JPH0695583B2 - 半導体レ−ザの製造方法 - Google Patents
半導体レ−ザの製造方法Info
- Publication number
- JPH0695583B2 JPH0695583B2 JP59165333A JP16533384A JPH0695583B2 JP H0695583 B2 JPH0695583 B2 JP H0695583B2 JP 59165333 A JP59165333 A JP 59165333A JP 16533384 A JP16533384 A JP 16533384A JP H0695583 B2 JPH0695583 B2 JP H0695583B2
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- Japan
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- growth
- semiconductor laser
- semiconductor substrate
- manufacturing
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 この発明は半導体レーザの製造方法に係り、特に、MBE
装置で製造されるAlGaAs系半導体レーザの製造方法に関
する。
装置で製造されるAlGaAs系半導体レーザの製造方法に関
する。
（ロ）従来技術 近年において、半導体レーザをMBE装置で製造する方法
が提案されており、ここでは２回のMBE成長工程を必要
とする構造の半導体レーザを製造する場合を簡単に説明
するとともに、その問題点を指摘する。
が提案されており、ここでは２回のMBE成長工程を必要
とする構造の半導体レーザを製造する場合を簡単に説明
するとともに、その問題点を指摘する。
まず、第１のMBE成長工程において、MBE装置の成長室内
に導入された半導体基板の表面に、下部クラッド層と、
活性層と、第１の上部クラッド層と、GaAsよりなる光吸
収層と、この光吸収層を保護する保護層とを積層して形
成される第１の成長層を形成する第１の成長工程を行
い、 前記第１の成長工程で積層された半導体基板を成長室か
ら取り出して、前記第１の上部クラッド層まで達する深
さ及び所望の幅のストライプ溝を形成するホトエッチン
グ工程を行い、 前記ストライプ溝が形成された半導体基板を再度成長室
内に導入し、前記半導体基板を加熱しながら、前記半導
体基板を砒素でもって衝撃しつつ、半導体基板の表面に
付着した不純物を蒸発させるサーマルクリーニング工程
を行い、 前記不純物が蒸発された半導体基板に第２の上部クラッ
ド層及びギャップ層を積層して形成される第２の成長層
を形成する第２の成長工程を行う。以上の工程におい
て、第１の成長工程の下部クラッド層及び第１の上部ク
ラッド層のAl組成を適宜選択することにより、所望の光
閉じ込め効果や第２の成長層の積層状態を得ることがで
きる。また、この方法は半導体基板の移動回数を削減す
ることができ、作業能率の向上が図れるため、量産に最
適な製造方法であり、横モード及び縦モードの制御性の
良い半導体レーザを容易に製造することができるという
特徴を有している。
に導入された半導体基板の表面に、下部クラッド層と、
活性層と、第１の上部クラッド層と、GaAsよりなる光吸
収層と、この光吸収層を保護する保護層とを積層して形
成される第１の成長層を形成する第１の成長工程を行
い、 前記第１の成長工程で積層された半導体基板を成長室か
ら取り出して、前記第１の上部クラッド層まで達する深
さ及び所望の幅のストライプ溝を形成するホトエッチン
グ工程を行い、 前記ストライプ溝が形成された半導体基板を再度成長室
内に導入し、前記半導体基板を加熱しながら、前記半導
体基板を砒素でもって衝撃しつつ、半導体基板の表面に
付着した不純物を蒸発させるサーマルクリーニング工程
を行い、 前記不純物が蒸発された半導体基板に第２の上部クラッ
ド層及びギャップ層を積層して形成される第２の成長層
を形成する第２の成長工程を行う。以上の工程におい
て、第１の成長工程の下部クラッド層及び第１の上部ク
ラッド層のAl組成を適宜選択することにより、所望の光
閉じ込め効果や第２の成長層の積層状態を得ることがで
きる。また、この方法は半導体基板の移動回数を削減す
ることができ、作業能率の向上が図れるため、量産に最
適な製造方法であり、横モード及び縦モードの制御性の
良い半導体レーザを容易に製造することができるという
特徴を有している。
しかしながら、例えば第１の上部クラッド層のAl組成が
多い場合には、第２の成長工程の積層状態が劣化して、
この第２の成長工程で形成される第２の成長層を電流が
流れなくなってしまうという問題を生じる。
多い場合には、第２の成長工程の積層状態が劣化して、
この第２の成長工程で形成される第２の成長層を電流が
流れなくなってしまうという問題を生じる。
（ハ）目的 この発明は、第二の成長層の積層状態を良好にすること
のできる半導体レーザの製造方法を提供することを目的
としている。
のできる半導体レーザの製造方法を提供することを目的
としている。
（ニ）構成 この発明に係る半導体レーザの製造方法の特徴は以下の
通りである。即ち、第１のMBE成長工程によって下部ク
ラッド層、活性層、第１の上部クラッド層、光吸収層、
保護層を順次積層してなる第１の成長層を形成し、その
後、ホトエッチング工程によって第１の上部クラッド層
の表面が溝中に露出する深さのストライプ溝を形成し、
前記ホトエッチング工程にて付着される不純物を除去
し、次いで第２のMBE成長工程で第２の成長層を形成す
