JPH0693350A - タフピッチ銅の製造装置 - Google Patents
タフピッチ銅の製造装置Info
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- JPH0693350A JPH0693350A JP24663392A JP24663392A JPH0693350A JP H0693350 A JPH0693350 A JP H0693350A JP 24663392 A JP24663392 A JP 24663392A JP 24663392 A JP24663392 A JP 24663392A JP H0693350 A JPH0693350 A JP H0693350A
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- blowing
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 リン脱酸銅を原料に混入してタフピッチ銅を
製造することができるタフピッチ銅の製造装置を提供す
る。 【構成】 原料１として、電気銅だけでなく、リン脱酸
銅を混入したものを用いる。この原料１をシャフト炉１
０で溶解し、得られた溶湯２にランス３０によって圧縮
空気を吹き付ける。これにより、溶湯２からリンを除去
し、タフピッチ銅を製造することができる。
製造することができるタフピッチ銅の製造装置を提供す
る。 【構成】 原料１として、電気銅だけでなく、リン脱酸
銅を混入したものを用いる。この原料１をシャフト炉１
０で溶解し、得られた溶湯２にランス３０によって圧縮
空気を吹き付ける。これにより、溶湯２からリンを除去
し、タフピッチ銅を製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、純銅の一種であるタフ
ピッチ銅の製造装置に関するものである。
ピッチ銅の製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、タフピッチ銅を製造する手段とし
ては、例えば、電気銅を原料とし、これをシャフト炉で
溶解し、得られた溶湯を連続鋳造して、型銅や荒引線に
成形するという方法が知られている。
ては、例えば、電気銅を原料とし、これをシャフト炉で
溶解し、得られた溶湯を連続鋳造して、型銅や荒引線に
成形するという方法が知られている。
【０００３】ところで、こうした従来の方法において、
原料に、純銅の他の種類であるリン脱酸銅のスクラップ
を混入すると、得られた製品のリン濃度が、タフピッチ
銅に要求される規定値よりも高くなってしまうため、リ
ン脱酸銅スクラップを原料に混入することは不可能であ
った。このため、リン脱酸銅スクラップの利用法として
は、再度リン脱酸銅を製造するために用いるなどのよう
に、その用途がきわめて限られてしまい、資源の有効利
用を図ることができないという問題があった。
原料に、純銅の他の種類であるリン脱酸銅のスクラップ
を混入すると、得られた製品のリン濃度が、タフピッチ
銅に要求される規定値よりも高くなってしまうため、リ
ン脱酸銅スクラップを原料に混入することは不可能であ
った。このため、リン脱酸銅スクラップの利用法として
は、再度リン脱酸銅を製造するために用いるなどのよう
に、その用途がきわめて限られてしまい、資源の有効利
用を図ることができないという問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した事
情に鑑みてなされたもので、リン脱酸銅を原料に混入し
てタフピッチ銅を製造することができるタフピッチ銅の
製造装置を提供することを目的としている。
情に鑑みてなされたもので、リン脱酸銅を原料に混入し
てタフピッチ銅を製造することができるタフピッチ銅の
製造装置を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係るタフピッ
チ銅の製造装置は、原料を溶解する溶解炉と、この溶解
炉から鋳造機構まで溶湯を移送する樋と、この樋の中間
に設置されて、溶湯に対して酸化性ガスを吹き付ける酸
化性ガス吹き付け機構とを備えた構成とされている。
チ銅の製造装置は、原料を溶解する溶解炉と、この溶解
炉から鋳造機構まで溶湯を移送する樋と、この樋の中間
に設置されて、溶湯に対して酸化性ガスを吹き付ける酸
化性ガス吹き付け機構とを備えた構成とされている。
【０００６】請求項２に係るタフピッチ銅の製造装置
は、請求項１記載の製造装置において、酸化性ガス吹き
付け機構の下流側の位置に、溶湯に対して還元性ガスを
吹き付ける還元性ガス吹き付け機構を設置する構成とさ
れている。
は、請求項１記載の製造装置において、酸化性ガス吹き
付け機構の下流側の位置に、溶湯に対して還元性ガスを
吹き付ける還元性ガス吹き付け機構を設置する構成とさ
れている。
【０００７】請求項３に係るタフピッチ銅の製造装置
は、請求項１または２に記載の製造装置において、鋳造
機構を連続鋳造機とする構成とされている。
は、請求項１または２に記載の製造装置において、鋳造
機構を連続鋳造機とする構成とされている。
【０００８】
【作用】本発明の製造装置においては、原料として、電
気銅だけでなく、リン脱酸銅を混入したものを用いる。
この原料を溶解炉で溶解し、得られた溶湯に酸化性ガス
吹き付け機構によって酸化性ガスを吹き付ける。これに
より、溶湯からリンを除去し、タフピッチ銅を製造する
ことができる。
気銅だけでなく、リン脱酸銅を混入したものを用いる。
この原料を溶解炉で溶解し、得られた溶湯に酸化性ガス
吹き付け機構によって酸化性ガスを吹き付ける。これに
より、溶湯からリンを除去し、タフピッチ銅を製造する
ことができる。
【０００９】
【実施例】まず、本発明のタフピッチ銅の製造装置の第
１実施例について、図１〜図３に基づいて説明する。
１実施例について、図１〜図３に基づいて説明する。
【００１０】本例に係る製造装置は、電気銅等の原料１
を溶解するシャフト炉（溶解炉）１０と、このシャフト
炉１０の下部に連設されて斜め下方に延出され、二又に
分岐された樋２０（図３参照）と、この樋２０の分岐部
に取り付けられた、酸化性ガス吹き込み用のランス（酸
化性ガス吹き付け機構）３０と、前記樋２０の下端にそ
れぞれ連設された２つの還元炉４０（図２および図３）
と、この還元炉４０の上部にそれぞれ取り付けられた還
元性ガス吹き込み用のランス（還元性ガス吹き付け機
構）５１および５２と、前記還元炉４０にそれぞれ連設
されて斜め下方に延出された樋６０とから構成されてい
る。
を溶解するシャフト炉（溶解炉）１０と、このシャフト
炉１０の下部に連設されて斜め下方に延出され、二又に
分岐された樋２０（図３参照）と、この樋２０の分岐部
に取り付けられた、酸化性ガス吹き込み用のランス（酸
化性ガス吹き付け機構）３０と、前記樋２０の下端にそ
れぞれ連設された２つの還元炉４０（図２および図３）
と、この還元炉４０の上部にそれぞれ取り付けられた還
元性ガス吹き込み用のランス（還元性ガス吹き付け機
構）５１および５２と、前記還元炉４０にそれぞれ連設
されて斜め下方に延出された樋６０とから構成されてい
る。
【００１１】前記シャフト炉１０（図１）は、上部に、
原料１を投入するための投入口１１を備え、下部に、溶
湯２を前記樋２０に出湯する出湯口１２を備えている。
原料１を投入するための投入口１１を備え、下部に、溶
湯２を前記樋２０に出湯する出湯口１２を備えている。
【００１２】前記樋２０の分岐部には、溶湯２を一旦溜
めておく湯だまり２１（図１および図３参照）が設けら
れている。前記ランス３０は、この湯だまり２１の上方
に設置されており、かつ、駆動機構によって上下動させ
られるようになっている。
めておく湯だまり２１（図１および図３参照）が設けら
れている。前記ランス３０は、この湯だまり２１の上方
に設置されており、かつ、駆動機構によって上下動させ
られるようになっている。
【００１３】前記２つの還元炉４０は、いずれも同様に
構成されたもので、樋２０の下端から溶湯２を受け取る
導入口４１と、還元の終了した溶湯２を樋６０に出湯す
る出湯口４２とを備えている。前記還元性ガス吹き込み
用ランス５１および５２は、還元炉４０の天井部を貫通
して配置されており、かつ、駆動機構によって上下動さ
せられるようになっている。還元炉４０には、溶湯２の
保温を行なうためのヒーター（図示せず）が取り付けら
れている。
構成されたもので、樋２０の下端から溶湯２を受け取る
導入口４１と、還元の終了した溶湯２を樋６０に出湯す
る出湯口４２とを備えている。前記還元性ガス吹き込み
用ランス５１および５２は、還元炉４０の天井部を貫通
して配置されており、かつ、駆動機構によって上下動さ
せられるようになっている。還元炉４０には、溶湯２の
保温を行なうためのヒーター（図示せず）が取り付けら
れている。
【００１４】前記樋６０は、公知の連続鋳造機（鋳造機
構）の投入口７０に溶湯２を移送するように構成されて
いる。
構）の投入口７０に溶湯２を移送するように構成されて
いる。
【００１５】ついで、本例の装置を用いたタフピッチ銅
の製造方法について説明する。まず、シャフト炉１０の
