気相中とを交
互に通過させて洗浄することを可能にするものであれ
ば、特に制限されないが、好ましいものとしては、例え
ば、図１〜図４に示されるものが挙げられる。

【００１５】図１に示す被洗浄物保持治具３は、回転軸
２に鉛直に固定された２つの保持杆４と該保持杆４それ
ぞれの先端に設けられ被洗浄物１を挟持する保持部５と
からなり、該保持部５は、挟持用ネジ６を備えている。
上記被洗浄物保持治具３は、上記回転軸２の軸回り及び
軸方向に、適宜な数を設けることができる。尚、上記保
持杆４は、回転軸２に、実質的に鉛直に固定されておれ
ばよく、多少の傾きがあってもよい。図１に示す被洗浄
物保持治具による場合、上記被洗浄物１は、上記保持部
５に、上記挟持用ネジ６で該保持部５を締めつけること
により挟持される。

【００１６】図２に示す被洗浄物保持治具１３は、回転
軸２に直交させ且つ該回転軸２を貫通させて該回転軸２
に嵌装された保持板１４と、該保持板１４の外部に設け
られた被洗浄物１を保持する保持部１５とを具備してい
る。尚、上記保持板１４は、上記回転軸２に実質的に直
交しておればよく、多少の傾きがあってもよい。そし
て、該保持部１５は、図２に示すように留め具１６、留
め具固定棒１７及び留め具固定ネジ１８を備えており、
該留め具１６、該留め具固定棒１７及び該留め具固定ネ
ジ１８により被洗浄物１を保持するようになしてある。
上記被洗浄物保持治具１３は、上記回転軸２の軸方向
に、適宜な数を設けることができる。尚、上記留め具１
６及び上記保持板１４には、上記被洗浄物１との接触部
に、該被洗浄物１を安定状態に保持するために該被洗浄
物１の形状に応じた凹部（図示せず）等を設けてある。
図２に示す被洗浄物保持治具１３による場合、上記被洗
浄物１は、上記留め具１６を上記回転軸２の中心方向に
移動させ、該留め具１６と上記保持板１４との間に上記
留め具固定ネジ１８で締めつけることにより両側から把
持される。

【００１７】図３に示す被洗浄物保持治具２３は、回転
軸２に直交させ且つ該回転軸２を貫通させて該回転軸２
に嵌装された保持板２４と、該保持板２４の内部に設け
られた被洗浄物１を保持する保持部２５とを具備してい
る。尚、上記保持板２４は、上記回転軸２に実質的に直
交しておればよく、多少の傾きがあってもよい。上記保
持部２５は、図３に示すように、保持板２４の内部に、
保持する被洗浄物１の形状に合わせて移動可能に設けら
れている。即ち、上記保持部２５は、上記回転軸２の半
径方向外側２５ａを固定し、上記回転軸２の半径方向内
側２５ｂを可動とし、スプリング（図示せず）を用いて
被洗浄物１を締めつけるようになしてある。上記保持板
２４としては、円板、矩形板又はその他の形状の板状体
が挙げられ、上記被洗浄物保持治具２３は、上記回転軸
２の軸方向に、適宜な数を設けることができる。図３に
示す被洗浄物保持治具２３による場合、上記被洗浄物１
は、上記保持部２５により、各頂点部分を固定されて保
持される。

【００１８】図４（ａ）に示す被洗浄物保持治具３３
は、回転軸２が断続されており、上記回転軸２に直交さ
せて上記断続部に嵌装された一対の保持板３４と該保持
板３４，３４間に架装された２本の保持杆３５とからな
り、該保持杆３５に上記被洗浄物１を保持する複数の保
持部３６を設けてあり、該保持部３６は、図４（ａ）に
示すように、上記保持杆３５の内側に、該被洗浄物１が
嵌合するように設けた凹部からなる。尚、上記保持板３
４は上記回転軸２に実質的に直交しておればよく、多少
の傾きを有していてもよい。上記保持杆３５は、上記保
持板３４，３４間に、２本架装されており、また、上記
保持部（凹部）３６は、上記回転軸２の軸方向に多数設
けてある。また、上記保持杆３５は、スプリング（図示
せず）によって上記回転軸２の中心方向に締まるような
構造となしてある。尚、上記保持杆３５は、３本以上設
けることもできる。図４（ａ）に示す被洗浄物保持治具
３３による場合、被洗浄物１は、２本の保持杆３５の保
持部３６に嵌挿され、保持杆３５を２ヶ所の端部から中
心方向にスプリング（図示せず）により締めつけること
により固定される。

