JPH0693579B2 - Channel potential control circuit - Google Patents

Channel potential control circuit

Info

Publication number
JPH0693579B2
JPH0693579B2 JP60141862A JP14186285A JPH0693579B2 JP H0693579 B2 JPH0693579 B2 JP H0693579B2 JP 60141862 A JP60141862 A JP 60141862A JP 14186285 A JP14186285 A JP 14186285A JP H0693579 B2 JPH0693579 B2 JP H0693579B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
potential
voltage
gate
circuit
fet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60141862A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS622707A (en
Inventor
忠邦 奈良部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP60141862A priority Critical patent/JPH0693579B2/en
Publication of JPS622707A publication Critical patent/JPS622707A/en
Publication of JPH0693579B2 publication Critical patent/JPH0693579B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、FET等のゲートに与えられるゲート電圧によ
ってチャンネルポテンシャルを制御可能な素子におい
て、その動作を安定にするためのチャンネルポテンシャ
ル制御回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a channel potential control circuit for stabilizing the operation of a device such as a FET whose channel potential can be controlled by a gate voltage applied to the gate. .

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本発明は、例えばMOS構造を有するトランジスタ(FET)
において、そのゲートに印加される電圧によって決まる
チャンネル部のポテンシャルを近似し、この値が一定に
なるように補正を行うことにより、FETのVthの変動等を
除去できるようにするものである。
The present invention is, for example, a transistor (FET) having a MOS structure.
In (1), the potential of the channel portion determined by the voltage applied to the gate is approximated, and correction is performed so that this value becomes constant, whereby fluctuations in Vth of the FET can be eliminated.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

いわゆるバイポーラトランジスタの場合には、どのよう
なプロセスを用いてもベース・エミッタ間の順方向降下
電圧VBEはほぼ一定である。
In the case of a so-called bipolar transistor, the forward drop voltage V BE between the base and the emitter is almost constant no matter what process is used.

これに対してFETでは、強反転を起こすのに必要なゲー
ト電圧(しきい値電圧)Vthの変動は極めて大きく、一
般的なC−MOSプロセスで±0.2V程度を許容しているほ
どである。
On the other hand, in the FET, the fluctuation of the gate voltage (threshold voltage) Vth required for causing the strong inversion is extremely large, and about 0.2 V is allowed in a general C-MOS process. .

すなわちVthは、後述する素子のフラットバンド電圧VFB
に、強反転の必要条件であるエネルギー帯の曲がり(2
φFP:φFPは基板のフェルミポテンシャル)を加え、さ
らに空乏領域に電荷 :Ksは半導体の比誘電率、∈は真空の誘電率、qは電
荷素量、NAはアクセプタの不純物密度)を生じさせるの
に必要な電圧 は単位面積当りの酸化膜容量)を加えたものである。
That is, Vth is the flat band voltage V FB of the element described later.
In addition, the bending of the energy band (2
φ FP : φ FP is the Fermi potential of the substrate) and the charge is added to the depletion region. : Ks is the relative permittivity of semiconductor, ∈ 0 is the permittivity of vacuum, q is the elementary charge, and N A is the voltage required to generate the acceptor impurity density. Is the oxide film capacity per unit area).

ここでVFB但し、φMSは金属・半導体仕事関係差 QSSは単位面積当りの界面電荷密度 ρは空間電荷密度 X0は酸化膜厚 で表わされる。そこで一般的なプロセスでは、イオンイ
ンプランテーション等によってQSSの量を変化させてVFB
を変化させ、Vthの値を制御している。しかし実際にはQ
SSのばらつきにより、Vthの値にして±0.2V程度の変動
を生じてしまっていた。
Where V FB is Where φ MS is the metal-semiconductor work relationship difference Q SS is the interface charge density per unit area ρ is the space charge density X 0 is the oxide film thickness. Therefore, in the general process, with varying amounts of Q SS by ion implantation or the like V FB
To change the Vth value. But actually Q
Due to the variation in SS , the Vth value fluctuates by about ± 0.2V.

