JPH0682796A - 微細粒状スペーサの散布方法 - Google Patents

微細粒状スペーサの散布方法

Info

Publication number
JPH0682796A
JPH0682796A JP23396092A JP23396092A JPH0682796A JP H0682796 A JPH0682796 A JP H0682796A JP 23396092 A JP23396092 A JP 23396092A JP 23396092 A JP23396092 A JP 23396092A JP H0682796 A JPH0682796 A JP H0682796A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
nozzle
substrate
spacers
spacer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP23396092A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Nishijima
啓 西嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP23396092A priority Critical patent/JPH0682796A/ja
Publication of JPH0682796A publication Critical patent/JPH0682796A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 微細粒状スペーサの散布方法に関し、プロッ
キングスペーサとしみ模様をなくすことを目的とする。 【構成】 多数の微細粒状スペーサ4を懸濁する液体26
の気化促進温度に加熱したチャンバ8内において、スペ
ーサ4を散布すべき基板2の上方に対向するノズル9よ
り基板2に向けてスペーサ4を懸濁した懸濁液27を噴射
せしめると共に、ノズル9の近傍においてほぼ水平方向
に噴射する圧気31をノズル9より噴射した懸濁液27に向
けて噴射するように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ(LC
D)やエレクトロクロミックディスプレイ(ECD)等
に使用するフラットディスプレイパネルにおいて、一対
の基板の対向間隙を一定にする微細粒状スペーサの散布
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】フラットディスプレイパネル例えばLC
Dパネルにおいて、液晶は数μm の一定間隔を保って対
向する一対の基板に封入させる必要がある。そのため、
一対の基板は微細粒状のスペーサを介して対向し、注入
した液晶の圧力を大気圧よりやや小さくし、一対の基板
がスペーサを挟持する。
【0003】かかるLCD等におけるスペーサの散布方
法として、プラスチック等からなり直径が数μm の微細
粒状スペーサが懸濁されている揮発性液体を、ノズルを
通して接合前の一方の基板に吹き付けるウエット方式が
広く利用されている。
【0004】図2はウエット方式の従来例によるスペー
サ散布方法の説明図、図3は懸濁液にアルコールや水ま
たはその混合液を使用し発生した欠点の説明図、図4は
基板間隔を設定する微細粒状スペーサの説明図である。
【0005】図4において、フラットディスプレイパネ
ル(LCDパネル)1は、透明電極が形成された一対の
透明基板2と3が、多数の球状スペーサ4によって一定
間隔で対向し、周囲を封止剤5により気密封止した基板
対向間隙には、大気圧よりやや小さい圧力の液晶6を充
填する。
【0006】透明基板2にスペーサ4を散布させる従来
方法を示す図2において、スペーサ散布装置(特開平3
−215833号公報参照)は、排気パイプ7を具えた
恒温槽チャンバ8の底部に、基板2をほぼ水平に配置す
る。
【0007】チャンバ8の天板には散布用ノズル9を配
設し、ノズル9を囲うようにスカート10が垂下する。チ
ャンバ8の外には、フロンまたはフロンとアルコールの
混合液等の揮発性液体11に直径が6μm 程度の多数のス
ペーサ4を懸濁された懸濁液12の入ったタンク13、懸濁
液12を室温程度に加熱する加熱機14、加熱機14を通って
ノズル9とタンク13とに接続する液送パイプ15、キャリ
アガスタンク16、キャリアガスを液体11の気化促進温度
に加熱する加熱機17、加熱機17を通ってガスタンク16と
チャンバ8の天板のスカート10内の貫通孔18に接続する
パイプ19、排気パイプ7に接続する排気装置 (図示せ
ず) を配設する。
【0008】タンク13の底部にはスターラ20を設け、ス
ペーサ4の沈澱を防ぐためスターラ20は常時回転してい
る。かかる装置において、ノズル9より基板2に向けて
懸濁液12を噴射すると共に、基板2に向けてガスタンク
16のキャリアガス21を噴射する。すると、懸濁液12の液
体11は短時間で蒸発し、基板2の表面にはスペーサ4の
みがほぼ均一に分布するようになる。
【0009】スカート10および基板2に向けて噴射する
キャリアガス21は、一般にブロッキングスペーサ22 (図
3参照)と呼ばれるスペーサ4の合着が、基板2の表面
に生成しないようにする。
【0010】即ち、スカート10およびキャリアガス21を
使用しない装置では、ノズル9の先端外壁部に気化した
液体11が凝縮し、その凝縮液にはチャンバ8内の気流に
よって運ばれたスペーサ4が高密度に被着する。そし
て、スペーサ4を高密度に含む凝縮液が落下すると、基
板2にブロッキングスペーサ22が生成され、ブロッキン
グスペーサ22はLCDパネル1の透過光を遮断し、基板
2の光学的性能が部分的に損なわれることるなる。
【0011】前記従来技術によるスペーサの散布方法に
おいて、揮発性液体として揮発性に優れ,非引火性であ
り,基板を汚染せず,透明電極等が形成された基板の信
頼性を損なうことが少ないフロンまたは、フロンとアル
コールの混合液を使用していた。
【0012】ところがフロンが世界的な規制品となり、
フロンに替わる液体の開発が検討されるようになった
が、決定的な代替え品が見出されていない。そこで、フ
ロンまたはフロンとアルコールの混合液に替わるスペー
サ懸濁用の液体として、アルコールや純水またはその混
合液が使用されるようになった。
【0013】しかし、アルコールや純水またはその混合
液である新規液体を従来の液体11に替え、従来装置を操
作すると、例えば基板2にスペーサ4を 250個/mm2
密度に散布するため、アルコール1に対し水1の割合で
混合した新規液体は、フロンとアルコールを混合した従
来の液体11に比べ揮発性が劣る。
【0014】そこで、新規液体21が基板2に到達する以