【００１９】また、図４（ｂ）に示す被洗浄物保持治具
４３は、回転軸２に直交させ且つ該回転軸２を貫通させ
て該回転軸２に嵌装された一対の保持板４４と該保持板
４４，４４間に架装された４本の保持杆４５とからな
り、該保持杆４５に上記被洗浄物１を保持する複数の保
持部４６を設けてあり、該保持部４６は、図４（ｂ）に
示すように、上記保持杆４５の内側に該被洗浄物１が嵌
合するように設けた凹部からなる。尚、上記保持板４４
は上記回転軸２に実質的に直交しておればよく、多少の
傾きを有していてもよい。上記保持杆４５は、上記保持
板４４，４４間に４本架装されており、また、上記保持
部４６（凹部）は、上記回転軸２の軸方向に多数設けて
ある。また、上記保持杆４５は、外側が固定され内側が
スプリング（図示せず）によって上記回転軸２から外側
に向かって締まるような構造となしてある。尚、図４
（ｂ）に示す被洗浄物保持治具４３においては、上記保
持杆４５は被洗浄物１に対して２本設けてあるが、３本
以上設けることもできる。図４（ｂ）に示す被洗浄物保
持治具４３による場合、被洗浄物１は、２本の保持杆４
５の保持部４６に嵌挿され、保持杆４５の内側を外側に
向かってスプリング（図示せず）により締めつけること
により固定される。

【００２０】本発明の洗浄方法においては、上述したよ
うに、被洗浄物１を回転軸２の軸方向に沿って複数個保
持し、同時に複数の被洗浄物１を洗浄する場合に特に有
効である。

【００２１】本発明において用いられる上記回転軸の回
転方法としては、回転軸の一方の端をモーター等を駆動
源とする回転駆動装置に接続させる方法等が挙げられ
る。この場合、安定のため回転軸の他方の端をベアリン
グ等の機構で保持することが好ましい。

【００２２】上記回転軸の回転速度は、被洗浄物の大き
さ及び形状等により異なるが、被洗浄物の中心における
速度（線速度）が、好ましくは０．１ｍ／ｓ〜３０ｍ／
ｓ、さらに好ましくは１ｍ／ｓ〜３０ｍ／ｓとなるよう
な回転速度とすればよい。上記被洗浄物の中心における
速度（線速度）が０．１ｍ／ｓ未満であると、洗浄効果
が小さく、３０ｍ／ｓ超とするには操作上の問題があ
り、また、動力面において経済的に不利である。

【００２３】尚、上記回転速度は、被洗浄物の中心を基
準とせずに、例えば、部品を搭載したプリント配線基板
等であれば、その部品の位置を基準としてもよく、ま
た、特に汚れを落としたい部位を基準にするなど、目的
に合わせて適宜な部位を基準として設定すればよい（例
えば被洗浄物保持治具が図４（ａ）に示す形式である場
合）。

【００２４】また、上記洗浄槽内の液相の液面の高さ
は、回転軸を回転させることにより、被洗浄物が液相中
と気相中とを交互に通過するような高さであればよい
が、該回転軸近傍が望ましい。このようにして被洗浄物
を回転させることは、洗浄性及び／又はすすぎ性の向上
と処理能力の向上に効果的である。