そしてこのようなVthの変動が大きいと、ゲート・ソー
ス間電位差VGSを一定にしたままでは、FETのポテンシャ
ルを一定に保つことが極めて困難になり、その結果、ド
レイン電流IDが変動し、例えば定電流源とした場合の電
流値や、反転増幅器のバイアス電流などの変動を生じ、
周波数特性などの特性が大きく変動するという欠点を有
していた。
And if such a variation in Vth is large, it becomes extremely difficult to keep the potential of the FET constant with the gate-source potential difference V GS kept constant, and as a result, the drain current I D fluctuates, For example, when a constant current source is used, the current value and the bias current of the inverting amplifier fluctuate,
It has a drawback that characteristics such as frequency characteristics vary greatly.

すなわち上述の(1)式に対して、ゲート電圧VGと、空
乏化している時の界面ポテンシャルφとの関係式は、 と表わされる。従って任意の電圧をゲートに印加した時
の、Vthに於ける界面ポテンシャルからの界面ポテンシ
ャルの変動分Δφは次式で与えられる。
That is, with respect to the above equation (1), the relational expression between the gate voltage V G and the interface potential φ S when depleted is Is represented. Therefore, the variation Δφ S of the interface potential from the interface potential in Vth when an arbitrary voltage is applied to the gate is given by the following equation.

ところで通常のMOSプロセスの場合Vthが変動する原因は
(1)式中のVFB,φFP,NA,Coのいずれか1つ以上が変
動することである。従ってゲート電圧VGを一定にしてい
る場合、このようなVthを変動する変動が生じると、
(4)式を成立させるためには、空乏化している時の界
面ポテンシャルΔφは変化せざるを得ないことにな
る。
By the way, in the case of a normal MOS process, the cause of Vth variation is that any one or more of V FB , φ FP , N A , and Co in equation (1) varies. Therefore, when the gate voltage V G is kept constant, if such fluctuations that fluctuate Vth occur,
In order to satisfy the equation (4), the interfacial potential Δφ S when depleted must be changed.

これはすなわちゲートで電圧VGが一定の場合、Vthがば
らつくことによって空乏化している時の界面ポテンシャ
ルが変動することを意味している。
This means that when the voltage V G is constant at the gate, the interface potential when depleted due to variations in V th changes.

そこでまず飽和領域を考えると、FETの飽和領域での電
流式は、例えば文献「A.S.Grove著“Phusics and Techn
ology of Semiconductor Devices"の第11章から、次式
で与えられる。
Therefore, first considering the saturation region, the current formula in the saturation region of the FET can be found, for example, in the literature “ASGrove,“ Phusics and Techn.
From Chapter 11 of "ology of Semiconductor Devices", it is given by the following equation.

但し、Wはチャンネル幅 Lはチャンネル長 μnは電子の移動度 VDsatは飽和領域が始まるときのドレイン電圧VD ここでVDsatは、 VDsat=φ−2φFP ・・・(6) と表わされ、(5)式に上述の(3)(6)式を代入し
てドレイン電流IDをポテンシャルを用いて表わすと、 となる。従って空乏化した時の界面ポテンシャルφ
変化すれば、ドレイン電流IDが変化することになる。
However, W is the channel width L is the channel length μn is the electron mobility V D sat is the drain voltage V D when the saturation region starts, where V D sat is V D sat = φ S −2φ FP ( 6), the above equations (3) and (6) are substituted into the equation (5), and the drain current I D is represented by the potential, Becomes Therefore, if the interface potential φ S when depleted changes, the drain current I D changes.

次に線形領域を考えると、線形領域での電流式は、上述
の文献から(5)式でVDsatをドレイン電圧VDに置き換
えたものである。そしてこの式に上述の(3)式を代入
してドレイン電流IDをポテンシャルを用いて表わすと、 となり、飽和領域と同様に空乏化した時の界面ポテンシ
ャルφが変化すれば、ドレイン電流IDが変化すること
になる。
Next, considering the linear region, the current formula in the linear region is obtained by replacing V D sat with the drain voltage V D in the formula (5) from the above-mentioned literature. Then, by substituting the equation (3) into this equation and expressing the drain current I D using the potential, Therefore, if the interface potential φ S when depleted changes as in the saturated region, the drain current I D changes.