前に蒸発するように、散布開始前にチャンバ8内の温度
を90℃程度に加熱しても、散布終了時のチャンバ8内温
度は60℃程度まで低下する。
【0015】チャンバ8内の温度が70℃程度になると、
アルコールや純水またはその混合液は、ノズル9より噴
射したとき途中で完全に蒸発することなく、一部が基板
2に落下する。
【0016】そして、蒸発することなく基板2に落下し
た液体は高密度にスペーサ4を含む。そのため、図4に
示す如くブロッキングスペーサ22ができると共に、落下
後に蒸発し基板2にしみ模様23ができる。かかるブロッ
キングスペーサ22およびしみ模様23は、基板2の光学特
性を劣化させることになる。
【0017】さらに、60℃程度まで低下したチャンバ8
内の温度は、次の散布を行うため90℃まで上げるための
時間(例えば5分程度)が必要になる。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
従来の装置を利用し、フロンまたはフロンとアルコール
との混合液に替えて、アルコールや純水またはその混合
液を使用すると、ブロッキングスペーサができる,基板
2にしみ模様が形成され基板2の光学特性が損なわれる
と共に、繰り返し散布のスパーンが長くなり生産性が低
下するという問題点があった。
【0019】なお、チャンバ8を大形化して基板2とノ
ズル9との間隔を大きくすれば、前記問題点が解決可能
になるが、装置が大形化し, 無駄になるスペーサ4が増
えるため、非現実的である。
【0020】
【課題を解決するための手段】上記問題点の除去を目的
とした本発明方法は、その実施例の説明図である図1に
よれば、多数の微細粒状スペーサ4を懸濁する液体26の
気化促進温度に加熱したチャンバ8内において、スペー
サ4を散布すべき基板2の上方に対向するノズル9より
基板2に向けてスペーサ4を懸濁した懸濁液27を噴射せ
しめると共に、ノズル9の近傍においてほぼ水平方向に
噴射する圧気31をノズル9より噴射した懸濁液27に向け
て噴射する。
【0021】さらに、前記圧気31を液体26の気化促進温
度に加熱することおよび、液体26がアルコールまたは水
またはアルコールと水の混合液であることである。
【0022】
【作用】上記手段によれば、ノズル9より噴射した懸濁
液27に圧気31を噴射せしめることにより、懸濁液27の液
体26の蒸発が促進され、従来のスカート10とキャリアガ
ス21とに替わってノズル9の凝縮液の生成を防止し、ス
カート10より効率的にブロッキングスペーサをなくし、
懸濁液27が基板2に落下して生じるしみ模様をなくすこ
とができる。
【0023】さらに、圧気31を液体26の気化促進温度に
加熱することにより、液体26の蒸発は一層促進されると
共に、チャンバ8内温度が低下しないようになり、繰り
返し散布のサイクルタイムが短縮される。
【0024】その結果、従来のフロンまたはフロンとア
ルコールの混合液に替えて、アルコールまたは水または
アルコールと水の混合液が、従来のチャンバ8を利用
し、使用可能になる。
【0025】
【実施例】図1は本発明方法によるスペーサ散布装置の
主要部を示す構成図である。図2と共通部分に同一符号
を使用した図1において、スペーサ散布装置は、排気パ
イプ7を具えた恒温槽チャンバ8の底部に基板2をほぼ
水平に配置し、チャンバ8の天板には基板2に対向する
散布用ノズル9を配設し、ノズル9の少し下方の側部に
は複数個のノズル (または環状開口を設けた筒状ノズ
ル)25 を配設する。
【0026】チャンバ8の外には、アルコールまたは純
水またはアルコールと純水の混合液である揮発性液体26
に直径が6μm 程度の多数のスペーサ4が懸濁された懸
濁液27の入ったタンク13、懸濁液27を室温程度に加熱す
る加熱機14、加熱機14を通ってノズル9とタンク13とに
接続する液送パイプ15、エアコンプレッサ28、高圧エア
を液体26の気化促進温度に加熱する加熱機29、加熱機29
を通ってノズル9と25に接続するパイプ30、排気パイプ
7に接続する排気装置 (図示せず) を配設する。 タン
ク13の底部にはスターラ20を設け、スペーサ4の沈澱を
防ぐためスターラ20は常時回転している。
【0027】かかる装置において、チャンバ8内を液体
26の気化促進温度例えば90℃〜 100℃程度に加熱し、加
熱機14にて通過懸濁液27を室温程度に加熱し、コンプレ
ッサ28の高圧エア例えば5kg/cm2のエアを加熱機29で液
体26の気化促進温度例えば 100℃程度に加熱し、その加
熱高圧エア31と共に懸濁液27をノズル9より基板2に向
けて噴射すると共に、ノズル25より加熱高圧エア (圧
気) 31をほぼ水平方向に加熱高圧エア31を噴射させる。
【0028】その結果、ノズル9より噴射した懸濁液27
の液体26は、チャンバ8内の加熱およびノズル25より噴
射したエア31により気化されることになり、基板2に落
下する前に蒸発し、従来のブロッキングスペーサ22とし
み模様23が形成されないようになる。
【0029】下記の表は、新旧のスペーサ散布条件を比
較したものである。
【0030】
【表1】
【0031】なお、前記実施例において、液体26にフロ
ンまたはフロンとアルコールの混合液を使用すればチャ
ンバ8の小形化を可能とするまたは、フロンとアルコー
ルの混合液に替えてアルコールまたは水またはアルコー
ルと水の混合液を使用可能にする。
【0032】さらに、圧気31を例えば 100℃程度に加熱
することは液体26の気化を一層促進すると共に、90℃〜
100℃に加熱したチャンバ8内の温度は、スペーサ散布
後に80℃に低下するだけであり連続散布のサイクルタイ
ムを短縮すると共に、例えばアルコールと水の混合液を
使用するとき、水の含有率を高めることができる。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明方法によれ
ば、従来のフロンまたはフロンとアルコールの混合液に
替えて、アルコールまたは水またはアルコールと水の混
合液を使用し、従来のチャンバを利用するも、ブロッキ
ングスペーサおよびしみ模様なしに、スペーサ散布を可
能にする。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明方法によるスペーサ散布装置の主要部
を示す構成図である。
【図2】 ウエット方式の従来例によるスペーサ散布方
法の説明図である。
【図3】 アルコールや水に懸濁したスペーサを従来装
置で散布した欠点の説明図である。
【図4】 基板間隔を設定する微細粒状スペーサの説明
図である。
【符号の説明】
2はスペーサを散布すべき基板 4は微細粒状スペーサ 8はチャンバ 9は懸濁液を噴射するノズル 26はスペーサを懸濁する液体 27はスペーサを懸濁した懸濁液

