JPH0691204B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

Info

Publication number
JPH0691204B2
JPH0691204B2 JP1007966A JP796689A JPH0691204B2 JP H0691204 B2 JPH0691204 B2 JP H0691204B2 JP 1007966 A JP1007966 A JP 1007966A JP 796689 A JP796689 A JP 796689A JP H0691204 B2 JPH0691204 B2 JP H0691204B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
integrated circuit
semiconductor integrated
circuit device
present
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1007966A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02188954A (ja
Inventor
豊 斉藤
Original Assignee
セイコー電子工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by セイコー電子工業株式会社 filed Critical セイコー電子工業株式会社
Priority to JP1007966A priority Critical patent/JPH0691204B2/ja
Publication of JPH02188954A publication Critical patent/JPH02188954A/ja
Publication of JPH0691204B2 publication Critical patent/JPH0691204B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、MOS型半導体集積回路装置(以下MOS型ICと称
する)の静電破壊保護機構に関する。
〔発明の概要〕
本発明はMOS型IC内に放電用電極を配置して静電破壊を
解決するようにしたものである。
〔従来の技術〕
従来、MOS型ICは第4図に示すように静電破壊対策とし
て入力パッド23等に保護ダイオード18を付加する等の措
置がとられてきた。もちろんこの第4図の例に限らず、
いくつかの手法があるが相応の効果をあげてきた。とこ
ろが近年、ICの微細化、高速化、高集積化が進展するに
伴ない今までの静電破壊と違うモードの破壊が発生する
ようになってきた。すなわち、今までのように入力パッ
ド23に入ってくる静電界(サージ)での破壊ではなく、
IC自体の帯電に対して電荷が流入して破壊するというモ
ードである。第4図に放電の様子を示すが、実装やICの
チップ状態での取り扱いで、ICやそれを載せているトレ
ー、基板そしてピンセットやソーターの先端等、それら
相互の充放電現象でIC破壊してしまう現象である。入力
パッド23などにいくら保護回路を入れても、それが機能
せずIC内の任意の能動素子24などのゲート酸化膜が破壊
してしまう現象である。このことは微細化に伴ないゲー
ト酸化膜も薄膜化したためである。実装工程やチップの
取り扱いにおいて現状ではICの破壊につながる危険があ
ることを示している。
〔発明が解決しようとする課題〕
前記のように従来技術では入力パッドの回路構成によら
ず、IC内部のインピーダンスや実装工程での条件に依存
するランダムな絶縁破壊が生じるといった問題があっ
た。
〔課題を解決するための手段〕
前記課題を解決するため、本発明では基板と同電位をな
す電極少なくとも一つ以上なるべく多くまんべんなく基
板内に配列するという手段をとった。
〔作用〕
前記手段をとることで、第3図に示すごとく基板と同電
位の電極は静電界が印加された際、IC内の能動素子に電
界がかかる以前に放電用電極によっていち早く放電し、
電荷を逃がしICの能動素子を電界から保護する作用をす
る。
〔実施例〕
次に図面を用いて本発明の実施例を説明する。第1図は
本発明の放電用電極5の断面図である。
半導体基板1に基板と同型の不純物拡散層2を介して放
電用電極5が接続されている。素子分離用の厚い酸化膜
3はゲート電極と同時形成される配線4の下にも形成さ
れ、開孔部6が平面的な高低で最も高い位置にくるよう
にしている。平面的な大きさは数ミクロンから数100ミ
クロンのサイズで設計することができ、さらに形状とし
ても、本実施例では円形のものを示しているが方形や多
角形あるいは長尺な形状のものでも構わない。
第2図は、本発明による放電用電極をIC内に配列した例
である。放電用電極5を黒い点で示すが、パッド9や回
路要素10などの空隙を利用して多数配列してある。この
ように従来IC内にそのまま配列しても充分効果がある
が、等間隔化するなどの配慮を行えばさらに静電耐量が
向上するのは言うまでもない。
第3図は、本発明による放電の様子を示すICの断面図で
あるが、本発明の放電用電極5は他の能動素子13〜17に
比べて基板と同電位のため低インピーダンスであり、ま
た高さ的にも他の能動素子より高く位置しており、帯電
したピンセットなどの接近物19から電荷20を電荷経路22
のようにいち早く逃がすことが可能となる。
〔発明の効果〕
以下のように本発明を用いることで微細化、高集積化さ
れたICの静電耐圧を大幅に向上させることができる。ま
た、実装工程の改良なども行う必要がなくなる。また上
記実施例にあるようにチップサイズが大きくなるなどの
不具合も避けることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の放電用電極の断面図である。第2図は
本発明の放電用電極が配列されたICの平面図、第3図は
本発明のICにおける放電の様子を示すIC断面図、第4図
は従来のICにおける放電の様子を示すICの断面図であ
る。 1……半導体基板 2……不純物拡散層 3……素子分離用絶縁膜 4……ゲート電極など敷設物 5……放電用電極 6……開孔部 7……表面保護膜 9……パッド 10……回路要素 11……半導体基板 12……素子分離用絶縁膜 13,14,16,17……能動素子 18……入力保護ダイオード 19……接近物 20……マイナス電荷 21……プラス電荷 22……電荷経路 23……パッド開孔部 24……能動素子