【００２５】また、該回転軸の回転方向は、一方向のみ
でもよく、所定時間ごとに反転させてもよく、被洗浄物
の形状及び汚れの性状により適宜選択すればよい。

【００２６】本発明の洗浄方法に使用される洗浄液とし
ては、特に限定はないが、動植物から得られるｄ−リモ
ネン等のテルペン類を有効成分とするテルペン系溶剤、
ケロシン、ベンゼン、キシレン等の炭化水素を有効成分
とする炭化水素系溶剤、イソプロピルアルコール、エチ
ルアルコール、メチルアルコール等の低級アルコールを
有効成分とするアルコール系溶剤等の溶剤系代替洗浄
液、界面活性剤、及び水酸化ナトリウム、オルソケイ酸
ナトリウム等のアルカリ剤を含有する水系代替洗浄液あ
るいはこれらの希釈液があげられる。

【００２７】上記界面活性剤としては、アニオン性、カ
チオン性、両イオン性、非イオン性界面活性剤等が用い
られるが電子部品等の部材への影響を考慮すると非イオ
ン性界面活性剤が好ましく、例えばアルキルエーテル
型、アルキルアリルエーテル型、アルキルチオエーテル
型等のエーテル型；アルキルエステル型、ソルビタンア
ルキルエステル型等のエステル型；ポリオキシアルキレ
ンアルキルアミン等のアミンとの縮合型；ポリオキシア
ルキレンアルキルアマイド等のアミドとの縮合型；ポリ
オキシエチレンとポリオキシプロピレンをランダム又は
ブロック縮合させたプルロニック又はテトロニック型；
ポリエチレンイミン系等の界面活性剤が挙げられる。こ
れらのうち、特に炭素数４〜２２の炭化水素基を有する
ものが好ましい。

【００２８】上述のような非イオン性界面活性剤を含有
する洗浄液組成物は、これが混入したすすぎ洗い後のす
すぎ廃液が明瞭な曇点を示し、すすぎ廃液中の油状汚れ
及び洗浄液等の有機物を容易に分離除去することができ
るので排水処理の負荷が軽減され、排水処理性が特に良
好である。

【００２９】また、上記水系代替洗浄液としては、界面
活性剤と、炭化水素化合物、難水溶性のアルキルエステ
ル類及びアルキルケトン類から選ばれる化合物とを含有
する洗浄液等も用いることができる。

【００３０】上記炭化水素化合物としては、例えば洗浄
又はリンス工程の温度で液状である炭素数６〜３０の直
鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和結合を有するパラフィン
類、オレフィン類、あるいは芳香族炭化水素、脂環式炭
化水素を含む炭化水素化合物が挙げられる。上記アルキ
ルエステル類としては、例えば、洗浄又はリンス工程の
温度で液状である炭素数６〜４０のモノエステル、ジエ
ステル、トリエステルが挙げられ、特に炭素数６〜１８
の高級脂肪酸と炭素数１〜１８のアルコールのエステ
ル；炭素数６〜１８の高級脂肪酸と炭素数２〜８のジオ
ール又はトリオールとのエステル；炭素数１〜１８のア
ルコールと炭素数２〜８のジカルボン酸又はトリカルボ
ン酸とのエステルが好ましい。また、上記アルキルケト
ン類としては、炭素数６〜４０のジアルキルケトンが好
ましい。

【００３１】本発明の洗浄方法に用いられる洗浄液（洗
浄液組成物）としては、上記の成分のほか、必要に応じ
てビルダー、キレート剤、防錆剤、消泡剤等を含有する
ものを使用することもでき、また、上記の様な化合物を
用途に応じて任意に２種以上組み合わせて使用してもよ
い。

【００３２】尚、被洗浄物の汚れが、水道水、脱イオン
水、純水等により除去可能な性質の汚れである場合に
は、これらの水を洗浄液として使用してもよい。

【００３３】また、本発明の洗浄方法に使用されるすす
ぎ液は、被洗浄物上の汚れ及び／又は洗浄液組成物をす
すぎ洗うための液である。上記すすぎ液としては、特に
制限はないが、例えば、水道水、脱イオン水、純水ある
いは数％程度洗浄液を含む液が用途に応じて用いられ
る。上記すすぎ液は、浄化処理をした後、放流又は再利
用される。上記浄化処理は、例えば凝集沈殿、加圧浮
上、活性汚泥、活性炭、イオン交換、膜処理方法等の一
般的な排水処理法を単独あるいは適宜組み合わせて行う
ことができる。

