JPH067440B2 - Thin film shift register circuit - Google Patents
Thin film shift register circuitInfo
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- JPH067440B2 JPH067440B2 JP58170652A JP17065283A JPH067440B2 JP H067440 B2 JPH067440 B2 JP H067440B2 JP 58170652 A JP58170652 A JP 58170652A JP 17065283 A JP17065283 A JP 17065283A JP H067440 B2 JPH067440 B2 JP H067440B2
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は薄膜シフトレジスタ回路、特に周辺駆動回路内
蔵型アクティブマトリクス基板における薄膜シフトレジ
スタ回路に関する。The present invention relates to a thin film shift register circuit, and more particularly to a thin film shift register circuit in an active matrix substrate with a built-in peripheral drive circuit.
現在アクティブマトリクス基板としては、単結晶シリコ
ン基板上に設けたゲート線、データ線、該ゲート線と該
データ線の交点に設けたMOSトランジスタ及びMOS
トランジスタによる周辺駆動回路によるもの、もしく
は、絶縁基板上に設けたゲート線、データ線及び該ゲー
ト線と該データ線の交点に設けた薄膜トランジスタによ
るものが、活発に製作・試作されている。Currently, as an active matrix substrate, a gate line provided on a single crystal silicon substrate, a data line, a MOS transistor and a MOS provided at an intersection of the gate line and the data line.
A peripheral drive circuit using a transistor, or a gate line, a data line provided on an insulating substrate, and a thin film transistor provided at an intersection of the gate line and the data line have been actively manufactured and manufactured on a trial basis.
ところで、絶縁基板上に設けた薄膜トランジスタによる
アクティブマトリクス基板において、該アクティブマト
リクス基板を用いたアクティブマトリクス型結晶表示装
置の小型化、高性能化、低コスト化のため、該アクティ
ブマトリクス基板への薄膜トランジスタによる周辺駆動
回路内蔵が要求されている。By the way, in an active matrix substrate using thin film transistors provided on an insulating substrate, in order to reduce the size, increase the performance, and reduce the cost of the active matrix type crystal display device using the active matrix substrate, the thin film transistors on the active matrix substrate are used. Built-in peripheral drive circuits are required.
従来の単結晶シリコン基板上に設けたMOSトランジス
タによるシフトレジズタにおいては、ソースもしくはド
レイン部と基板との接合容量が存在し、配線容量も容易
に付加されるため、特に誤動作防止用容量を設ける必要
はなかった。第1図のその例を示す。同図において、1
00及び101はクロック線で、互いに逆相のクロック
信号が印加される。102はデータ入力端子、103は
電源線、110乃至113,120乃至123,130
乃至133等はMOSトランジスタ、114,124及
び134等はMOSトランジスタを用いたMOS容量、
115,125及び135等はそれぞれMOSトランジ
スタ及びMOS容量111及び114,121及び12
4,131及び134等のゲート、116,126,1
36等はシフトレジスタの出力端子で、同図は単チャネ
ルダイナミック型シフトレジスタの例である。第2図は
各部の電圧波形の例である。200及び201はそれぞ
れクロック線100及び101に印加するクロック信
号、202はデータ入力端子102に印加するデータ信
号、203はMOSトランジスタ111及びMOS容量
114のゲート115で観測される信号波形、204は
シフトレジスタ出力端子116で観測される信号波形、
205はMOSトランジスタ121及びMOS容量12
4のゲート125で観測される信号波形、206はシフ
トレジスタ出力端子126で観測される信号波形、20
7はMOSトランジスタ131及びMOS容量134の
ゲート135で観測される信号波形である。同図はPチ
ャネルダイナミックシフトレジスタを駆動している例で
ある。第1図において、MOSトランジスタ110乃至
113及びMOS容量114で、シフトレジスタ1ビッ
トが形成されている。ここで、MOSトランジスタ11
1等とMOS容量114等の共通ゲート115等に配線
容量が付加されず、111,114等のソースもしくは
ドレイン部と基板との接合容量がない状況を考える。M
OSトランジスタ111及びMOS容量114には、ソ
ースもしくはドレイン部とゲート部との重なり容量が存
在するが、第2図と時刻t4における動作を考えると、
クロック線100の電位はローからハイに立ち上がり、
MOSトランジスタ110は非導通となる。また、クロ
ック線101の電位はローとなり、115の電位は該重
なり容量のため、ローの電位まで下降する。すると、M
OSトランジスタ111が導通し、出力端子116の電
位が下降し、またMOSトランジスタ120は導通して
いるため、MOSトランジスタ121及びMOS容量1
24の共通ゲート125の電位が下降する。従ってt4
乃至t5の期間に出力端子116の電位はローとなる。
そしてt5乃至t6等の期間には出力端子126と、M
OSトランジスタ131及びMOS容量134の共通ゲ
ート135の電位が下降する。以上のようなメカニズム
で第1図シフトレジスタは誤動作してしまうが、実際は
MOSトランジスタ及びMOS容量の共通ゲート11
5,125,135等と電源(電源線103に供給する
電位の)間に配線容量が付加し、MOSトランジスタ及
びMOS容量のソースもしくはドレイン部と電源間に接
合容量が存在するため、t4乃至t5の期間等にMOS
トランジスタ及びMOS容量の共通ゲート115等の電
位降下を抑える。115等の電位降下分をVd、クロッ
クの電圧振幅をV、115と111及び114等との重
なり容量をCg、111及び114等のソースもしくは
ドレイン部と電源間との接合容量及び、115と電源間
に付加される配線容量の和をCsとすると、115等の
電位降下分VdはVd=Cg・V/(Cg+Cs)で表われ
る。よって前述の如き誤動作は起こらない。従って、従
来のMOSトランジスタによるシフトレジスタにおいて
は、Pn接合領域及び配線領域が誤動作防止用容量の役
割を果たしているため、特別に容量を設ける必要はなか