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多数の微細粒状スペーサ(4) を懸濁する
    液体(26)の気化促進温度に加熱したチャンバ(8) 内にお
    いて、該スペーサ(4) を散布すべき基板(2)の上方に対
    向するノズル(9) より該基板(2) に向けて該スペーサ
    (4) を懸濁した懸濁液(27)を噴射せしめると共に、該ノ
    ズル(9) の近傍においてほぼ水平方向に噴射する圧気(3
    1)を該ノズル(9) より噴射した該懸濁液(27)に向けて噴
    射することを特徴とする微細粒状スペーサの散布方法。
  2. 【請求項2】 前記圧気(31)を前記液体(26)の気化促進
    温度に加熱することを特徴とする請求項1記載の微細粒
    状スペーサの散布方法。
  3. 【請求項3】 前記液体(26)がアルコールまたは水また
    はアルコールと水の混合液であることを特徴とする請求
    項1記載の微細粒状スペーサの散布方法。
JP23396092A 1992-09-02 1992-09-02 微細粒状スペーサの散布方法 Withdrawn JPH0682796A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23396092A JPH0682796A (ja) 1992-09-02 1992-09-02 微細粒状スペーサの散布方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23396092A JPH0682796A (ja) 1992-09-02 1992-09-02 微細粒状スペーサの散布方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0682796A true JPH0682796A (ja) 1994-03-25