【００３４】本発明による洗浄の対象となる電子部品又
は精密部品類としては、電子部品又は精密部品類の組
立、加工又は洗浄時の保持に使用される治工具（治具）
等を包含する。

【００３５】上記電子部品としては、例えば、電算機及
びその周辺機器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、その
他電子応用機器等に用いられるプリント配線基板；ＩＣ
リードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点
部材に用いられるフープ材；ＯＡ機器、時計、電算機
器、玩具、家電機器等に用いられる液晶表示器（液晶表
示デバイス）；映像・音声記録／再生部品、その関連部
品等に用いられる磁気記録部品；シリコンやセラミック
スのウェハ等の半導体材料；水晶振動子等の電歪用部
品；ＣＤ、ＰＤ、複写機器、光記録機器等に用いられる
光電変換部品等が挙げられる。

【００３６】上記精密部品類としては、例えば、電機部
品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品等が挙げら
れる。上記電機部品としては、例えば、ブラシ、ロー
タ、ステータ、ハウジング等の電動機部品；販売機や各
種機器に用いられる発券用部品；販売機、キャッシュデ
ィスペンサ等に用いられる貨幣検査用部品などが挙げら
れる。上記精密機械部品としては、例えば、精密駆動機
器、ビデオレコーダー等に用いられるベアリング；超硬
チップ等の加工用部品などが挙げられる。上記樹脂加工
部品としては、例えば、カメラ、自動車等に用いられる
精密樹脂加工部品などが挙げられる。更に、上記光学部
品としては、例えば、カメラ、眼鏡、光学機器等に用い
られるレンズ等が挙げられ、その他、上記精密部品とし
て、例えばメガネフレーム、時計ケース、時計ベルト等
が挙げられる。

【００３７】また、上記治工具類としては、上述の各種
部品例で示したような電子部品又は精密部品類の製造、
成形、加工、組立、仕上げ等を行う各種工程において取
り扱う治具、工具の他、これらの電子部品又は精密部品
類を取り扱う各種機器、その部品等が挙げられる。

【００３８】本発明の洗浄方法は、上述の電子部品又は
精密部品類の中で、特に、フラックスの残存したプリン
ト配線基板やガラス基板に付着した液晶等の洗浄時に好
適な性能を発揮する。尚、本発明の対象となる電子部品
又は精密部品類は、これらの例に限定されるものではな
く、組立加工工程において各種の加工油やフラックス等
の後の工程の妨害物質、又は製品の特性を低下させる各
種の油性汚染物質が付着している電子部品又は精密部品
類であれば、本発明の洗浄方法を適用することができ
る。

【００３９】更に、本発明の洗浄方法は、上記汚染物質
が、例えば、油脂、機械油、切削油、グリース、液晶、
ロジン系フラックス等の、主として有機成分の汚れであ
る場合、本発明の洗浄方法の特徴が特に発揮され、これ
らに金属粉、無機物粉等が混入した汚染物質であっても
有効である。

【００４０】本発明の洗浄方法は、上述のように被洗浄
物の形状には制限されないが、プリント配線基板のよう
な板状体の洗浄方法として特に有効である。

【００４１】以下に、本発明の洗浄方法を、一実施態様
に基づいて説明する。初めに、被洗浄物を前述のような
回転軸に装備した被洗浄物保持治具を介して保持する。
上記被洗浄物保持治具により被洗浄物を保持する際の向
きとしては、通常、被洗浄物が板状体の場合には、該板
状体の面が、上記回転軸に対して垂直になるような向き
とする。次に、被洗浄物を、上記回転軸を回転させるこ
とにより液相中と気相中とを交互に通過させて洗浄する
洗浄方法で洗浄工程を行った後、被洗浄物が液相に浸漬
しない状態にして回転による液切りを行う。被洗浄物が
液相に浸漬しない状態にする方法としては、回転軸の回
転駆動装置及び回転軸を上方に移動させる方法、及び液
相を槽底部等から排除する方法などが挙げられる。