さらに、線形領域の中でドレイン電圧VDが非常に小さい
時、すなわちVD≪2φFPの時を与えると、この時の電流
式は、上述の文献から次式で考えられる。
Further, when the drain voltage V D is extremely small in the linear region, that is, when V D << 2φ FP , the current equation at this time is considered from the above-mentioned literature by the following equation.

そしてこの式に上述の(3)式を代入すると と表わされ、この式においても空乏化した時の界面ポテ
ンシャルφが変化すれば、ドレイン電流IDが変化する
ことになる。
And if the above equation (3) is substituted into this equation, Also in this equation, if the interface potential φ S when depleted changes, the drain current I D also changes.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

従来の例えばFETによる回路では、素子のVthの変動が大
きく、これによってチャンネルポテンシャルが変動する
ために、回路動作が安定にならない問題点があった。
In the conventional circuit using, for example, an FET, there is a problem that the circuit operation is not stable because the fluctuation of the Vth of the element is large and the channel potential is changed accordingly.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、ソースとドレインとゲートを有し、上記ソー
スとドレインとの間に形成されるチャンネルのポテンシ
ャルを上記ゲートに与えられるゲート電圧によって制御
するようになされたMOS構造を有する被制御素子(40)
の上記チャンネルポテンシャルを制御するチャンネルポ
テンシャル制御回路において、上記被制御素子のゲート
に与えられるゲート電圧と同等のゲート電圧によってチ
ャンネルポテンシャルを制御するようになされたチャン
ネルポテンシャル検出用の素子(10)を設け、この検出
用の素子から取り出される上記チャンネルポテンシャル
に相当する電圧と基準電圧(電圧源:抵抗器(30)(3
1))とを比較してその差を検出する検出回路(比較回
路:FET(20)〜(28))を有し、この検出される差が零
になるように上記チャンネルポテンシャル検出用の素子
のゲート電圧のフィードバック制御を行うと共に、この
制御された電圧を用いて上記被制御素子の上記チャンネ
ルポテンシャルを制御するようにしたチャンネルポテン
シャル制御回路である。
The present invention provides a controlled element having a MOS structure having a source, a drain and a gate, and controlling the potential of a channel formed between the source and the drain by a gate voltage applied to the gate. 40)
In the channel potential control circuit for controlling the channel potential, the channel potential detecting element (10) is provided so as to control the channel potential by a gate voltage equivalent to the gate voltage applied to the gate of the controlled element. , The voltage and reference voltage (voltage source: resistor (30) (3
1)) and a detection circuit (comparison circuit: FETs (20) to (28)) for detecting the difference, and an element for detecting the above channel potential so that the detected difference becomes zero. Is a channel potential control circuit which performs feedback control of the gate voltage and controls the channel potential of the controlled element by using this controlled voltage.

〔作用〕[Action]

この回路によれば、FET等のゲートに与えられるゲート
電圧によってチャンネルポテンシャルを制御可能な素子
において、そのポテンシャルの変動を除去できるので、
定電流源の電流値の反転増幅器のバイアス電流などを安
定にし、周波数特性等の特性を一定にすることができ
る。
According to this circuit, the fluctuation of the potential can be eliminated in the element in which the channel potential can be controlled by the gate voltage applied to the gate of the FET or the like.
It is possible to stabilize the bias current of the inverting amplifier of the current value of the constant current source, etc., and make the characteristics such as frequency characteristics constant.

〔実施例〕〔Example〕

第1図において、(1)は電圧/ポテンシャル変換回路
であって、この回路(1)からのポテンシャルに応じた
電位が比較回路(2)に供給される。また電圧源(3)
からの基準電圧が比較回路(2)に供給される。この比
較回路(2)の出力電圧が変換回路(1)に供給され
る。
In FIG. 1, (1) is a voltage / potential conversion circuit, and a potential corresponding to the potential from this circuit (1) is supplied to a comparison circuit (2). Also voltage source (3)
Is supplied to the comparison circuit (2). The output voltage of the comparison circuit (2) is supplied to the conversion circuit (1).

さらにこの回路において、回路(1)からのポテンシャ
ルに応じた電位が電圧源(3)からの基準電圧に等しく
なるようにフィードバック制御が掛けられる。これによ
って比較回路(2)の出力電圧は、ポテンシャルを一定
値に補正する電圧となる。
Further, in this circuit, feedback control is applied so that the potential corresponding to the potential from the circuit (1) becomes equal to the reference voltage from the voltage source (3). As a result, the output voltage of the comparison circuit (2) becomes a voltage for correcting the potential to a constant value.

そしてこの出力電圧が例えば定電流源(4)を構成する
FET等のゲートに与えられるゲート電圧によってチャン
ネルポテンシャルを制御可能な素子に供給されることに
より、負荷(5)を流される電流が安定化され、負荷
(5)の特性等の変動が低減される。
This output voltage constitutes, for example, a constant current source (4).
By supplying the element whose channel potential can be controlled by the gate voltage applied to the gate of the FET or the like, the current flowing through the load (5) is stabilized and fluctuations in the characteristics of the load (5) are reduced. .

さらに第2図は具体回路の一例を示す。図において電圧
/ポテンシャル変換回路(1)はFET(10)で構成さ
れ、このFETのドレインが電源VDDに接続され、ソースが
電流源を構成するFET(11)を通じて接地されると共
に、このソースが比較回路(2)を構成する一方のイン
ピーダンス変換用のP形のFET(20)のゲートに接続さ
れる。
Further, FIG. 2 shows an example of a concrete circuit. In the figure, the voltage / potential conversion circuit (1) is composed of a FET (10), the drain of this FET is connected to a power supply V DD , the source is grounded through a FET (11) that constitutes a current source, and this source is also connected. Is connected to the gate of one P-type FET (20) for impedance conversion, which constitutes the comparison circuit (2).

また電圧源(3)は、電源VDDと接地間にポリシリコン
等の抵抗器(30)(31)を設け、その抵抗分割にて形成
する。ここでポリシリコンの抵抗値の絶対値は変動する
が抵抗分割比はほとんど変動しないので、極めて安定な
基準電圧が得られる。この抵抗器(30)(31)の接続中
点が比較回路(2)を構成する他方のインピーダンス変
換用のP形のFET(21)のゲートに接続される。
The voltage source (3) is formed by providing resistors (30) and (31) made of polysilicon or the like between the power source V DD and the ground and dividing the resistors. Here, the absolute value of the resistance value of polysilicon changes, but the resistance division ratio hardly changes, so that an extremely stable reference voltage can be obtained. The midpoint of connection between the resistors (30) and (31) is connected to the gate of the other P-type FET (21) for impedance conversion, which constitutes the comparison circuit (2).

さらにFET(20)(21)のドレインが接地され、ソース
がそれぞれ定電流源用のFET(22)(23)を通じて電源V
DDに接続されると共に、これらのソースが比較回路
(2)を構成する差動接続されたP形のFET(24)(2
5)のゲートにそれぞれ接続される。このFET(24)(2
5)のソースが定電流源用のFET(26)を通じて電源VDD
に接続され、ドレインがカレントミラー構成の負荷電流
源(27)(28)を通じて接地されると共に、FET(24)
のドレインがFET(10)のゲートに接続される。
Further, the drains of the FETs (20) (21) are grounded, and the sources are connected to the power source V through the FETs (22) (23) for constant current sources.
Differentially connected P-type FETs (24) (2) which are connected to DD and whose sources form a comparison circuit (2).
5) Connected to the gates respectively. This FET (24) (2
5) Source is the power supply V DD through FET (26) for constant current source.
And the drain is grounded through the load current source (27) (28) of the current mirror configuration, and the FET (24)
Has its drain connected to the gate of the FET (10).

