JPH02188954A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- JPH02188954A JPH02188954A JP1007966A JP796689A JPH02188954A JP H02188954 A JPH02188954 A JP H02188954A JP 1007966 A JP1007966 A JP 1007966A JP 796689 A JP796689 A JP 796689A JP H02188954 A JPH02188954 A JP H02188954A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000002955 isolation Methods 0.000 abstract description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000009412 basement excavation Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ICと称する)の静電破壊保護機構に関する。
壊を解決するようにしたものである。
として入力パッド23等に保護ダイオード18を付加す
る等の措置がとられてきた。もちろんこの第4図の例に
限らず、いくつかの手法があるが相応の効果をあげてき
た。ところが近年、ICの微細化、高速化、高集積化が
進展するに伴ない今までの静電破壊と違うモードの破壊
が発生するようになってきた。すなわち、今までのよう
に入力パッド23に入ってくる静電界(サージ)での破
壊ではなく、IC自体の帯電に対して電荷が流入して破
壊するというモードである。第4図に放電の様子を示す
が、実装やIcのチップ状態での取り扱いで、ICやそ
れを載せているトレー、基板そしてビンセットやソータ
ーの先端等、それら相互の充放電現象でIC破壊してし
まう現象である。入力パッド23などにいくら保護回路
を入れても、それが機能せずIC内の任意の能動素子2
4などのゲート酸化膜が破壊してしまう現象である。
たためである。実装工程やチップの取り扱いにおいて現
状ではICの破壊につながる危険があることを示してい
る。
ず、IC内部のインピーダンスや実装工程での条件に依
存するランダムな絶縁破壊が生しるといった問題があっ
た。
す電極少なくとも一つ以上なるべく多くまんべんなく基
板内に配列するという手段をとった。
位の電極は静電界が印加された際、IC内の能動素子に
電界がかかる以前に放電用電掘によっていち早く放電し
、電荷を逃がしICの能動素子を電界から保護する作用
をする。
電用電極5が接続されている。素子分離用の厚い酸化膜
3はゲート電極と同時形成される配vA4の下にも形成
され、開孔部6が平面的な高低で最も高い位置にくるよ
うにしている。平面的な大きさは数ミクロンから数10
0ミクロンのサイズで設計することができ、さらに形状
としても、本実施例では円形のものを示しているが方形
や多角形あるいは長尺な形状のものでも構わない。
した例である。放電用電極5を黒い点で示すが、バッド
9や回路要素10などの空隙を利用して多数配列しであ
る。このように従来IC内にそのまま配列しても充分効
果があるが、等間隔化するなどの配慮を行えばさらに静
電耐量が向上するのは言うまでもない。
であるが、本発明の放電用電極5は他の能動素子13〜
17に比べて基板と同電位のため低インピーダンスであ
り、また高さ的にも他の能動素子より高く位置しており
、帯電したビンセットなどの接近物19から電荷20を
電荷経路22のようにいち早く逃がすことが可能となる
。
れたICの静電耐圧を大幅に向上させることができる。
上記実施例にあるようにチップサイズが大きくなるなど
の不具合も避けることができる。
、第3図は本発明のICにおける放電の様子を示すIC
断面図、第4図は従来のrcにおける放電の様子を示す
ICの断面図である。 1・・・半導体基板 2・・・不純物拡散層 3・・・素子分離用絶縁膜 4・・・ゲート電極など敷設物 5・・・放電用電極 6・・・開孔部 7・・・表面保護JI々 9・・・パッド 10・・・回路要素 II・・・半導体基板 12・・・素子分離用絶縁膜 13、14.16.17・・・能動素子18・・・入力
保護ダイオード 19・・・接近物 20・・・マイナス電荷 21・・・プラス電荷 22・・・電荷経路 23・・・バッド開孔部 24・・・能動素子 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助
Claims (1)
- 基板と前記基板と同電位をなし、少なくとも一つ以上、
前記基板内に任意に配列され、静電界印加時に放電用電
極として機能する電極とを有することを特徴とする半導
体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1007966A JPH0691204B2 (ja) | 1989-01-17 | 1989-01-17 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1007966A JPH0691204B2 (ja) | 1989-01-17 | 1989-01-17 | 半導体集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02188954A true JPH02188954A (ja) | 1990-07-25 |
JPH0691204B2 JPH0691204B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=11680208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1007966A Expired - Lifetime JPH0691204B2 (ja) | 1989-01-17 | 1989-01-17 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0691204B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100305013B1 (ko) * | 1997-12-29 | 2001-10-19 | 박종섭 | 정전기 보호소자를 구비하는 반도체소자 |
-
1989
- 1989-01-17 JP JP1007966A patent/JPH0691204B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100305013B1 (ko) * | 1997-12-29 | 2001-10-19 | 박종섭 | 정전기 보호소자를 구비하는 반도체소자 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0691204B2 (ja) | 1994-11-14 |
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