JPH0689684A - 荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
荷電粒子ビーム装置Info
- Publication number
- JPH0689684A JPH0689684A JP3054856A JP5485691A JPH0689684A JP H0689684 A JPH0689684 A JP H0689684A JP 3054856 A JP3054856 A JP 3054856A JP 5485691 A JP5485691 A JP 5485691A JP H0689684 A JPH0689684 A JP H0689684A
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- electron beam
- charged particle
- particle beam
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 25
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビームやイオンビームを用いた荷電粒子
ビーム装置に関し、特に、細長い断面形状の荷電粒子ビ
ームを成形するようにした荷電粒子ビーム装置に関し、
長手方向に均一な質の良い細長い断面形状の荷電粒子ビ
ームを得ることができることを目的とする。 【構成】 細長い断面形状の荷電粒子ビームを発生する
荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビーム発生源から発
生した荷電粒子ビームを成形するための偏向手段とを備
えるように構成する。
ビーム装置に関し、特に、細長い断面形状の荷電粒子ビ
ームを成形するようにした荷電粒子ビーム装置に関し、
長手方向に均一な質の良い細長い断面形状の荷電粒子ビ
ームを得ることができることを目的とする。 【構成】 細長い断面形状の荷電粒子ビームを発生する
荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビーム発生源から発
生した荷電粒子ビームを成形するための偏向手段とを備
えるように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビームやイオンビ
ームを用いた荷電粒子ビーム装置に関し、特に、細長い
断面形状の荷電粒子ビームを成形するようにした荷電粒
子ビーム装置に関する。
ームを用いた荷電粒子ビーム装置に関し、特に、細長い
断面形状の荷電粒子ビームを成形するようにした荷電粒
子ビーム装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は、従来の細長い形状の電子ビーム
を用いた蒸着装置の概略図を示しており、1は細長いフ
ィラメント、2はグリッド、3はアノードである。フィ
ラメント1は図示していない適宜な加熱電源によって加
熱されており、加熱に伴って発生した熱電子は、グリッ
ド2によって制御され、アノード3によって加速され
る。加速された細長い断面形状の電子ビームは、ルツボ
4内の被蒸発材料5に向けて照射されるが、材料5上の
電子ビームの照射位置は、偏向コイル6に供給される偏
向信号によって変えられる。
を用いた蒸着装置の概略図を示しており、1は細長いフ
ィラメント、2はグリッド、3はアノードである。フィ
ラメント1は図示していない適宜な加熱電源によって加
熱されており、加熱に伴って発生した熱電子は、グリッ
ド2によって制御され、アノード3によって加速され
る。加速された細長い断面形状の電子ビームは、ルツボ
4内の被蒸発材料5に向けて照射されるが、材料5上の
電子ビームの照射位置は、偏向コイル6に供給される偏
向信号によって変えられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述したような装置
で、ルツボ4内の材料5上に照射される電子ビームに注
目すると、通常、ビームの電流密度分布は、ビームの長
手方向に不均一であり、エネルギー密度は、場所的に相
違している。このようなエネルギー密度が場所的に相違
している電子ビームによって材料を蒸発させても、長手
方向に渡って均一な蒸発量を得ることは出来ない。電子
銃の機械的な精度を高めて、均一なビームを発生させよ
うとしても、フィラメント1は加熱によって変形してし
まい、なかなか機械的な精度だけでは長手方向に均一な
細長いビームを得ることは困難である。
で、ルツボ4内の材料5上に照射される電子ビームに注
目すると、通常、ビームの電流密度分布は、ビームの長
手方向に不均一であり、エネルギー密度は、場所的に相
違している。このようなエネルギー密度が場所的に相違
している電子ビームによって材料を蒸発させても、長手
方向に渡って均一な蒸発量を得ることは出来ない。電子
銃の機械的な精度を高めて、均一なビームを発生させよ
うとしても、フィラメント1は加熱によって変形してし
まい、なかなか機械的な精度だけでは長手方向に均一な
細長いビームを得ることは困難である。
【0004】本発明は、上述した課題に鑑みてなされた
もので、その目的は、長手方向に均一な質の良い細長い
断面形状の荷電粒子ビームを得ることができる荷電粒子