そしてこのFET(10)のゲートへの接続ラインが、定電
流源(4)を構成するFET(40)のゲートに接続され
る。
The connection line to the gate of the FET (10) is connected to the gate of the FET (40) that constitutes the constant current source (4).

ここでFET(10)(11)の構成は第3図Aに示すように
なっており、図の中段に示すような構造であった場合
に、そのポテンシャルは同図下段に示すようになる。従
ってVinに対して形成されたポテンシャル(白地部分)
と同一電位のVoutを得ることができる。なおFET(11)
はVoutからの微少電流を放電させておき、ノイズ等の影
響でVinのポテンシャルよりもVoutが高くなるのを防止
するためのもので、本質的には同図Bに示すように無く
ても良い。あるいは同図Cに示すように高抵抗値の抵抗
器(12)を接続してもよい。
The structure of the FETs (10) and (11) is as shown in FIG. 3A, and when the structure is as shown in the middle part of the figure, its potential is as shown in the lower part of the figure. Therefore, the potential formed for Vin (white background)
It is possible to obtain Vout having the same potential as. FET (11)
Is for discharging a minute current from Vout to prevent Vout from becoming higher than the potential of Vin due to the influence of noise or the like. Essentially, it is not necessary as shown in FIG. . Alternatively, a resistor (12) having a high resistance value may be connected as shown in FIG.

すなわち上述の回路において、FET(10)には極めて微
少な電流が流されるように設計する。この状態でFETの
チャンネルは、空乏化の状態からまさに強反転の状態に
変わった直後と考えることができる。一方この時のFET
のソースは、単に基板と逆バイアス状態になっているだ
けと考えて良く、上述の文献の第10章に記載されている
如くにソース電圧Vsは、 Vs=φ−2φFP ・・・(11) と表される。ここでφFPはプロセスの条件によって多少
変動はあるものの、Vthの変動に影響するのはVFBの方が
はるかに大きく、現実的にはφFPの変動は無視できる。
That is, in the above-mentioned circuit, the FET (10) is designed so that an extremely small amount of current can flow. In this state, the FET channel can be considered to have just changed from the depleted state to the strong inversion state. On the other hand, the FET at this time
It can be considered that the source of V is simply in a reverse bias state with the substrate, and as described in Chapter 10 of the above-mentioned document, the source voltage Vs is Vs = φ S −2φ FP ... ( 11) Here, although φ FP varies somewhat depending on the process conditions, V FB has a much larger effect on Vth variation, and in reality, the variation of φ FP can be ignored.

従って上述の回路においてポテンシャルφと検出電圧
とは比例関数にあり、ポテンシャルに応じた電圧を検出
することができる。
Therefore, in the above circuit, the potential φ S and the detection voltage are in a proportional function, and the voltage according to the potential can be detected.

また表面が空乏化した時の界面ポテンシャルとゲート電
圧との関係式は、 と表わされる。ここで通常のプロセスではVFB,NA,Coの
変動が多く、このためVGを一定にするとφが変動して
しまう。そこで上述の回路においてVFB等による変化分
をVGを制御することによって打ち消して、φを一定に
することができる。
The relational expression between the interface potential and the gate voltage when the surface is depleted is Is represented. Here, in a normal process, V FB , N A , and Co vary greatly , and therefore, if V G is kept constant, φ S varies. Therefore, in the above-described circuit, the variation due to V FB or the like can be canceled by controlling V G , and φ S can be made constant.

そして例えば飽和領域を考えると、ポテンシャルと電流
の関係式は上述の(7)式のようになっており、この式
とゲート電圧を用いた(5)式と比較すると、この両式
の最大の相違点はポテンシャルを用いた電流式にはVFB
の項が含まれていないことである。これは線形領域につ
いても同様である。
Considering, for example, the saturation region, the relational expression between the potential and the current is as shown in the above equation (7). Compared with this equation and the equation (5) using the gate voltage, the maximum of both equations is obtained. The difference is that the current equation using potential is V FB
The term is not included. This also applies to the linear region.