投入口１０から原料１を投入する。ここで、本例の方法
では、原料として、電気銅だけでなく、リン脱酸銅のス
クラップが混入されたものを用いる。
の製造方法について説明する。まず、シャフト炉１０の
投入口１０から原料１を投入する。ここで、本例の方法
では、原料として、電気銅だけでなく、リン脱酸銅のス
クラップが混入されたものを用いる。
【００１６】シャフト炉１０で溶解された溶湯は、出湯
口１２から樋２０内に流れ、湯だまり２１に一旦溜ま
る。ここで、本例の方法では、ランス３０から、圧縮空
気を吹き出しており、これによって、溶湯２を酸化し、
その内部に含まれているリンを除去し、タフピッチ銅と
しての規定値以下の含有量とすることができる。
口１２から樋２０内に流れ、湯だまり２１に一旦溜ま
る。ここで、本例の方法では、ランス３０から、圧縮空
気を吹き出しており、これによって、溶湯２を酸化し、
その内部に含まれているリンを除去し、タフピッチ銅と
しての規定値以下の含有量とすることができる。
【００１７】湯だまり２１から溢れた溶湯２は、分岐さ
れた樋２０にそれぞれ流れ込み、この樋２０を通って、
導入口４１から還元炉４０の内部に流れ込む。ここで、
ランス５１および５２においては、還元性ガスとして１
５％ＣＯ−Ａｒガスを還元炉４０の内部に吹き込んでお
り、過酸化された溶湯を所定の酸素含有量まで戻すこと
ができる。還元炉４０から溢れた溶湯は、出湯口４２か
ら樋６０に流れ、この樋６０を介して連続鋳造機まで移
送され、従来と同様に、型銅や荒引線などに鋳造され
る。この還元工程は、酸化工程で過酸化が生じた場合の
み行なえばよく、過酸化が生じない操業条件であればこ
の還元工程を省略してもよい。
れた樋２０にそれぞれ流れ込み、この樋２０を通って、
導入口４１から還元炉４０の内部に流れ込む。ここで、
ランス５１および５２においては、還元性ガスとして１
５％ＣＯ−Ａｒガスを還元炉４０の内部に吹き込んでお
り、過酸化された溶湯を所定の酸素含有量まで戻すこと
ができる。還元炉４０から溢れた溶湯は、出湯口４２か
ら樋６０に流れ、この樋６０を介して連続鋳造機まで移
送され、従来と同様に、型銅や荒引線などに鋳造され
る。この還元工程は、酸化工程で過酸化が生じた場合の
み行なえばよく、過酸化が生じない操業条件であればこ
の還元工程を省略してもよい。
【００１８】本例の方法によれば、溶湯２中に含まれて
いるリンを除去して、タフピッチ銅を製造することがで
き、リン脱酸銅の有効利用を図ることが可能になるとい
う利点がある。
いるリンを除去して、タフピッチ銅を製造することがで
き、リン脱酸銅の有効利用を図ることが可能になるとい
う利点がある。
【００１９】実験例によって本例の方法をより詳細に説
明する。 （実験例１）電気銅（組成；Ｃｕ＞９９．９９５％、酸
素＜１０ｐｐｍ、Ｐ＜１ｐｐｍ）１０トン／毎時と、リ
ン脱酸銅スクラップ（組成；Ｃｕ＞９９．９４、酸素１
０〜５００ｐｐｍ、Ｐ＜６００ｐｐｍ）５トン／毎時と
を、原料１としてシャフト炉１０で溶解し、本例の方法
により酸化を行なった。この実験例においては、ランス
３０の下端を溶湯２の湯面より下方に配置し、溶湯２の
内部に圧縮空気を吹き込むことによって酸化を行なっ
た。他の操業条件および結果を表１に示す。
明する。 （実験例１）電気銅（組成；Ｃｕ＞９９．９９５％、酸
素＜１０ｐｐｍ、Ｐ＜１ｐｐｍ）１０トン／毎時と、リ
ン脱酸銅スクラップ（組成；Ｃｕ＞９９．９４、酸素１
０〜５００ｐｐｍ、Ｐ＜６００ｐｐｍ）５トン／毎時と
を、原料１としてシャフト炉１０で溶解し、本例の方法
により酸化を行なった。この実験例においては、ランス
３０の下端を溶湯２の湯面より下方に配置し、溶湯２の
内部に圧縮空気を吹き込むことによって酸化を行なっ
た。他の操業条件および結果を表１に示す。
【００２０】表１に示した通り、酸化工程終了後の溶湯
の組成は、タフピッチ銅として十分なものであり、本例
の方法によってタフピッチ銅を製造できることが判る。
なお、本実験例においては、酸化工程終了後の酸素濃度
が十分に低いものであったので、還元炉４０において
は、還元性ガスの吹き込みを省略した。
の組成は、タフピッチ銅として十分なものであり、本例
の方法によってタフピッチ銅を製造できることが判る。
なお、本実験例においては、酸化工程終了後の酸素濃度
が十分に低いものであったので、還元炉４０において
は、還元性ガスの吹き込みを省略した。
【００２１】（実験例２）実験例２においては、ランス
３０の下端を、溶湯２の湯面より上方に配置し、溶湯２
の上面に圧縮空気を吹き付けることによって酸化を行な