【００４２】次に、上記洗浄工程と同様にしてすすぎ工
程を行った後、すすぎ液に浸漬しない状態にして回転に
よる液切りを行う。すすぎ工程は、通常、１回以上行わ
れるが、洗浄工程のみの場合もある。このように、被洗
浄物を液相に浸漬しない状態で回転させることによる液
切りは、排水負荷の低減に効果的であり、また最終すす
ぎ終了後には被洗浄物の乾燥にも効果的である。

【００４３】更に、本発明の洗浄方法は、空気等の気体
を被洗浄物に吹き付ける方法等の、周知の液切り促進方
法を併用することができる。

【００４４】本発明の電子部品又は精密部品類の洗浄方
法の上述した以外の洗浄方法としては、通常の方法と同
じ洗浄方法を適宜採用することができる。

【００４５】

【作用】被洗浄物を上記被洗浄物保持治具により保持
し、上記回転軸を回転させることにより液相中と気相中
とを交互に通過させて洗浄する場合において、該被洗浄
物が気相中から洗浄槽中の液相の液面を通過する際、該
液面から抵抗を受けて該被洗浄物に対して剪断力が作用
する。この剪断力により、洗浄効果又はすすぎ効果が向
上する。また、上記被洗浄物上の汚れ物質や残存洗浄液
等に、回転による遠心力が作用するため、該被洗浄物に
部品等が搭載されている場合にも洗浄又はすすぎが有効
に行われる。

【００４６】次に上記被洗浄物が上記液相中から上記気
相中へ入ると、被洗浄物表面に付着した液（洗浄液又は
すすぎ液）に遠心力が作用するため、該液が該被洗浄物
表面から飛散することにより液切りが行われる。従っ
て、上記被洗浄物周辺の液が該被洗浄物表面に残留して
いても、上記被洗浄物を回転により液相中と気相中とを
交互に通過させることにより、該被洗浄物表面に残留し
た液は気相中で該被洗浄物と分離されるため、該被洗浄
物が再び液相中に入ったときには被洗浄物周辺に新しい
液が存在する。このため、上記被洗浄物周辺の液は、確
実に且つ効率よく更新される。

【００４７】上述のように、本発明の洗浄方法において
は、被洗浄物を、上記回転軸を回転させることにより上
記液相中と気相中とを交互に通過させて洗浄するため、
被洗浄物が複数で、且つその保持間隔が狭い場合でも洗
浄性及び／又はすすぎ性が低下することなく、効率良く
行える。

【００４８】

【実施例】次に、実施例を比較例と共に挙げて本発明の
洗浄方法を更に詳細に説明するが、本発明は、これらの
実施例に限定されるものではない。

【００４９】実施例１ 図５に示すような大きさ３０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ２ｍ
ｍのガラスエポキシ樹脂５１上に大きさ２５ｍｍ×２５
ｍｍ、厚さ１ｍｍのガラス５２を、そのクリアランスが
１００μｍとなるように該ガラスの中心部５３を接着剤
により該ガラスエポキシ樹脂上に一点で保持するように
固定し、その隙間に汚れ物質として、フラックス５４
（日本はんだＲＸ３６３−２０７Ｂテトラヒドロフラン
抽出分）を充填した試料（被洗浄物）５５を作製した。

【００５０】上記試料（被洗浄物）を、図１に示す被洗
浄物保持治具で保持し、図１に示す如く保持し、被洗浄
物間の間隔が５ｍｍの状態で回転軸が洗浄液液面の高さ
を回転軸に接する高さに設定し、該被洗浄物が液面に対
して垂直になるようにセットして、該回転軸を、被洗浄
物のガラス中心部において２ｍ／ｓとなるように回転さ
せて６０℃で１０分間洗浄を行った。また、洗浄液とし
ては、非イオン界面活性剤４０ｗｔ％、Ｃ１４オレフィ
ン４０ｗｔ％、水２０ｗｔ％の混合物を用いた。洗浄後
の試料におけるフラックス除去率を下記〔表１〕に示
す。

【００５１】実施例２ 各被洗浄物の間隔（回転軸の軸方向に沿った方向の間
隔）を９ｍｍとした他は、実施例１と同様にして洗浄を
行った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下記
〔表１〕に示す。

