JPH0679291A - 液体のオゾン処理装置 - Google Patents

液体のオゾン処理装置

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JPH0679291A
JPH0679291A JP26295092A JP26295092A JPH0679291A JP H0679291 A JPH0679291 A JP H0679291A JP 26295092 A JP26295092 A JP 26295092A JP 26295092 A JP26295092 A JP 26295092A JP H0679291 A JPH0679291 A JP H0679291A
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JP
Japan
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ozone
liquid
chamber
air
ozone treatment
Prior art date
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Pending
Application number
JP26295092A
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English (en)
Inventor
Kasumi Ogawa
香澄 小川
Naotoshi Morita
直年 森田
Shoji Kitanoya
昇治 北野谷
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Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
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Publication date
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  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 液体のオゾン処理装置からオゾンが漏出する
ことを防ぐ。 【構成】 オゾナイザー19により発生されたオゾンが
被処理液中を通って再びオゾン形成室13に戻ることを
繰り返し、オゾン形成室13内のオゾン濃度が高まる。
この状態において、オゾン処理室15内の液面49が波
打ちオゾンを含む空気が空気取り入口41を通って漏出
しても、空気取り入口41に取り付けられたオゾン還元
触媒43により漏出する空気中のオゾンは酸素に変換さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、空気中の酸素をオゾン
に変え、これを液中に通して該液体のオゾン処理を行う
オゾン処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】オゾンはその強力な酸化作用による殺菌
脱臭効果があり、水に溶け込ませることにより水の殺菌
及び浄化を行わせることができる。これを利用したもの
として、例えば、米国特許4035657にオゾンを作
り水処理を行う装置が示されている。また、液体のオゾ
ン処理装置の一つの方式として、オゾナイザーを配設し
た空気室(オゾン形成室)を設け、この空気室内の酸素
をオゾナイザーによりオゾンに変換し、このオゾンを被
処理液体に通してオゾン処理を行い、該被処理液体中に
溶化しなかったオゾンを回収して再び該空気室に戻す、
循環機構を有するものがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のオゾンの循
環機構を有する液体のオゾン処理装置においては、オゾ
ナイザーにより発生されたオゾンが被処理液体を通って
再び空気室に戻るため、該空気室内のオゾン濃度がオゾ
ン処理装置の動作に伴い徐々に高まる。このオゾンは、
高濃度のものを大量に吸引すると人体の健康面への影響
が危惧されているため、オゾン処理装置外部に漏出する
ことを防がなければならない。他方、この空気室からの
オゾン漏出を防ぐため、該空気室に外部から空気を供給
しないとすると、空気室内の酸素がオゾンとなり被処理
液中に徐々に溶化していくため、空気室内が減圧して被
処理液の水位が高まり、液体が空気室内に入り込みオゾ
ナイザーの駆動回路等を破壊する恐れがある。例え故障
が生じないとしても、空気室内の酸素が全てオゾンに変
換され被処理液中に溶化した時点でオゾン処理装置は、
その機能を失うことになる。なお、オゾンの漏出防止の
技術として本出願人は、実開平2−8442号にオゾン
が外部に漏れない様に逆流防止板を設けた脱臭装置を提
案したが、これは、気体のオゾン処理を目的としたもの
であるため、液体のオゾン処理装置には応用が困難であ
る。本発明は上記の問題点を解決するためなされたもの
であり、その目的とするところは、オゾンを外気中に漏
らさない液体のオゾン処理装置を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明では、オゾンを発生するオゾン発生体と、発
生したオゾンをオゾン処理すべき液体中に放出する放出
口と、放出口から放出されたオゾンを収集する収集口と
を設けてなるオゾン形成室と、液体を流入させる流入口
と、液体を排出させる排出口とを設けてなるオゾン処理
室とを有し、前記オゾン形成室と前記オゾン処理室とに
より、放出口から放出されたオゾンが該流入口と排出口
との間を通過する液体をオゾン処理した後にオゾン形成
室に戻る様にしてなるオゾン循環機構を形成する液体の
オゾン処理装置において、前記オゾン形成室に空気取り
入口を設け、この空気取り入口にオゾン還元触媒を配設
したことを特徴とする。
【0005】
【作用】上記のように構成された液体のオゾン処理装置
では、オゾナイザーにより発生されたオゾンが被処理液
中を通って再びオゾン形成室に戻ることを繰り返し、オ
ゾン形成室内のオゾン濃度が高まる。この状態におい
て、オゾン処理室内の液面が波打ちオゾンを含む空気が
空気取り入口を通って漏出しても、空気取り入口に取り
付けられたオゾン還元触媒により漏出する空気中のオゾ
ンは酸素に変換される。
【0006】
【実施例】本発明の実施例について図面を参照し説明す
る。図1は本発明の一実施例に係る液体のオゾン処理装
置10の縦断面図である。このオゾン処理装置10は、
隔壁11により、オゾン形成室13とオゾン処理室15
とに隔てられている。この隔壁11には、オゾン処理室
15の上部に滞留したオゾンをオゾン形成室13に回収
するためのオゾン収集口17が設けられている。オゾン
形成室13には、オゾナイザー19が配置され、このオ
ゾナイザー19は、高電圧回路21から500Hz程度
のパルス状の高電圧が印加され、電極間でコロナ放電を
生じることにより空気中の酸素をオゾンに変換している
(302 →203 )。この高電圧回路21には、リード
23を介して12Vの電圧が外部から加えられるように
なっている。
【0007】図2を参照して本実施例のオゾナイザー1
9について更に説明する。オゾナイザー19は、高純度
のアルミナ磁器で形成された平板状の基板192の上面
にタングステンで形成された線状放電電極193が設け
られ、基板192の内部に面状誘導電極194が埋設さ
れたものであり、線状放電電極193の上面にはアルミ
ナからなる保護層が形成されている。線状放電電極19
3と面状誘導電極194との間に高電圧を印加すると線
状放電電極193の近傍にコロナ放電が発生し、オゾン
を生成する。
【0008】オゾン形成室13で発生されたオゾンは、
気流用モータ25により駆動されるジェット気流ファン
27により、オゾン放出口29から液体中に放出され、
液体に溶化して該液体をオゾン処理する。液体は、水流
用モータ33により駆動される水流ファン35によっ
て、液体流入口31からオゾン処理室15に流入し、液
体排出口37から排出される。オゾン放出口29から放
出されたオゾンの大半は液体中に溶化するが、溶け込ま
ないものは気泡として液体中を通り抜け、隔壁11のオ
ゾン収集口17を通って再びオゾン形成室13に戻る。
なお、オゾン処理室15の液体流入口31は、オゾン処
理装置10外部の液面39よりも低い位置に置かれ、オ
ゾン放出口29より排出されたオゾンの気泡が該液体流
入口31から外部に出ることを防いでいる。
【0009】オゾン形成室13の頂部には、外部から空
気(酸素)を取り入れるための空気取り入口41が設け
られ、この空気取り入口41には、白金のメッシュから
なるオゾン還元触媒43が取り付けられている。
【0010】前述したようにオゾナイザー19により生
成されたオゾンは、オゾン放出口29から液体中に放出
され、オゾン収集口17を通ってオゾン形成室13に戻
るが、この循環を繰り返すことにより、オゾン形成室1
3内のオゾン濃度は次第に高まる。この時に、オゾン処
理室15内の液面49が波打つと、これにより生ずる圧
力によって、オゾン形成室13内のオゾンを含む空気が
空気取り入口41を通って外部に押し出されるが、該空
気中のオゾンは、オゾン還元触媒43により酸素に変換
され(203 →302 )、放出される空気はオゾンを含
まないものになっている。
【0011】尚、本実施例の空気取り入口41に前述し
た実開平2−8442号の逆流防止板を装着し、オゾン
処理装置内の減圧により逆流防止板が開き空気を導入
し、反対に圧力が高まることにより逆流防止板が空気取
り入口を塞ぐように構成することも考え得るが、本実施
例のオゾン処理装置10は液体に浸漬させて用いるため
次のような不具合がある。即ち、この構成を取った場合
は、液体のオゾン処理を行うために液中にオゾン処理装
置10を浸すときに、液体の圧力により逆流防止板が働
き、空気取り入口41から空気が逃げるのを妨ぐため、
オゾン処理室15内に被処理液が入りにくく動作開始が
困難である。これに対しオゾン還元触媒を用いる本実施
例は、空気取り入口41から空気が排出されるため、速
やかに被処理液をオゾン処理室15内に導入でき、直ち
に運転を開始することができる。
【0012】次に、オゾン還元触媒の別の実施例を図3
を参照して説明する。この実施例ではオゾン処理装置3
10の頂部310aの空気取り入口341に、ハニカム
状のオゾン還元触媒343が取り付けられている。この
ハニカム状のオゾン還元触媒343は、チタニア、シリ
カを基材としその表面に二酸化マンガンを塗布してな
る。オゾン処理装置310の内部からオゾンを含む空気
が漏出する際に、空気中のオゾンが該オゾン還元触媒3
43により酸素に還元され(203 →302 )、有害な
オゾンがオゾン処理装置310から漏れることが防がれ
る。
【0013】図4に更に別実施例に係るオゾン還元触媒
443を、オゾン処理装置410の頂部410a一部切
り欠き断面図に示す。この実施例では、オゾン処理装置
410の頂部410aに設けられた空気取り入口441
に、支持板451により保持さられた活性炭ケーシング
461が取り付けられている。活性炭ケーシング461
の上面461aと下面461bには図示しない微細な通
気孔が設けられ、内部には活性炭が充填されている。オ
ゾン処理装置410内部で発生したオゾンは、活性炭ケ
ーシング461の下面461bの通気孔を通り、活性炭
内でオゾンが酸素に還元され(203 →302 )、活性
炭ケーシング461の上面461aの通気孔を介して外
気中に放出される。なお、この実施例のオゾン還元触媒
433には、その上部に防水板457が、支柱459を
介して取り付けられ、上方からの空気取り入口441へ
の液体の侵入を防いでいる。
【0014】この実施例のオゾン還元触媒443のオゾ
ン処理装置410への着脱は次のように行う。活性炭ケ
ーシング461を保持している支持板451の四隅には
下方を指向する先端が球状になったピン455が設けら
れている。他方、空気取り入口441の端部441aは
階段状に形成されており、該端部441aには、前述の
ピン455と対応する位置に、通孔453aを有する突
片453が配設されている。オゾン還元触媒443のオ
ゾン処理装置410への取り付けは、空気取り入口44
1の階段状端部441aに適応するよう支持板451を
位置させ、下方に押し下げピン455を突片453の通
孔453aに挿通させることにより行う。また、オゾン
還元触媒443の取り外しは、支持板451を上方に引
き上げピン455を突片453の通孔453aから脱抜
することにより行う。本実施例のオゾン還元触媒443
は、長期の使用により活性炭の特性が劣化したら該オゾ
ン還元触媒443をオゾン処理装置410から外して、
水蒸気を通すことにより活性炭を活性させ再度使用する
ことができる。本実施例は、オゾン還元触媒443の交
換が容易であり、図1の白金を用いるものよりも安価に
オゾン還元触媒を提供できると言う利点がある。
【0015】図5を参照し本発明の別実施例を説明す
る。この実施例のオゾン処理装置は、浴槽内の入浴に供
された温水をオゾン処理し再使用するために用いるもの
であって、既存の浴槽に容易に適用できるように携帯型
に成っている。図5には、オゾン処理装置10の筐体5
0の断面図を示す。内部構造は図1に関連して示した実
施例と略同一であるので図示及び説明を省略し、更に図
1の実施例と共通性のある部材については同一の参照番
号を用いる。
【0016】筐体50の頂部には該オゾン処理装置10
の携帯を容易にするためのハンドル55が取り付けられ
ている。この筐体50は、隔壁11によりオゾン形成室
13とオゾン処理室15とに画成され、オゾン処理室1
5内には、仕切り板57a、57bにより空気室51
a、51bが形成されている。そして、筐体50の底板
53は圧肉構造になっている。本実施例のオゾン処理装
置10は、浴槽内に浮かべて用いる。このため、空気室
51a、51bの浮力が、浮かべられた状態で水面39
に対して液体流入口31を適切な位置に保つように調整
されており、そして、圧肉の底板53が、その自重によ
り錘の役割を果たし該オゾン処理装置10を浴槽内で安
定させるようになっている。
【0017】次に、本実施例のオゾン処理装置10の使
用方法について説明する。入浴後に、操作者はハンドル
55を握り該オゾン処理装置10を移動させ浴槽内に浮
かべる。そして、リード23を介して外部より電力を加
えることにより、図示しないオゾナイザーがオゾンを発
生し、発生されたオゾンがオゾン処理室15内で入浴に
供された温水に溶化してオゾン処理を行い、該温水を洗
浄し再度の使用に備える。尚、本発明のオゾン発生装置
は、オゾンの漏出がないため入浴中にも安全に使用で
き、浴槽に備付けて常時使用することも可能である。従
って、本実施例のオゾン処理装置を浴槽に配置しこれを
常時働かせ、これに更に湯温を常時適切に保つ加熱装置
を別途設けることにより、水の交換を行うことなく24
時間何時でも入浴できる浴槽施設を具現化できる。
【0018】図6を参照して本発明の更に別の実施例を
説明する。この実施例は、図5の実施例と同様に浴槽内
の温水をオゾン処理する携帯型オゾン処理装置である
が、図5の実施例は浴槽内に浮かべて使用するものであ
るのに対し、この実施例では、浴槽90の側壁90aに
吊着するように構成されている。図6において、オゾン
処理装置10の背面には、フック71がスライダ69に
より上下動可能に取り付けられており、オゾン処理装置
10と水面39との相対位置を調整可能にしている。そ
して、オゾン処理装置10の側面には、水位指示線73
が設けられている。このオゾン処理装置10の浴槽90
への取り付けは、フック71を浴槽90の側壁90aに
掛け、水位指示線73が浴室内の水位に合うようフック
71をスライダ69上で摺動させることにより行う。こ
れにより水面39と液体流入口31との適正な相対位置
が保たれ、所望の動作が可能になる。
【0019】この実施例のオゾン処理装置10は、スイ
ッチ67が図示しない内部のタイマに接続されており、
該スイッチを押すことによりタイマに設定された時間
(例えば12時間)オゾン処理を行うように構成されて
いる。操作者は、入浴後に該オゾン処理装置10を浴槽
90に取り付け、スイッチ67を押すことにより必要と
される温水の浄化処理が自動的に完了する。次回は、こ
のオゾン処理装置を浴槽から外し、水を代えることなく
加熱するだけで入浴が行える。尚、本実施例及び図5を
参照して説明したオゾン処理装置によれば、オゾンによ
り温水が洗浄されるため、浴槽の水を代えることなく何
度でも入浴できることは言うまでもない。また、これら
実施例のオゾン処理装置は、オゾンが漏出することがな
いため、浴室という限定された気密性のある空間で、且
つ人が近傍にいてもオゾン処理を安全に行い得るため、
浴用水の洗浄には最適である。
【0020】上述した実施例においては、被処理液中に
浸漬する形式のオゾン処理装置の例について説明した
が、本発明の装置を被処理液から離れた場所に設置する
こともできる。その場合には、図1に示した液体流入口
31と、液体排出口37とに、被処理液体を導入及び排
出させるパイプを接続させ、被処理液を循環させる。
【0021】なお、図5、図6の実施例では、浴槽内の
温水をオゾン処理する例について説明したが、本発明は
これに限定されるものでなく、汚水処理、オゾン水の製
造、水の浄化・殺菌等のオゾン処理、イケス・金魚鉢の
雑菌の発生防止、殺菌水の製造、更には水だけではな
く、牛乳・果実液の殺菌等広く液体のオゾン処理に用い
得るものである。
【0022】
【発明の効果】本発明は、以上説明した構成を有し、オ
ゾン形成室内のオゾン濃度が高まった状態において、オ
ゾン処理室内の液面が波打っち空気取り入れ口からオゾ
ンを含む空気が漏出するときも、空気取り入口に取り付
けられたオゾン還元触媒が空気中のオゾンを酸素に還元
するたる、オゾンが漏れることがないという優れた効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例の液体のオゾン処理装置の断面図
【図2】 図1のオゾナイザーの斜視図
【図3】 オゾン還元触媒の別実施例を示す斜視図
【図4】 オゾン還元触媒の更に別の実施例を示す一部
切り欠き断面図
【図5】 実施例の液体のオゾン処理装置の筐体の断面
【図6】 実施例の液体のオゾン処理装置の一部切り欠
き断面図
【符号の説明】
10 液体のオゾン処理装置 13 オゾン形成室 15 オゾン処理室 19 オゾナイザー 29 オゾン放出口 31 液体流入口 37 液体排出口 41 空気取り入口 43 オゾン還元触媒 341 空気取り入口 343 オゾン還元触媒 441 空気取り入口 443 オゾン還元触媒

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オゾンを発生するオゾン発生体と、発生
    したオゾンをオゾン処理すべき液体中に放出する放出口
    と、放出口から放出されたオゾンを収集する収集口とを
    設けてなるオゾン形成室と、 液体を流入させる流入口と、液体を排出させる排出口と
    を設けてなるオゾン処理室とを有し、 前記オゾン形成室と前記オゾン処理室とにより、放出口
    から放出されたオゾンが該流入口と排出口との間を通過
    する液体をオゾン処理した後にオゾン形成室に戻る様に
    してなるオゾン循環機構を形成する液体のオゾン処理装
    置において、 前記オゾン形成室に空気取り入口を設け、この空気取り
    入口にオゾン還元触媒を配設したことを特徴とする液体
    のオゾン処理装置。
JP26295092A 1992-09-04 1992-09-04 液体のオゾン処理装置 Pending JPH0679291A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0690131A1 (en) 1994-06-27 1996-01-03 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo Non-reducing saccharide and its production and use
US5892026A (en) * 1995-04-12 1999-04-06 Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo High Trehalose content syrup
JP2009231182A (ja) * 2008-03-25 2009-10-08 Panasonic Corp プラズマ発生装置

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