るようにする。しかも第１の成長層の形成工程中に形成
されるAlXGa1-XAsからなる第１の上部クラッド層のAl組
成をＸ＜0.4にするようにする。
通りである。即ち、第１のMBE成長工程によって下部ク
ラッド層、活性層、第１の上部クラッド層、光吸収層、
保護層を順次積層してなる第１の成長層を形成し、その
後、ホトエッチング工程によって第１の上部クラッド層
の表面が溝中に露出する深さのストライプ溝を形成し、
前記ホトエッチング工程にて付着される不純物を除去
し、次いで第２のMBE成長工程で第２の成長層を形成す
るようにする。しかも第１の成長層の形成工程中に形成
されるAlXGa1-XAsからなる第１の上部クラッド層のAl組
成をＸ＜0.4にするようにする。
（ホ）実施例 第１図はこの発明に係る半導体レーザの製造方法の一実
施例を示す説明図である。
施例を示す説明図である。
（ａ） 図示しないMBE装置内に装着したＮ型のGaAsか
らなる半導体基板10を所定の方法にて加熱する。蒸発源
にそれぞれ入れられた原料物質や不純物を分子線の形で
蒸発させる。この原料等を図示しない質量分析計でモニ
ターし、図示しないコンピュータで蒸発源の温度やシャ
ッタを制御することにより、Ｎ型AlXGa1-XAsからなる下
部クラッド層21（Al組成Ｘ＝0.50）と、AlXGa1-XAsから
なる活性層22（Al組成Ｘ＝0.12）と、Ｐ型AlXGa1-XAsか
らなる第一の上部クラッド層23（Al組成Ｘ＝0.30）と、
Ｎ型GaAsからなる光吸収層24と、Ｎ型AlXGa1-XAsからな
る蒸発防止層25（Al組成Ｘ＝0.35）とで構成する第一の
成長層20を前記半導体基板10に積層させる（第一の成長
工程）。
らなる半導体基板10を所定の方法にて加熱する。蒸発源
にそれぞれ入れられた原料物質や不純物を分子線の形で
蒸発させる。この原料等を図示しない質量分析計でモニ
ターし、図示しないコンピュータで蒸発源の温度やシャ
ッタを制御することにより、Ｎ型AlXGa1-XAsからなる下
部クラッド層21（Al組成Ｘ＝0.50）と、AlXGa1-XAsから
なる活性層22（Al組成Ｘ＝0.12）と、Ｐ型AlXGa1-XAsか
らなる第一の上部クラッド層23（Al組成Ｘ＝0.30）と、
Ｎ型GaAsからなる光吸収層24と、Ｎ型AlXGa1-XAsからな
る蒸発防止層25（Al組成Ｘ＝0.35）とで構成する第一の
成長層20を前記半導体基板10に積層させる（第一の成長
工程）。
即ち、このような第一の成長工程によって、下部クラッ
ド層21、活性層22、第１の上部クラッド層23、光吸収層
24、蒸発防止層25を順次積層して第１の成長層20を形成
する。
ド層21、活性層22、第１の上部クラッド層23、光吸収層
24、蒸発防止層25を順次積層して第１の成長層20を形成
する。
（ｂ） 前記積層された半導体基板10をMBE装置から外
部に取り出した後、半導体基板10の裏面をラッピングす
る。次に、ストライプ溝が形成されるべき部分以外の蒸
発防止層25をホトレジスト60で覆う。このホトレジスト
60をマスクとして光吸収層24と蒸発防止層とを選択エッ
チングすることにより第一の上部クラッド層23まで達す
る深さで、かつ、所望の幅であるストライプ溝30を形成
する（ホトエッチング工程）。
部に取り出した後、半導体基板10の裏面をラッピングす
る。次に、ストライプ溝が形成されるべき部分以外の蒸
発防止層25をホトレジスト60で覆う。このホトレジスト
60をマスクとして光吸収層24と蒸発防止層とを選択エッ
チングすることにより第一の上部クラッド層23まで達す
る深さで、かつ、所望の幅であるストライプ溝30を形成
する（ホトエッチング工程）。
即ち、このようなホトエッチング工程によって、第１の
上部クラッド層23の表面が溝中に露出する深さのストラ
イプ溝30を形成する。
上部クラッド層23の表面が溝中に露出する深さのストラ
イプ溝30を形成する。
（ｃ） 前記ホトレジスト60を除去した半導体基板10を
有機洗浄する。その後、前記半導体基板10を再度MBE装
置内に装着する。ここで、半導体基板10に砒素分子線を
当てながら半導体基板を約740℃で加熱する。このまま
約20分間行うことにより、半導体基板10の表面に付着し
ている酸化物等の不純物を蒸発させる（サーマルクリー
ニング工程）。
有機洗浄する。その後、前記半導体基板10を再度MBE装
置内に装着する。ここで、半導体基板10に砒素分子線を
当てながら半導体基板を約740℃で加熱する。このまま
約20分間行うことにより、半導体基板10の表面に付着し
ている酸化物等の不純物を蒸発させる（サーマルクリー
ニング工程）。
（ｄ） （ｃ）の工程の状態で半導体基板10の温度を約
600℃にして、（ａ）工程と同様の方法にてＰ型AlYGa
1-YAsからなる第二の上部クラッド層41（Al組成Ｙ＝0.3
5）と、P+型GaAsからなるキャップ層42とで構成する第
二の成長層40を積層する（第二の成長工程）。以下、通
常の半導体レーザの製造方法と同様にＰ型電極50、Ｎ型
電極51とを形成する。
600℃にして、（ａ）工程と同様の方法にてＰ型AlYGa
1-YAsからなる第二の上部クラッド層41（Al組成Ｙ＝0.3
5）と、P+型GaAsからなるキャップ層42とで構成する第
二の成長層40を積層する（第二の成長工程）。以下、通
常の半導体レーザの製造方法と同様にＰ型電極50、Ｎ型
電極51とを形成する。
（ヘ）効果 この発明は、第一の上部クラッド層のAl組成をＸ＜0.4
としたので、第二の成長層の積層状態を良好にすること
ができる。従って、前記第二の成長層の電流導通性を向
上させることができる。
としたので、第二の成長層の積層状態を良好にすること
ができる。従って、前記第二の成長層の電流導通性を向
上させることができる。
第１図はこの発明に係る半導体レーザの製造方法の一実
施例を示す説明図である。 10……半導体基板、20……第一の成長層、21……下部ク
ラッド層、22……活性層、23……第一の上部クラッド
層、24……光吸収層、25……蒸発防止層、30……ストラ
イプ溝、40……第二の成長層、41……第二の上部クラッ
ド層、42……キャップ層。
施例を示す説明図である。 10……半導体基板、20……第一の成長層、21……下部ク
ラッド層、22……活性層、23……第一の上部クラッド
層、24……光吸収層、25……蒸発防止層、30……ストラ
イプ溝、40……第二の成長層、41……第二の上部クラッ
ド層、42……キャップ層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 深田 速水 京都府京都市右京区西院溝崎町21番地 ロ ーム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−100583（ＪＰ，Ａ) 特公 昭63−67351（ＪＰ，Ｂ２) Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅ ｔｔｅｒｓ 37（３），１ Ａｕｇｕｓｔ 1980，Ｐ．262−Ｐ．263 Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｖａｃｃｕｍ Ｓｃｉｅｎｃｅ ＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＢ ２（２），Ａｐｒｉｌ−Ｊｕｎｅ 1984 Ｐ．256−Ｐ．258
Claims (1)
- 【請求項１】第１のMBE成長工程によって下部クラッド
層、活性層、第１の上部クラッド層、光吸収層、保護層
を順次積層してなる第１の成長層を形成し、その後、ホ
トエッチング工程によって第１の上部クラッド層の表面
が溝中に露出する深さのストライプ溝を形成し、前記ホ
トエッチング工程にて付着される不純物を除去し、次い
で第２のMBE成長工程で第２の成長層を形成してなるAlG
aAs系半導体レーザの製造方法において、第１の成長層
の形成工程中に形成されるAlXGa1-XAsからなる第１の上
部クラッド層のAl組成をＸ＜0.4としたことを特徴とす
る半導体レーザの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59165333A JPH0695583B2 (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 半導体レ−ザの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59165333A JPH0695583B2 (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 半導体レ−ザの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6142986A JPS6142986A (ja) | 1986-03-01 |
| JPH0695583B2 true JPH0695583B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=15810337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59165333A Expired - Lifetime JPH0695583B2 (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 半導体レ−ザの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695583B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0513881A (ja) * | 1990-11-28 | 1993-01-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レーザの製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59100583A (ja) * | 1982-12-01 | 1984-06-09 | Hitachi Ltd | 半導体レ−ザ装置 |
| JPS6367351A (ja) * | 1986-09-08 | 1988-03-26 | 理研軽金属工業株式会社 | エキスパンシヨンジヨイント |
-
1984
- 1984-08-06 JP JP59165333A patent/JPH0695583B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓＬｅｔｔｅｒｓ３７（３），１Ａｕｇｕｓｔ１９８０，Ｐ．２６２−Ｐ．２６３ |
| ＪｏｕｒｎａｌｏｆＶａｃｃｕｍＳｃｉｅｎｃｅＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＢ２（２），Ａｐｒｉｌ−Ｊｕｎｅ１９８４Ｐ．２５６−Ｐ．２５８ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6142986A (ja) | 1986-03-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |