JPH0693351A - タフピッチ銅の製造方法 - Google Patents

タフピッチ銅の製造方法

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JPH0693351A
JPH0693351A JP24663692A JP24663692A JPH0693351A JP H0693351 A JPH0693351 A JP H0693351A JP 24663692 A JP24663692 A JP 24663692A JP 24663692 A JP24663692 A JP 24663692A JP H0693351 A JPH0693351 A JP H0693351A
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JP
Japan
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copper
molten metal
tough pitch
raw material
pitch copper
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Withdrawn
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JP24663692A
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English (en)
Inventor
Tsugio Furuya
次夫 古屋
Hideki Sato
英樹 佐藤
Kazuyuki Sugawara
和幸 菅原
Haruhiko Asao
晴彦 浅尾
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 リン脱酸銅を原料として用いることができる
タフピッチ銅の製造方法を提供する。 【構成】 シャフト炉10で原料1を溶解し、溶湯2を
得る。この溶湯2にランス30から圧縮空気を吹き付け
る。これにより溶湯2からリンを除去し、タフピッチ銅
を製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、純銅の一種であるタフ
ピッチ銅の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のタフピッチ銅の製造方法として
は、例えば、電気銅を原料とし、これをシャフト炉で溶
解し、得られた溶湯を連続鋳造して、型銅や荒引線に成
形するという製造方法が知られている。
【0003】ところで、こうした従来の製造方法におい
て、原料に、純銅の他の種類であるリン脱酸銅のスクラ
ップを混入すると、得られた製品のリン濃度が、タフピ
ッチ銅に要求される規定値よりも高くなってしまうた
め、リン脱酸銅スクラップを原料に混入することは不可
能であった。このため、リン脱酸銅スクラップの利用法
としては、再度リン脱酸銅を製造するために用いるなど
のように、その用途がきわめて限られてしまい、資源の
有効利用を図ることができないという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した事
情に鑑みてなされたもので、リン脱酸銅を原料として用
いることができるタフピッチ銅の製造方法を提供するこ
とを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に係るタフピッ
チ銅の製造方法は、電気銅にリン脱酸銅が混入されてな
る原料を溶解して溶湯とし、この溶湯に酸化性ガスを吹
き付けた後、溶湯を鋳造してタフピッチ銅を製造する構
成とされている。
【0006】請求項2に係るタフピッチ銅の製造方法
は、請求項1の製造方法において、酸化性ガスを溶湯に
吹き付けた後、さらにこの溶湯に還元性ガスを吹き付
け、ついで溶湯を鋳造してタフピッチ銅を製造する構成
とされている。
【0007】請求項3に係るタフピッチ銅の製造方法
は、請求項1または2記載の製造方法において、溶湯を
鋳造する方法として、連続鋳造法を用いる構成とされて
いる。
【0008】請求項4に係るタフピッチ銅の製造方法
は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法にお
いて、原料に、無酸素銅を混入する構成とされている。
【0009】
【作用】酸化性ガスを吹き付けることにより、溶湯から
リンを除去し、タフピッチ銅を製造することができる。
【0010】
【実施例】まず、本発明のタフピッチ銅の製造方法に用
いる製造装置の第1実施例について、図1および図2に
基づいて説明する。
【0011】本例に係る製造装置は、電気銅等の原料1
を溶解するシャフト炉10と、このシャフト炉10の下
部に連設されて斜め下方に延出された樋20と、この樋
20の途中に取り付けられた、酸化性ガス吹き込み用の
ランス30と、前記樋20の下端に連設された還元炉4
0(図2)と、この還元炉40の上部に取り付けられた
還元性ガス吹き込み用のランス51および52と、前記
還元炉40に連設されて斜め下方に延出された樋60と
から構成されている。
【0012】前記シャフト炉10は、上部に、原料1を
投入するための投入口11を備え、下部に、溶湯2を前
記樋20に出湯する出湯口12を備えている。
【0013】前記樋20の中間部には、溶湯2を一旦溜
めておく湯だまり21が設けられている。前記ランス3
0は、この湯だまり21の上方に設置されており、か
つ、駆動機構によって上下動させられるようになってい
る。
【0014】前記還元炉40は、樋20の下端から溶湯
2を受け取る導入口41と、還元の終了した溶湯2を樋
60に出湯する出湯口42とを備えている。前記還元性
ガス吹き込み用ランス51および52は、還元炉40の
天井部を貫通して配置されており、かつ、駆動機構によ
って上下動させられるようになっている。還元炉40に
は、溶湯2の保温を行なうためのヒーター(図示せず)
が取り付けられている。
【0015】前記樋60は、公知の連続鋳造機(図示せ
ず)に溶湯2を移送するように構成されている。
【0016】ついで、本例の装置を用いたタフピッチ銅
の製造方法について説明する。まず、シャフト炉10の
投入口10から原料1を投入する。ここで、本例の方法
では、原料として、電気銅だけでなく、リン脱酸銅のス
クラップが混入されたものを用いる。
【0017】シャフト炉10で溶解された溶湯は、出湯
口12から樋20内に流れ、湯だまり21に一旦溜ま
る。ここで、本例の方法では、ランス30から、圧縮空
気を吹き出しており、これによって、溶湯2を酸化し、
その内部に含まれているリンを除去し、規定値以下の含
有量とすることができる。
【0018】湯だまり21から溢れた溶湯2は、樋20
を通って、導入口41から還元炉40の内部に流れ込
む。ここで、ランス51および52においては、15%
CO−Arガスを還元炉40の内部に吹き込んでおり、
過酸化された溶湯を所定の酸素含有量まで戻すことがで
きる。還元炉40から溢れた溶湯は、出湯口42から樋
60に流れ、この樋60を介して連続鋳造機まで移送さ
れ、従来と同様に、型銅や荒引線などに鋳造される。こ
の還元工程は、酸化工程で過酸化が生じた場合のみ行な
えばよく、過酸化が生じない操業条件であればこの還元
工程を省略してもよい。
【0019】本例の方法によれば、溶湯2中に含まれて
いるリンを除去して、タフピッチ銅を製造することがで
き、リン脱酸銅の有効利用を図ることが可能になるとい
う利点がある。
【0020】実験例によって本例の方法をより詳細に説
明する。 (実験例1)電気銅(組成;Cu>99.995%、酸
素<10ppm、P<1ppm)10トン/毎時と、リ
ン脱酸銅スクラップ(組成;Cu>99.94、酸素1
0〜500ppm、P<600ppm)5トン/毎時と
を、原料1としてシャフト炉10で溶解し、本例の方法
により酸化を行なった。この実験例においては、ランス
30の下端を溶湯2の湯面より下方に配置し、溶湯2の
内部に圧縮空気を吹き込むことによって酸化を行なっ
た。他の操業条件および結果を表1に示す。
【0021】表1に示した通り、酸化工程終了後の溶湯
の組成は、タフピッチ銅として十分なものであり、本例
の方法によってタフピッチ銅を製造できることが判る。
なお、本実験例においては、酸化工程終了後の酸素濃度
が十分に低いものであったので、還元炉40において
は、還元性ガスの吹き込みを省略した。
【0022】(実験例2)実験例2においては、ランス
30の下端を、溶湯2の湯面より上方に配置し、溶湯2
の上面に圧縮空気を吹き付けることによって酸化を行な
った(いわゆる上吹き)。他の操業条件は実験例1と同
様とした。本実験例により酸化を行なった溶湯は、酸素
濃度が高過ぎるので、還元炉40において還元性ガスを
吹き込み、酸素濃度を低下させて、タフピッチ銅を得る
ことができた。
【0023】
【表1】
【0024】なお、本例の装置においては、還元炉40
を設けているが、操業条件により還元工程が不要であれ
ば、設けなくてもよい。
【0025】また、本例の方法では、原料1として、電
気銅とリン脱酸銅スクラップとを用いるものとしたが、