った。ところが、薄膜集積回路においては一般的に、基
板が絶縁されていて、Pn接合領域による容量がなく、
配線領域に容量が付加されない。In a conventional shift register using a MOS transistor provided on a single crystal silicon substrate, since there is a junction capacitance between the source or drain portion and the substrate and wiring capacitance is easily added, it is not necessary to provide a malfunction prevention capacitance. There wasn't. An example thereof is shown in FIG. In the figure, 1
Reference numerals 00 and 101 denote clock lines to which clock signals having opposite phases are applied. 102 is a data input terminal, 103 is a power supply line, 110 to 113, 120 to 123, 130
To 133 etc. are MOS transistors, 114, 124 and 134 etc. are MOS capacitors using MOS transistors,
115, 125, 135 and the like are MOS transistors and MOS capacitors 111 and 114, 121 and 12, respectively.
Gates such as 4,131 and 134, 116,126,1
36 and the like are output terminals of the shift register, and the figure is an example of a single-channel dynamic shift register. FIG. 2 is an example of the voltage waveform of each part. Reference numerals 200 and 201 are clock signals applied to the clock lines 100 and 101, 202 is a data signal applied to the data input terminal 102, 203 is a signal waveform observed at the gate 115 of the MOS transistor 111 and the MOS capacitor 114, and 204 is a shift. Signal waveform observed at register output terminal 116,
205 is a MOS transistor 121 and a MOS capacitor 12
4 is a signal waveform observed at the gate 125, 206 is a signal waveform observed at the shift register output terminal 126, 20
Reference numeral 7 is a signal waveform observed at the gate 135 of the MOS transistor 131 and the MOS capacitor 134. The figure shows an example of driving a P-channel dynamic shift register. In FIG. 1, one bit of a shift register is formed by the MOS transistors 110 to 113 and the MOS capacitor 114. Here, the MOS transistor 11
Consider a situation in which wiring capacitance is not added to the common gate 115 such as 1 and the MOS capacitor 114, and there is no junction capacitance between the source or drain portion such as 111 and 114 and the substrate. M
The OS transistor 111 and the MOS capacitor 114 have an overlapping capacitance of the source or drain portion and the gate portion. Considering the operation at time t 4 in FIG. 2,
The potential of the clock line 100 rises from low to high,
The MOS transistor 110 becomes non-conductive. Further, the potential of the clock line 101 becomes low, and the potential of 115 drops to the low potential because of the overlapping capacitance. Then M
Since the OS transistor 111 is conductive, the potential of the output terminal 116 is lowered, and the MOS transistor 120 is conductive, the MOS transistor 121 and the MOS capacitor 1
The potential of the common gate 125 of 24 drops. Therefore t 4
During the period from t 5 to t 5 , the potential of the output terminal 116 becomes low.
Then, during the period from t 5 to t 6, etc., the output terminal 126, M
The potential of the common gate 135 of the OS transistor 131 and the MOS capacitor 134 drops. Although the shift register of FIG. 1 malfunctions due to the above mechanism, in reality, the common gate 11 of the MOS transistor and the MOS capacitor is used.
5,125,135 and the like and a power supply (the potential supplied to the power supply line 103) wiring capacitance is added between, for MOS transistors and the source or drain portion and the junction capacitance between the source of the MOS capacitor is present, t 4 to MOS during t 5 etc.
The potential drop of the common gate 115 of the transistor and the MOS capacitor is suppressed. The potential drop of 115 and the like is Vd, the voltage amplitude of the clock is V, the overlapping capacitance of 115 and 111 and 114 and the like is Cg, the junction capacitance between the source or drain part and the power supply of 111 and 114 and the 115 and the power supply When the sum of wiring capacitances added between is Cs, the potential drop Vd of 115 or the like is expressed by Vd = Cg.V / (Cg + Cs). Therefore, the malfunction as described above does not occur. Therefore, in the conventional shift register using the MOS transistor, the Pn junction region and the wiring region play the role of the malfunction preventing capacitance, and it is not necessary to provide a special capacitance. However, in a thin film integrated circuit, the substrate is generally insulated, and there is no capacitance due to the Pn junction region,
No capacitance is added to the wiring area.
本発明の目的は、薄膜シフトレジスタ回路に容量を設
け、該容量により、薄膜シフトレジスタの誤動作を防止
し、高性能化を図り、該高性能薄膜シフトレジスタ回路
を、従来の薄膜トランジスタによるアクティブマトリク
ス基板へ内蔵することにある。An object of the present invention is to provide a capacitor in a thin film shift register circuit, prevent malfunction of the thin film shift register by the capacitor, and improve the performance. To be built into.
本発明の要旨は、層間絶縁膜等の絶縁薄膜を誘電体とし
て用い、誤動作防止用容量を特別に設けた点にある。The gist of the present invention is that an insulating thin film such as an interlayer insulating film is used as a dielectric and a malfunction preventing capacitance is specially provided.
以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples.
第3図及び第4図は本発明の実施例である。第3図にお
いて、300及び301はクロック線で、互いに逆相の
クロック信号が印加される。302はデータ入力端子、
303は電源線、310乃至313,320乃至32
3,330乃至333等は薄膜トランジスタ、314,
324及び334等は薄膜トランジスタを用いたMOS
容量、315,325,335等は薄膜トランジスタ及
びMOS容量311及び334等の共通ゲート、31
6,326及び336等はシフトレジスタの出力端子、
317,327及び337等は絶縁膜等を利用して設け
た誤動作防止用容量、318,328及び338等は電
源線303に供給される電位の電源であり、薄膜トラン
ジスタ310乃至313、MOS容量314、及び誤動
作防止用容量317とで、シフトレジスタ1ビットが形
成されている。第3図シフトレジスタの動作例は第1図
のものと同じく、第2図の通りである。3 and 4 show an embodiment of the present invention. In FIG. 3, reference numerals 300 and 301 denote clock lines, to which clock signals having opposite phases are applied. 302 is a data input terminal,
303 is a power supply line, 310 to 313, 320 to 32
3, 330 to 333, etc. are thin film transistors, 314,
324 and 334 are MOSs using thin film transistors
Capacitors 315, 325, 335, etc. are common gates of the thin film transistors and MOS capacitors 311 and 334, 31
6, 326 and 336 are output terminals of the shift register,
317, 327, 337 and the like are malfunction preventing capacitors provided by using an insulating film or the like, 318, 328, 338 and the like are power sources of the potential supplied to the power line 303, and are thin film transistors 310 to 313, MOS capacitors 314, Further, the malfunction prevention capacitor 317 forms one bit of the shift register. The operation example of the shift register of FIG. 3 is the same as that of FIG. 1, as shown in FIG.
第4図は本発明の構造の一例であり、薄膜トランジスタ
311等のチャネル部を、チャネル幅方向に切断した時
の断面図である。401は絶縁基板、402はチャネル
幅方向に切断された薄膜トランジスタのチャネル部、4
03はゲート酸化膜、404はゲート電極、405は層
間絶縁膜、406は電源線である。ゲート電極404、
層間絶縁膜405、電源線406とにより、誤動作防止
用容量が形成されている。FIG. 4 is an example of the structure of the present invention, and is a cross-sectional view of the channel portion such as the thin film transistor 311 taken along the channel width direction. 401 is an insulating substrate, 402 is a channel portion of a thin film transistor cut in the channel width direction, 4
Reference numeral 03 is a gate oxide film, 404 is a gate electrode, 405 is an interlayer insulating film, and 406 is a power supply line. Gate electrode 404,
The interlayer insulating film 405 and the power supply line 406 form a malfunction preventing capacitance.