【００５２】実施例３各被洗浄物の間隔（回転軸の軸方
向に沿った方向の間隔）を１４ｍｍとした他は、実施例
１と同様にして洗浄を行った。洗浄後の試料におけるフ
ラックス除去率を下記〔表１〕に示す。

【００５３】比較例１ 被洗浄物保持治具を装備した回転軸を、洗浄槽中の液相
に対して略垂直に配設し、被洗浄物が常時液中に存在す
るようにした以外は、実施例１と同様にして洗浄を行っ
た。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下記〔表
１〕に示す。

【００５４】比較例２ 各被洗浄物の間隔（回転軸の軸方向に沿った方向の間
隔）を９ｍｍとした他は、比較例１と同様にして洗浄を
行った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下記
〔表１〕に示す。

【００５５】比較例３ 各被洗浄物の間隔（回転軸の軸方向に沿った方向の間
隔）を１４ｍｍとした他は、比較例１と同様にして洗浄
を行った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下
記〔表１〕に示す。

【００５６】上記実施例１〜３及び比較例１〜３におけ
るフラックス除去率の被洗浄物間隔に対する依存性を表
すグラフを図６に示した。

【００５７】実施例４ 回転軸が中央部に垂直に通る大きさ１４０ｍｍ×１００
ｍｍ、厚さ２ｍｍのガラスエポキシ樹脂の保持板に、実
施例１と同様な試料（被洗浄物）を、図３に示す如く保
持し、各保持板の間隔（回転軸の軸方向に沿った方向の
間隔）を５ｍｍとし、洗浄槽内の液相の液面の高さを回
転軸に接する高さに設定し、該回転軸を、被洗浄物のガ
ラス中心点（ガラスとガラスエポキシ樹脂との接着部）
における速度（線速度）が２ｍ／ｓとなるように回転さ
せて６０℃で１０分間洗浄を行った。洗浄液としては、
実施例１と同じものを用いた。洗浄後の試料におけるフ
ラックスの除去率を下記〔表１〕に示す。

【００５８】実施例５ 各被洗浄物の間隔（回転軸の軸方向に沿った方向の間
隔）を９ｍｍとした他は、実施例４と同様にして洗浄を
行った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下記
〔表１〕に示す。

【００５９】実施例６ 各被洗浄物の間隔（回転軸の軸方向に沿った方向の間
隔）を１４ｍｍとした他は、実施例４と同様にして洗浄
を行った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下
記〔表１〕に示す。

【００６０】比較例４ 被洗浄物保持治具を装着した回転軸を、該洗浄槽中の液
相に対して略垂直に配設し、被洗浄物が常時液中に存在
するようにした以外は、実施例４と同様にして洗浄を行
った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下記
〔表１〕に示す。

【００６１】比較例５ 各被洗浄物の間隔（回転軸の軸方向に沿った方向の間
隔）を９ｍｍとした他は、比較例４と同様にして洗浄を
行った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下記
〔表１〕に示す。

【００６２】比較例６ 各被洗浄物の間隔（回転軸の軸方向に沿った方向の間
隔）を１４ｍｍとした他は、比較例４と同様にして洗浄
を行った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下
記〔表１〕に示す。

【００６３】上記実施例４〜６及び比較例４〜６におけ
るフラックス除去率の被洗浄物間隔に対する依存性を表
すグラフを図７に示した。

【００６４】実施例７ 実施例１と同様な試料を、図４（ａ）に示す被洗浄物保
持治具で図４（ａ）に示す如く保持し、各被洗浄物の間
隔（回転軸の軸方向に沿った方向の間隔）を５ｍｍと
し、洗浄槽内の液相の液面の高さを回転軸に接する高さ
に設定し、該回転軸を、被洗浄物のガラス中心点（ガラ
スとガラスエポキシ樹脂との接着部）における速度（線
速度）が２ｍ／ｓとなるように回転させて６０℃で１０
分間洗浄を行った。洗浄後の試料におけるフラックスの
除去率を下記〔表１〕に示す。