従ってポテンシャルを用いて電流を表わした式にVFB
項がないということは、Vthが変動しても、空乏化した
時の表面ポテンシャルを一定にしておけばFETの電流は
変化しないことになる。
Therefore, the fact that there is no V FB term in the equation that expresses the current using the potential means that the FET current does not change even if Vth fluctuates if the surface potential when depleted is kept constant. .

そこで上述の回路において、ポテンシャルを一定にする
電圧をFET(40)に供給することにより、FET(40)を流
れる電流を一定にすることができる。なおFET(10)と
(40)とは同一プロセスで形成され、少なくともチャン
ネル長Lが等しいものとされる。
Therefore, in the above circuit, by supplying the FET (40) with a voltage that keeps the potential constant, the current flowing through the FET (40) can be made constant. The FETs (10) and (40) are formed in the same process and have at least the same channel length L.

こうしてFET等のゲートに与えられるゲート電圧によっ
てチャンネルポテンシャルを制御可能な素子において、
そのポテンシャルの変動を除去することにより、ドレイ
ン電流を安定化することができる。
In this way, in the element whose channel potential can be controlled by the gate voltage given to the gate of FET,
By removing the fluctuation of the potential, the drain current can be stabilized.

さらに以下は応用例を示す。Furthermore, the following shows an application example.

まず第4図、第5図は定電流源として用いる場合で、そ
れぞれソースホロアの素子(50)または差動アンプを構
成するFET(51)(52)に接続される。これらの例にお
いて定電流源を構成する素子(40)の電流値が安定化さ
れるので、回路の特性等を安定にすることができる。な
お他の回路の定電流源にも応用できる。
First, FIGS. 4 and 5 show the case where the device is used as a constant current source, which is connected to the source follower element (50) or the FETs (51) and (52) constituting a differential amplifier, respectively. In these examples, the current value of the element (40) forming the constant current source is stabilized, so that the circuit characteristics and the like can be stabilized. It can also be applied to constant current sources for other circuits.

また第6図は反転増幅器の入力バイアス回路に適用した
例で、反転増幅器用のFET(60)のゲートに抵抗器(6
1)を通じて上述のポテンシャルを一定にする電圧が供
給され、コンデンサ(62)で直流除去して供給される信
号に重畳される。この回路においても、入力バイアス点
におけるポテンシャルが安定化され、利得、線形性、周
波数特性等を安定にすることができる。なおこの回路ソ
ースホロアの入力バイアス回路に適用しても同様の作用
効果が得られる。
Further, FIG. 6 shows an example applied to the input bias circuit of the inverting amplifier, in which the resistor (6
A voltage for making the above potential constant is supplied through 1) and is superimposed on the signal supplied by removing the direct current by the capacitor (62). Also in this circuit, the potential at the input bias point is stabilized, and the gain, linearity, frequency characteristic, etc. can be stabilized. Similar effects can be obtained even when applied to the input bias circuit of this circuit source follower.

またこの回路はバイアスによって電流が流される回路構
成において回路電流を安定化させる効果もある。
This circuit also has the effect of stabilizing the circuit current in the circuit configuration in which the current is supplied by the bias.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