第5図は本発明のもう一つの実施例である。第3図と同
一の記号は第3図と同一のものを表わす。510,51
2,520,522,530,532等は絶縁薄膜を利
用して設けた誤動作防止用容量、511,513,52
1,523,531,533等は電源線303に供給さ
れる電位の電源である。第5図において、薄膜トランジ
スタ310乃至313、MOS容量314、誤動作防止
用容量510及び512とで、シフトレジスタ1ビット
が形成されている。薄膜シフトレジスタ回路において、
欠陥が最も生じやすいのが誤動作防止用容量部で、これ
はゴミ等により絶縁薄膜部で上下短絡が起こるためであ
る。そして該誤動作防止用容量を並列に複数個設け、短
絡が起こった容量のみ切り離せるようにすればよく、歩
留りも向上する。そのため第5図では誤動作防止用容量
を1ビット中に2個並列に設けている。第5図シフトレ
ジスタの動作例も同様に第2図の通りである。FIG. 5 shows another embodiment of the present invention. The same symbols as those in FIG. 3 represent the same components as those in FIG. 510,51
2, 520, 522, 530, 532 and the like are malfunction preventing capacitors provided by using an insulating thin film, 511, 513, 52.
1, 523, 531, 533 and the like are power supplies of the potential supplied to the power supply line 303. In FIG. 5, one bit of the shift register is formed by the thin film transistors 310 to 313, the MOS capacitor 314, and the malfunction preventing capacitors 510 and 512. In the thin film shift register circuit,
Defects are most likely to occur in the malfunction preventing capacitance section because dust and the like cause a short circuit in the insulating thin film section. Then, a plurality of malfunction preventing capacitors may be provided in parallel so that only the short-circuited capacitors can be separated, and the yield is improved. Therefore, in FIG. 5, two malfunction preventing capacitors are provided in parallel in one bit. The operation example of the shift register of FIG. 5 is also as shown in FIG.
以上述べた如く、本発明を用いることにより、誤動作の
ない、高性能の薄膜シフトレジスタが実現され、高性能
かつ高歩留りの周辺駆動回路内蔵型アクティブマトリク
ス基板が実現される。As described above, by using the present invention, a high-performance thin film shift register without malfunction can be realized, and a high-performance and high-yield peripheral drive circuit-embedded active matrix substrate can be realized.
第1図は、単結晶シリコン基板上に設けたMOSトラン
ジスタによる、従来のシフトレジスタ回路の例を説明す
るための図。 第2図は、第1図シフトレジスタ各部の印加波形を示し
た図。 第3図及び第4図は本発明の実施例を説明するための
図。 第5図は本発明のもう一つの実施例を説明するための
図。FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a conventional shift register circuit including MOS transistors provided on a single crystal silicon substrate. FIG. 2 is a diagram showing an applied waveform to each part of the shift register shown in FIG. 3 and 4 are views for explaining an embodiment of the present invention. FIG. 5 is a diagram for explaining another embodiment of the present invention.
Claims (2)
薄膜トランジスタからなる薄膜シフトレジスタ回路にお
いて、 該薄膜シフトレジスタの各1ビットに対して、データ入
力信号線に接続された薄膜トランジスタの出力側端子に
並列に誤動作防止容量を形成したことを特徴とする薄膜
シフトレジスタ回路。1. A thin film shift register circuit comprising thin film transistors formed on an insulating substrate or an insulating thin film, wherein each 1 bit of the thin film shift register has an output side terminal of the thin film transistor connected to a data input signal line. A thin film shift register circuit characterized in that a malfunction preventing capacitance is formed in parallel with the thin film shift register circuit.
て並列に複数個形成したことを特徴とする特許請求の範
囲第1項に記載の薄膜シフトレジスタ回路。2. The thin film shift register circuit according to claim 1, wherein a plurality of the malfunction preventing capacitors are formed in parallel with the output terminal line.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58170652A JPH067440B2 (en) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | Thin film shift register circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58170652A JPH067440B2 (en) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | Thin film shift register circuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6061999A JPS6061999A (en) | 1985-04-09 |
JPH067440B2 true JPH067440B2 (en) | 1994-01-26 |
Family
ID=15908846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58170652A Expired - Lifetime JPH067440B2 (en) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | Thin film shift register circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH067440B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9011486B2 (en) | 2009-02-20 | 2015-04-21 | Covidien Lp | Systems for venous occlusion for the treatment of venous insufficiency |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW582005B (en) | 2001-05-29 | 2004-04-01 | Semiconductor Energy Lab | Pulse output circuit, shift register, and display device |
JP7408926B2 (en) * | 2019-06-05 | 2024-01-09 | セイコーエプソン株式会社 | Electro-optical devices and electronic equipment |
-
1983
- 1983-09-16 JP JP58170652A patent/JPH067440B2/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9011486B2 (en) | 2009-02-20 | 2015-04-21 | Covidien Lp | Systems for venous occlusion for the treatment of venous insufficiency |
Also Published As
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JPS6061999A (en) | 1985-04-09 |
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