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板と同電位をなし少なくとも一つ前記基
    板内に任意に設けられて静電界印加時に放電用電極とし
    て機能する電極を有する半導体集積回路装置。
JP1007966A 1989-01-17 1989-01-17 半導体集積回路装置 Expired - Lifetime JPH0691204B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1007966A JPH0691204B2 (ja) 1989-01-17 1989-01-17 半導体集積回路装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1007966A JPH0691204B2 (ja) 1989-01-17 1989-01-17 半導体集積回路装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02188954A JPH02188954A (ja) 1990-07-25
JPH0691204B2 true JPH0691204B2 (ja) 1994-11-14

Family

ID=11680208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1007966A Expired - Lifetime JPH0691204B2 (ja) 1989-01-17 1989-01-17 半導体集積回路装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0691204B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100305013B1 (ko) * 1997-12-29 2001-10-19 박종섭 정전기 보호소자를 구비하는 반도체소자

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02188954A (ja) 1990-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7205613B2 (en) Insulating substrate for IC packages having integral ESD protection
US5682047A (en) Input-output (I/O) structure with capacitively triggered thyristor for electrostatic discharge (ESD) protection
US4896243A (en) Efficient ESD input protection scheme
US5721656A (en) Electrostatc discharge protection network
JPH09321220A (ja) 薄膜型の静電放電保護構造を有するマイクロエレクトロニクス・デバイス
US5291051A (en) ESD protection for inputs requiring operation beyond supply voltages
US5990519A (en) Electrostatic discharge structure
US4930037A (en) Input voltage protection system
EP0324185B1 (en) Input protecting circuit in use with a MOS semiconductor device
KR100452741B1 (ko) 반도체집적회로장치
US5072271A (en) Protection circuit for use in semiconductor integrated circuit device
JP2006080528A (ja) 高電圧素子の静電気保護装置
JPH06291257A (ja) 過電圧保護回路
JPH0691204B2 (ja) 半導体集積回路装置
US5637887A (en) Silicon controller rectifier (SCR) with capacitive trigger
KR100338338B1 (ko) 반도체 집적 회로
JPH01146796A (ja) 電子カード用静電保護デバイス
JPH0228266B2 (ja)
JPH0373568A (ja) 半導体装置
EP0335965B1 (en) Phantom esd protection circuit employing e-field crowding
JP3403981B2 (ja) 半導体装置
JPH0256969A (ja) 薄膜半導体装置
JPS5916365A (ja) 相補型半導体装置
JP3239948B2 (ja) 入出力保護装置
JPS61180470A (ja) 半導体集積回路装置

Legal Events

Date Code Title Description
S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071114

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081114

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081114

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091114

Year of fee payment: 15

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091114

Year of fee payment: 15