これに加えて、無酸素銅を混入することが可能である。
【0026】また、本例の方法では、酸化性ガスとし
て、圧縮空気を用いる構成としたが、これに限らず、1
00%酸素や酸素富化空気などであってもよいことは当
然である。同様に、本例の方法では、還元性ガスとして
15%COガスを用いたが、他の種類の還元性ガスや固
体の還元剤などであってもよい。
【0027】さらに、本例の装置では、樋60から連続
鋳造機に溶湯2を移送する構成としたが、バッチ式の鋳
造機に移送する構成であってもよい。
【0028】つぎに、図3に基づいて、タフピッチ銅製
造装置の第2実施例について説明する。前記第1実施例
の装置では、湯だまり21部分にランス30を設ける構
成としたが、この第2実施例の装置においては、湯だま
り21およびランス30を設けず、樋20の流れ方向に
沿って、3つのランス71・72・73を設け、これら
のランスから溶湯2に酸化性ガスを吹き付ける構成とし
た点で前記第1実施例の装置と相違している。
【0029】第2実施例の装置の作用は、第1実施例の
装置と同様であるので詳細についての説明を省略する。
【0030】なお、この第2実施例の装置においては、
湯だまり21およびランス30を省略する構成とした
が、これらを設けた上でさらにランス71・72・73
を設ける構成としてもよい。この場合には、一層酸化効
率を向上させることができる。
【0031】
【発明の効果】請求項1に係るタフピッチ銅の製造方法
は、電気銅にリン脱酸銅が混入されてなる原料を溶解し
て溶湯とし、この溶湯に酸化性ガスを吹き付けた後、溶
湯を鋳造してタフピッチ銅を製造する構成とされている
ので、溶湯中に含まれているリンを除去して、タフピッ
チ銅を製造することができ、リン脱酸銅の有効利用を図
ることができる。
【0032】請求項2に係るタフピッチ銅の製造方法
は、請求項1の製造方法において、酸化性ガスを溶湯に
吹き付けた後、さらにこの溶湯に還元性ガスを吹き付
け、ついで溶湯を鋳造してタフピッチ銅を製造する構成
とされているので、過酸化が行なわれた溶湯を還元し
て、酸素含有量を下げ、タフピッチ銅を製造することが
可能となる。
【0033】請求項3に係るタフピッチ銅の製造方法
は、請求項1または2記載の製造方法において、溶湯を
鋳造する方法として、連続鋳造法を用いる構成とされて
いるので、リン脱酸銅を原料として用いた場合であって
も、タフピッチ銅を効率よく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るタフピッチ銅の製造方法に用いる
製造装置の第1実施例を示す要部の断面図である。
【図2】本発明に係るタフピッチ銅の製造方法に用いる
製造装置の第1実施例を示す他の要部の断面図である。
【図3】本発明に係るタフピッチ銅の製造方法に用いる
製造装置の第2実施例を示す要部の断面図である。
【符号の説明】
1 原料 2 溶湯
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅尾 晴彦 東京都千代田区大手町一丁目6番1号 三 菱マテリアル株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電気銅にリン脱酸銅が混入されてなる原
    料を溶解して溶湯とし、この溶湯に酸化性ガスを吹き付
    けた後、前記溶湯を鋳造してタフピッチ銅を製造するこ
    とを特徴とするタフピッチ銅の製造方法。
  2. 【請求項2】 電気銅にリン脱酸銅が混入されてなる原
    料を溶解して溶湯とし、この溶湯に酸化性ガスを吹き付
    けた後、前記溶湯に還元性ガスを吹き付け、ついで前記
    溶湯を鋳造してタフピッチ銅を製造することを特徴とす
    るタフピッチ銅の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記溶湯を鋳造する方法として、連続鋳
    造法を用いていることを特徴とする請求項1または2記
    載のタフピッチ銅の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記原料には、無酸素銅が混入されてい
    ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載
    のタフピッチ銅の製造方法。
JP24663692A 1992-09-16 1992-09-16 タフピッチ銅の製造方法 Withdrawn JPH0693351A (ja)

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