【００６５】実施例８ 被洗浄物の間隔を９ｍｍとした他は、実施例７と同様に
して洗浄を行った。洗浄後の試料におけるフラックス除
去率を下記〔表１〕に示す。

【００６６】実施例９ 被洗浄物の間隔を１４ｍｍとした他は、実施例７と同様
にして洗浄を行った。洗浄後の試料におけるフラックス
除去率を下記〔表１〕に示す。

【００６７】比較例７ 被洗浄物保持治具を装着した回転軸を、該洗浄槽中の液
相に対して略垂直に配設し、被洗浄物が常時液中に存在
するようにした以外は、実施例７と同様にして洗浄を行
った。洗浄後の試料におけるフラックス除去率を下記
〔表１〕に示す。

【００６８】比較例８ 被洗浄物の間隔を９ｍｍとした他は、比較例７と同様に
して洗浄を行った。洗浄後の試料におけるフラックス除
去率を下記〔表１〕に示す。

【００６９】比較例９ 被洗浄物の間隔を１４ｍｍとした他は、比較例７と同様
にして洗浄を行った。洗浄後の試料におけるフラックス
除去率を下記〔表１〕に示す。

【００７０】上記実施例７〜９及び比較例７〜９におけ
るフラックス除去率の被洗浄物間隔に対する依存性を表
すグラフを図８に示した。

【００７１】

【表１】

【００７２】尚、上記フラックス除去率は、洗浄前のフ
ラックス充填部分の面積に対する、洗浄後のフラックス
の除去されていた部分の面積の比として算出した。

【００７３】上記〔表１〕及び図６〜８からわかるよう
に、実施例１〜９は、被洗浄物を常時液中に浸したまま
回転させて洗浄した比較例１〜９に比べてフラックス除
去率が大きい。従って、実施例１〜９は、比較例１〜９
に比べて洗浄性が高く、しかも被洗浄物又は保持板間隔
が狭い場合にも液の共回りによる洗浄性の低下は起こら
ない。このため、本発明の洗浄方法によれば、その高洗
浄性により時間短縮がなされ、更に同一空間内で処理で
きる被洗浄物の数を多くできるため生産性の向上が期待
できる。

【００７４】実施例１０ 大きさ１４０ｍｍ×１００ｍｍのロジン系フラックスで
処理したプリント配線基板を、図１に示す被洗浄物保持
治具で図１に示す如く保持し、実施例１と同様にして洗
浄工程を実施した。次いで、水道水をすすぎ液として用
いて、洗浄工程と同様にしてすすぎ工程（予備すすぎ）
を実施し、最後に純水をすすぎ液として用いて洗浄工程
と同様にしてすすぎ工程（仕上げすすぎ）を実施した。
その後、洗浄の効果を調べるため、ＭＩＬ−Ｐ−２８８
０９に従って洗浄性試験を行い、オメガメータ（日本α
メタル製、６００Ｒ−ＳＣ）により、イオン残渣の測定
を行った結果、その測定値は、０．５μｇ／ｉｎ² であ
り、本発明の洗浄方法は、イオン残渣の許容値１４μｇ
／ｉｎ² をクリアする良好な洗浄性が発揮されたことが
わかった。

【００７５】

【発明の効果】本発明の電子部品又は精密部品類の洗浄
方法によれば、被洗浄物の汚れを短時間で、簡便に且つ
効率よく除去でき、また、多くの被洗浄物の処理が可能
である。更に洗浄工程またはすすぎ工程において効率よ
く簡便に液切りがなされるため、洗浄剤の使用量、排水
負荷の低減及び乾燥時間の短縮化を図ることができる。
従って、経済的且つ生産性の高い洗浄を行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、回転軸に鉛直に固定された保持杆と該
保持杆の先端に設けられ上記被洗浄物を挟持する保持部
とからなる被洗浄物保持治具の一例を示す斜視図であ
る。

【図２】図２は、上記回転軸に直交させ且つ上記回転軸
を貫通させて上記回転軸に嵌装された保持板と該保持板
の外部に設けられた上記被洗浄物を保持する保持部とを
具備する被洗浄物保持治具の一例を示す斜視図である。