Family

ID=16963329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23396092A Withdrawn JPH0682796A (ja) 1992-09-02 1992-09-02 微細粒状スペーサの散布方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0682796A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100707011B1 (ko) * 2000-11-03 2007-04-11 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치 제조용 스페이서 산포기
US7485584B2 (en) 2001-05-21 2009-02-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and method of manufacturing thereof
US8119188B2 (en) 2001-06-08 2012-02-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Process of manufacturing luminescent device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100707011B1 (ko) * 2000-11-03 2007-04-11 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치 제조용 스페이서 산포기
US7485584B2 (en) 2001-05-21 2009-02-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and method of manufacturing thereof
US8119188B2 (en) 2001-06-08 2012-02-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Process of manufacturing luminescent device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7507438B2 (en) Display substrate with diffuser coating
US7790477B2 (en) Apparatus and method for cleaning glass substrates using a cool hydrogen flame
JPH0682796A (ja) 微細粒状スペーサの散布方法
US4961962A (en) Method and apparatus for dispersing spacers of a liquid-crystal display panel
FI982154A0 (fi) Menetelmä ja laite materiaalin ruiskuttamiseksi
CN109530173A (zh) 一种配向液喷涂方法及喷涂装置
JP3079394B2 (ja) 液晶表示素子の製造方法及び製造装置
JPH0720662Y2 (ja) スペーサ散布装置
KR880001645B1 (ko) 액정표시소자의 제조방법
KR930012614A (ko) 규산염 원료물질의 용융방법, 특히 광물면의 제조방법 및 원료물질 혼합물의 예열장치
JPS6393365A (ja) 固体超微粒子の塗布方法とその装置
JP3532066B2 (ja) 液体原料の蒸着方法および装置
KR20000008285A (ko) 초음파를 이용한 인쇄 스퀴즈
JPH05224001A (ja) 反射防止膜形成装置
JPH112817A (ja) 液晶素子の製造方法及び微粒子散布装置
JPH11326914A (ja) 液晶表示装置の製造方法
JPH0895065A (ja) 液晶表示セルの製造方法
KR100767360B1 (ko) 액정 표시 장치용 스페이서 챔버
JPH07294942A (ja) 液晶表示素子の製造方法
JP2000290769A (ja) 薄膜形成方法及び薄膜形成装置
JPH11133433A (ja) 液晶表示素子の製法
JPH01161218A (ja) 液晶表示器の製造方法
SU1031524A1 (ru) Устройство дл нанесени металлического покрыти
JPH10104635A (ja) 液晶表示素子の製造方法
JP2968685B2 (ja) 薬液蒸気発生器

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19991102