った（いわゆる上吹き）。他の操業条件は実験例１と同
様とした。本実験例により酸化を行なった溶湯は、酸素
濃度が高過ぎるので、還元炉４０において還元性ガスを
吹き込み、酸素濃度を低下させて、タフピッチ銅を得る
ことができた。
３０の下端を、溶湯２の湯面より上方に配置し、溶湯２
の上面に圧縮空気を吹き付けることによって酸化を行な
った（いわゆる上吹き）。他の操業条件は実験例１と同
様とした。本実験例により酸化を行なった溶湯は、酸素
濃度が高過ぎるので、還元炉４０において還元性ガスを
吹き込み、酸素濃度を低下させて、タフピッチ銅を得る
ことができた。
【００２２】
【表１】
【００２３】なお、本例の装置においては、還元炉４０
を設けているが、操業条件により還元工程が不要であれ
ば、設けなくてもよい。
を設けているが、操業条件により還元工程が不要であれ
ば、設けなくてもよい。
【００２４】また、本例の方法では、原料１として、電
気銅とリン脱酸銅スクラップとを用いるものとしたが、
これに加えて、無酸素銅を混入することが可能である。
気銅とリン脱酸銅スクラップとを用いるものとしたが、
これに加えて、無酸素銅を混入することが可能である。
【００２５】また、本例の方法では、酸化性ガスとし
て、圧縮空気を用いる構成としたが、これに限らず、１
００％酸素や酸素富化空気などであってもよいことは当
然である。同様に、本例の方法では、還元性ガスとして
１５％ＣＯガスを用いたが、他の種類の還元性ガスや固
体の還元剤などであってもよい。
て、圧縮空気を用いる構成としたが、これに限らず、１
００％酸素や酸素富化空気などであってもよいことは当
然である。同様に、本例の方法では、還元性ガスとして
１５％ＣＯガスを用いたが、他の種類の還元性ガスや固
体の還元剤などであってもよい。
【００２６】さらに、本例の装置では、樋６０から連続
鋳造機に溶湯２を移送する構成としたが、バッチ式の鋳
造機に移送する構成であってもよい。
鋳造機に溶湯２を移送する構成としたが、バッチ式の鋳
造機に移送する構成であってもよい。
【００２７】つぎに、図３に基づいて、タフピッチ銅製
造装置の第２実施例について説明する。前記第１実施例
の装置では、湯だまり２１部分にランス３０を設ける構
成としたが、この第２実施例の装置においては、湯だま
り２１およびランス３０を設けず、樋２０の流れ方向に
沿う任意の箇所に、３つのランス７１・７２・７３を設
け、これらのランスから溶湯２に酸化性ガスを吹き付け
る構成とした点で前記第１実施例の装置と相違してい
る。
造装置の第２実施例について説明する。前記第１実施例
の装置では、湯だまり２１部分にランス３０を設ける構
成としたが、この第２実施例の装置においては、湯だま
り２１およびランス３０を設けず、樋２０の流れ方向に
沿う任意の箇所に、３つのランス７１・７２・７３を設
け、これらのランスから溶湯２に酸化性ガスを吹き付け
る構成とした点で前記第１実施例の装置と相違してい
る。
【００２８】第２実施例の装置の作用は、第１実施例の
装置と同様であるので詳細についての説明を省略する。
装置と同様であるので詳細についての説明を省略する。
【００２９】なお、この第２実施例の装置においては、
湯だまり２１およびランス３０を省略する構成とした
が、これらを設けた上でさらにランス７１・７２・７３
を設ける構成としてもよい。この場合には、一層酸化効
率を向上させることができる。
湯だまり２１およびランス３０を省略する構成とした
が、これらを設けた上でさらにランス７１・７２・７３
を設ける構成としてもよい。この場合には、一層酸化効
率を向上させることができる。
【００３０】
【発明の効果】請求項１に係るタフピッチ銅の製造装置
は、原料を溶解する溶解炉と、この溶解炉から鋳造機構
まで溶湯を移送する樋と、この樋の中間に設置されて、
溶湯に対して酸化性ガスを吹き付ける酸化性ガス吹き付
け機構とを備えた構成とされているので、リン脱酸銅を
原料としてタフピッチ銅を製造することができる。この
ため、リン脱酸銅の有効利用を図ることができる。
は、原料を溶解する溶解炉と、この溶解炉から鋳造機構
まで溶湯を移送する樋と、この樋の中間に設置されて、
溶湯に対して酸化性ガスを吹き付ける酸化性ガス吹き付
け機構とを備えた構成とされているので、リン脱酸銅を
原料としてタフピッチ銅を製造することができる。この
ため、リン脱酸銅の有効利用を図ることができる。
【００３１】請求項２に係るタフピッチ銅の製造装置
は、請求項１記載の製造装置において、酸化性ガス吹き
付け機構の下流側の位置に、溶湯に対して還元性ガスを