この発明によれば、素子のポテンシャルの変動を除去で
きるので、回路動作を安定にすることができるようにな
った。
According to the present invention, the fluctuation of the potential of the element can be eliminated, so that the circuit operation can be stabilized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一例の構成図、第2図、第3図はその
説明のための図、第4図〜第6図は応用例の構成図であ
る。 (1)は電圧/ポテンシャル変換回路、(2)は比較回
路、(3)は基準電圧源、(4)は定電流源、(5)は
負荷回路である。
FIG. 1 is a configuration diagram of an example of the present invention, FIGS. 2 and 3 are diagrams for explaining the same, and FIGS. 4 to 6 are configuration diagrams of application examples. (1) is a voltage / potential conversion circuit, (2) is a comparison circuit, (3) is a reference voltage source, (4) is a constant current source, and (5) is a load circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ソースとドレインとゲートを有し、上記ソ
ースとドレインとの間に形成されるチャンネルのポテン
シャルを上記ゲートに与えられるゲート電圧によって制
御するようになされたMOS構造を有する被制御素子の上
記チャンネルポテンシャルを制御するチャンネルポテン
シャル制御回路において、 上記被制御素子のゲートに与えられるゲート電圧と同等
のゲート電圧によってチャンネルポテンシャルを制御す
るようになされたチャンネルポテンシャル検出用の素子
を設け、 この検出用の素子から取り出される上記チャンネルポテ
ンシャルに相当する電圧と基準電圧とを比較してその差
を検出する検出回路を有し、 この検出される差が零になるように上記チャンネルポテ
ンシャル検出用の素子のゲート電圧のフィードバック制
御を行うと共に、 この制御された電圧を用いて上記被制御素子の上記チャ
ンネルポテンシャルを制御するようにしたチャンネルポ
テンシャル制御回路。
1. A controlled device having a source, a drain, and a gate, and having a MOS structure configured to control the potential of a channel formed between the source and the drain by a gate voltage applied to the gate. In the channel potential control circuit for controlling the channel potential, the channel potential detecting element is provided so as to control the channel potential by a gate voltage equivalent to the gate voltage applied to the gate of the controlled element. An element for detecting the channel potential, which has a detection circuit for comparing a voltage corresponding to the channel potential extracted from the element for detecting the reference voltage with the reference voltage and detecting the difference. Feedback control of the gate voltage of Both channel potential control circuit so as to control the channel potential of the controlled device by using the control voltage.
JP60141862A 1985-06-28 1985-06-28 Channel potential control circuit Expired - Lifetime JPH0693579B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60141862A JPH0693579B2 (en) 1985-06-28 1985-06-28 Channel potential control circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60141862A JPH0693579B2 (en) 1985-06-28 1985-06-28 Channel potential control circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS622707A JPS622707A (en) 1987-01-08
JPH0693579B2 true JPH0693579B2 (en) 1994-11-16

Family

ID=15301892

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60141862A Expired - Lifetime JPH0693579B2 (en) 1985-06-28 1985-06-28 Channel potential control circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0693579B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4933646A (en) * 1989-03-27 1990-06-12 Rca Licensing Corporation Field effect transistor limiter circuitry
JP2839624B2 (en) * 1990-02-28 1998-12-16 富士通株式会社 Semiconductor integrated circuit
JP2804665B2 (en) * 1992-01-29 1998-09-30 三洋電機株式会社 Nonlinear conversion circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPS622707A (en) 1987-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5982227A (en) CMOS current source circuit
US4843265A (en) Temperature compensated monolithic delay circuit
US4327320A (en) Reference voltage source
EP0045841A1 (en) Linear voltage-current converter
US7564225B2 (en) Low-power voltage reference
US6600302B2 (en) Voltage stabilization circuit
US8237425B1 (en) Voltage regulator with high noise rejection
EP0023506A1 (en) Semiconductor differential amplifier having feedback bias control for stabilization
GB1592800A (en) Linear amplifier
JP4393152B2 (en) Semiconductor device
US5625313A (en) Cascode circuit operable at a low working voltage and having a high output impedance
JPS6119134B2 (en)
JPS6153860B2 (en)
US20020109491A1 (en) Regulated voltage generator for integrated circuit
US6222395B1 (en) Single-ended semiconductor receiver with built in threshold voltage difference
JPH0693579B2 (en) Channel potential control circuit
JP3531129B2 (en) Power supply circuit
JP2698342B2 (en) Clamp circuit
JP2765319B2 (en) Constant voltage circuit
JP3145650B2 (en) Operational amplifier phase compensation circuit and operational amplifier using the same
EP0367330A1 (en) Linear-gain amplifier arrangement
JP2953432B2 (en) Clamp voltage generation method
JPH051646B2 (en)
JPS6299817A (en) Constant voltage circuit
GB2040630A (en) Transistor resistive network

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term