【図３】図３は、上記回転軸に直交させ且つ上記回転軸
を貫通させて上記回転軸に嵌装された保持板と該保持板
の内部に設けられた上記被洗浄物を保持する保持部とを
具備する被洗浄物保持治具の一例を示す斜視図である。

【図４】図４（ａ）は、回転軸が断続されている場合に
おいて、該回転軸に直交させて回転軸の断続部に嵌装さ
れた一対の保持板と該保持板間に架装された複数の保持
杆とからなり、該保持杆に上記被洗浄物を保持する複数
の保持部を設けてなる被洗浄物保持治具の一例を示す斜
視図である。図４（ｂ）は、上記回転軸に直交させ且つ
上記回転軸を貫通させて上記回転軸に嵌装された一対の
保持板と該保持板間に架装された複数の保持杆とからな
り、該保持杆に上記被洗浄物を保持する複数の保持部を
設けてなる被洗浄物保持治具の一例を示す斜視図であ
る。

【図５】図５（ａ）は、実施例１〜９及び比較例１〜９
で用いた試料を示す平面図であり、図５（ｂ）は、その
側面図である。

【図６】図６は、実施例１〜３及び比較例１〜３におけ
るフラックス除去率の被洗浄物間隔に対する依存性を表
すグラフである。

【図７】図７は、実施例４〜６及び比較例４〜６におけ
るフラックス除去率の保持板間隔に対する依存性を表す
グラフである。

【図８】図８は、実施例７〜９及び比較例７〜９におけ
るフラックス除去率の被洗浄物間隔に対する依存性を表
すグラフである。

【符号の説明】

１ 被洗浄物 ２ 回転軸 ３ 被洗浄物保持治具 ４ 保持杆 ５ 保持部 ６ 挟持用ネジ １３ 被洗浄物保持治具 １４ 保持板 １５ 保持部 １６ 留め具 １７ 留め具固定棒 １８ 留め具固定ネジ ２３ 被洗浄物保持治具 ２４ 保持板 ２５ａ保持部 ２５ｂ保持部 ３３ 被洗浄物保持治具 ３４ 保持板 ３５ 保持杆 ３６ 保持部 ４３ 被洗浄物保持治具 ４４ 保持板 ４５ 保持杆 ４６ 保持部 ５１ ガラスエポキシ樹脂 ５２ ガラス ５３ 中心部 ５４ フラックス ５５ 試料

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄液による一回以上の洗浄工程及び／
   又はすすぎ液による一回以上のすすぎ工程を有する、電
   子部品又は精密部品類の洗浄方法において、上記洗浄液
   又は上記すすぎ液を仕込んだ洗浄槽に、被洗浄物保持治
   具を装備した回転軸を上記洗浄槽中の液相に対して略水
   平に配設し、被洗浄物を上記被洗浄物保持治具により保
   持し、該被洗浄物を、上記回転軸を回転させることによ
   り上記液相中と気相中とを交互に通過させて洗浄するこ
   とを特徴とする電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
2. 【請求項２】 上記被洗浄物保持治具が、上記回転軸に
   鉛直に固定された保持杆と該保持杆の先端に設けられ上
   記被洗浄物を挟持する保持部とからなることを特徴とす
   る請求項１記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
3. 【請求項３】 上記被洗浄物保持治具が、上記回転軸に
   直交させ且つ上記回転軸を貫通させて上記回転軸に嵌装
   された保持板と該保持板の内部又は外部に設けられた上
   記被洗浄物を保持する保持部とを具備することを特徴と
   する請求項１記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方
   法。
4. 【請求項４】 上記被洗浄物保持治具が、上記回転軸に
   直交させて嵌装された一対の保持板と該保持板間に架装
   された複数の保持杆とからなり、該保持杆に上記被洗浄
   物を保持する複数の保持部を設けてなることを特徴とす
   る請求項１記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方法。
5. 【請求項５】 被洗浄物が板状体である請求項１〜４の
   何れか１項に記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方
   法。
6. 【請求項６】 板状体がプリント配線基板である請求項
   ５記載の電子部品又は精密部品類の洗浄方法。