吹き付ける還元性ガス吹き付け機構を設置する構成とさ
れているので、過酸化が行なわれた溶湯を還元して、酸
素含有量を下げ、タフピッチ銅を製造することが可能と
なる。
は、請求項１記載の製造装置において、酸化性ガス吹き
付け機構の下流側の位置に、溶湯に対して還元性ガスを
吹き付ける還元性ガス吹き付け機構を設置する構成とさ
れているので、過酸化が行なわれた溶湯を還元して、酸
素含有量を下げ、タフピッチ銅を製造することが可能と
なる。
【００３２】請求項３に係るタフピッチ銅の製造装置
は、請求項１または２に記載の製造装置において、鋳造
機構を連続鋳造機とする構成とされているので、リン脱
酸銅を原料として用いた場合であっても、タフピッチ銅
を効率よく製造することができる。
は、請求項１または２に記載の製造装置において、鋳造
機構を連続鋳造機とする構成とされているので、リン脱
酸銅を原料として用いた場合であっても、タフピッチ銅
を効率よく製造することができる。
【図１】本発明に係るタフピッチ銅の製造装置の第１実
施例を示す要部の断面図である。
施例を示す要部の断面図である。
【図２】本発明に係るタフピッチ銅の製造方法に用いる
製造装置の第１実施例を示す他の要部の断面図である。
製造装置の第１実施例を示す他の要部の断面図である。
【図３】本発明に係るタフピッチ銅の製造装置の第１実
施例を示すもので、配置状態を示す概略の説明図であ
る。
施例を示すもので、配置状態を示す概略の説明図であ
る。
【図４】本発明に係るタフピッチ銅の製造装置の第２実
施例を示す要部の断面図である。
施例を示す要部の断面図である。
１ 原料 ２ 溶湯 １０ シャフト炉（溶解炉） ２０・６０ 樋 ３０・７１・７２・７３ ランス（酸化性ガス吹き付け
機構） ５１・５２ ランス（還元性ガス吹き付け機構）
機構） ５１・５２ ランス（還元性ガス吹き付け機構）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅尾 晴彦 東京都千代田区大手町一丁目６番１号 三 菱マテリアル株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 原料を溶解する溶解炉と、この溶解炉か
ら鋳造機構まで溶湯を移送する樋と、この樋の中間に設
置されて、前記溶湯に対して酸化性ガスを吹き付ける酸
化性ガス吹き付け機構とを備えていることを特徴とする
タフピッチ銅の製造装置。 - 【請求項２】 前記樋には、前記酸化性ガス吹き付け機
構の下流側の位置に、前記溶湯に対して還元性ガスを吹
き付ける還元性ガス吹き付け機構が設置されていること
を特徴とする請求項１記載のタフピッチ銅の製造装置。 - 【請求項３】 前記鋳造機構は連続鋳造機であることを
特徴とする請求項１または２に記載のタフピッチ銅の製
造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24663392A JPH0693350A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | タフピッチ銅の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24663392A JPH0693350A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | タフピッチ銅の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693350A true JPH0693350A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=17151309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24663392A Withdrawn JPH0693350A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | タフピッチ銅の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0693350A (ja) |
-
1992
- 1992-09-16 JP JP24663392A patent/JPH0693350A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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