ビーム装置を実現するにある。
もので、その目的は、長手方向に均一な質の良い細長い
断面形状の荷電粒子ビームを得ることができる荷電粒子
ビーム装置を実現するにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
本発明は、細長い断面形状の荷電粒子ビームを発生する
荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビーム発生源から発
生した荷電粒子ビームを成形するための偏向手段とを備
えたことを特徴としている。
本発明は、細長い断面形状の荷電粒子ビームを発生する
荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビーム発生源から発
生した荷電粒子ビームを成形するための偏向手段とを備
えたことを特徴としている。
【0006】
【作用】電子銃やイオン銃から発生した細長い断面形状
のビームを、2枚以上の電極などの偏向手段より成るビ
ーム成形手段を通し、各電極に所望の電圧を印加するこ
とによって長手方向に均一な荷電粒子ビームを成形す
る。
のビームを、2枚以上の電極などの偏向手段より成るビ
ーム成形手段を通し、各電極に所望の電圧を印加するこ
とによって長手方向に均一な荷電粒子ビームを成形す
る。
【0007】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図1は本発明に基づく電子ビーム装置の一
実施例を示しており、11は細長いフィラメントであ
る。フィラメント11には、加熱電源12が接続されて
おり、加熱電源12から適宜な電流がフィラメント11
に流される。13はグリッドであり、グリッド13に
は、グリッド電源14からグリッド電圧が印加されてい
る。15は接地電位のアノードであり、フィラメント1
1とアノード15との間には、加速電源16から加速電
圧が印加されている。17,18は、アノード15によ
って加速された細長い電子ビームEBの長手方向に対向
して配置された静電電極であり、電極17には、電源1
9から適宜な電圧が印加され、電極18には、電源20
から適宜な電圧が印加される。
に説明する。図1は本発明に基づく電子ビーム装置の一
実施例を示しており、11は細長いフィラメントであ
る。フィラメント11には、加熱電源12が接続されて
おり、加熱電源12から適宜な電流がフィラメント11
に流される。13はグリッドであり、グリッド13に
は、グリッド電源14からグリッド電圧が印加されてい
る。15は接地電位のアノードであり、フィラメント1
1とアノード15との間には、加速電源16から加速電
圧が印加されている。17,18は、アノード15によ
って加速された細長い電子ビームEBの長手方向に対向
して配置された静電電極であり、電極17には、電源1
9から適宜な電圧が印加され、電極18には、電源20
から適宜な電圧が印加される。
【0008】このように構成された装置の動作を説明す
れば、以下の通りである。フィラメント11を加熱電源
12によって加熱すると、フィラメント11からは熱電
子が発生する。この熱電子は、グリッド電源14からフ
ィラメント11とグリッド13との間に印加されるグリ
ッド電圧に応じて制御される。グリッド13によって制
御された電子ビームは、アノード15によって加速さ
れ、細長い断面形状の電子ビームEBとして取り出され
る。加速された電子ビームEBは、対向して配置された
電極17,18の間を通るが、電極17には、電源19
から正の電圧が印加され、また、電極18には、電源2
0から正の電圧が印加されている。その結果、電子ビー
ムEBは、両電極17,18に引っ張られながら電極の
間を通過し、その間に電子ビームの歪が補正され、長手
方向にビーム電流密度が均一な細長いビームを得ること
ができる。なお、電源19から電極17に印加される電
圧と、電源20から電極18に印加される電圧を調整す
ることにより、均一なビームをより正確に成形すること
ができる。
れば、以下の通りである。フィラメント11を加熱電源
12によって加熱すると、フィラメント11からは熱電
子が発生する。この熱電子は、グリッド電源14からフ
ィラメント11とグリッド13との間に印加されるグリ
ッド電圧に応じて制御される。グリッド13によって制
御された電子ビームは、アノード15によって加速さ
れ、細長い断面形状の電子ビームEBとして取り出され
る。加速された電子ビームEBは、対向して配置された
電極17,18の間を通るが、電極17には、電源19
から正の電圧が印加され、また、電極18には、電源2
0から正の電圧が印加されている。その結果、電子ビー
ムEBは、両電極17,18に引っ張られながら電極の
間を通過し、その間に電子ビームの歪が補正され、長手
方向にビーム電流密度が均一な細長いビームを得ること
ができる。なお、電源19から電極17に印加される電
圧と、電源20から電極18に印加される電圧を調整す
ることにより、均一なビームをより正確に成形すること
ができる。
【0009】図2は、本発明の他の実施例を示している
が、この実施例では、アノード15によって加速された
電子ビームEBを8枚の電極21a〜21hによって成
形するようにしている。電極21a〜21hは、夫々電
源22a〜22hに各々独立して接続されており、各電
源から各電極に印加される電圧を任意に調整することに
より、ビームの歪を完全に無くし、全体に均一なビーム
電流密度の細長い電子ビームを形成することができる。
が、この実施例では、アノード15によって加速された
電子ビームEBを8枚の電極21a〜21hによって成
形するようにしている。電極21a〜21hは、夫々電
源22a〜22hに各々独立して接続されており、各電
源から各電極に印加される電圧を任意に調整することに
より、ビームの歪を完全に無くし、全体に均一なビーム
電流密度の細長い電子ビームを形成することができる。
【0010】以上本発明の一実施例を説明したが、本発
明はこれらの実施例に限定されない。例えば、電子ビー
ム装置を例に説明したが、イオンビーム装置にも同様に
本発明を適用することができる。また、第1の実施例で
は2枚の電極を第2の実施例では8枚の電極を用いた
が、2枚、8枚の電極以外の枚数の電極によってビーム
を成形するようにしても良い。更に、静電電極によって
ビームの成形を行うようにしたが、複数の磁気コイルに
よってビームの成形を行うようにしても良い。
明はこれらの実施例に限定されない。例えば、電子ビー
ム装置を例に説明したが、イオンビーム装置にも同様に
本発明を適用することができる。また、第1の実施例で
は2枚の電極を第2の実施例では8枚の電極を用いた
が、2枚、8枚の電極以外の枚数の電極によってビーム
を成形するようにしても良い。更に、静電電極によって
ビームの成形を行うようにしたが、複数の磁気コイルに
よってビームの成形を行うようにしても良い。
【0011】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、電子ビームやイオンビームの発生源から発生し
加速されたビームを、偏向手段より成るビーム成形手段
によって成形するようにしたので、長手方向に均一なビ
ーム電流密度の荷電粒子ビームを得ることができる。従
って、このような成形された荷電粒子ビームを被蒸発材
料に照射すれば、長手方向に均一な蒸発量で材料の蒸発
を行うことができる。
よれば、電子ビームやイオンビームの発生源から発生し
加速されたビームを、偏向手段より成るビーム成形手段
によって成形するようにしたので、長手方向に均一なビ
ーム電流密度の荷電粒子ビームを得ることができる。従
って、このような成形された荷電粒子ビームを被蒸発材
料に照射すれば、長手方向に均一な蒸発量で材料の蒸発
を行うことができる。
【図1】本発明の一実施例である電子ビーム装置を示す
図である。
図である。
【図2】本発明の他の実施例を示す図である。
【図3】従来の電子ビームを用いた蒸着装置を示す図で
ある。
ある。
【符号の説明】 1 フィラメント 2 グリッド 3 アノード 4 ルツボ 5 被蒸発材料 6 偏向コイル 11 フィラメント 12 加熱電源 13 グリッド 14 グリッド電源 15 アノード 16 加速電源 17,18 電極 19,20 電源 21a〜21h 電極 22a〜22h 電源
Claims (1)
- 【請求項1】 細長い断面形状の荷電粒子ビームを発生
する荷電粒子ビーム発生源と、荷電粒子ビーム発生源か
ら発生した荷電粒子ビームを成形するための偏向手段と
を備えた荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3054856A JPH0689684A (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3054856A JPH0689684A (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 荷電粒子ビーム装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0689684A true JPH0689684A (ja) | 1994-03-29 |
Family
ID=12982237
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3054856A Withdrawn JPH0689684A (ja) | 1991-03-19 | 1991-03-19 | 荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0689684A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013041767A (ja) * | 2011-08-17 | 2013-02-28 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオン注入装置 |
-
1991
- 1991-03-19 JP JP3054856A patent/JPH0689684A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013041767A (ja) * | 2011-08-17 | 2013-02-28 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオン注入装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |