JPH0672250B2 - 易可剥性レーザー光反射防止コーティング剤 - Google Patents
易可剥性レーザー光反射防止コーティング剤Info
- Publication number
- JPH0672250B2 JPH0672250B2 JP63014272A JP1427288A JPH0672250B2 JP H0672250 B2 JPH0672250 B2 JP H0672250B2 JP 63014272 A JP63014272 A JP 63014272A JP 1427288 A JP1427288 A JP 1427288A JP H0672250 B2 JPH0672250 B2 JP H0672250B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser light
- coating agent
- easy
- antireflection coating
- light antireflection
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- Expired - Lifetime
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- Laser Beam Processing (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、レーザー光を利用した切断、焼入れ、熔接等
を行うに際し、レーザー光の反射を防止するために加工
対象物に塗布する易可剥性レーザー光反射防止コーティ
ング剤に関する。
を行うに際し、レーザー光の反射を防止するために加工
対象物に塗布する易可剥性レーザー光反射防止コーティ
ング剤に関する。
近年レーザー光の優れた特性に着目し、これを切断、焼
入れ、熔接等の加工に利用することが広く行われてきて
いる。然るに、レーザー光線の出力の増加や性能の向上
に伴い、加工対象物から反射するレーザー光によって加
工機本体のミラー等が損傷したり、所望の加工精度が得
られないといった事態が生ずるに至った。
入れ、熔接等の加工に利用することが広く行われてきて
いる。然るに、レーザー光線の出力の増加や性能の向上
に伴い、加工対象物から反射するレーザー光によって加
工機本体のミラー等が損傷したり、所望の加工精度が得
られないといった事態が生ずるに至った。
そこで、レーザー光の反射を防止するために、加工対象
物に各種有機塗料や有機、無機の混合塗装剤等を塗布す
ることが行われている。
物に各種有機塗料や有機、無機の混合塗装剤等を塗布す
ることが行われている。
従来のレーザー光反射防止用の塗料等の場合、有機物を
主成分としているために、高熱によって塗膜の焼付きが
生じて剥離が困難となったり、カーボンブラックを用い
た場合には加工部以外の部分を汚染するといった問題が
ある。
主成分としているために、高熱によって塗膜の焼付きが
生じて剥離が困難となったり、カーボンブラックを用い
た場合には加工部以外の部分を汚染するといった問題が
ある。
本発明はこのような問題点を解決し、更に、不燃性で均
一な膜厚にて塗布することができ、以て焼入れ精度を向
上させ得る易可剥性レーザー光反射防止コーティング剤
を提供することを目的とするものである。
一な膜厚にて塗布することができ、以て焼入れ精度を向
上させ得る易可剥性レーザー光反射防止コーティング剤
を提供することを目的とするものである。
本発明は、粒子径が0.5μ〜30μの範囲のSiCの粉体を含
有することを特徴とする易可剥性レーザー光反射防止コ
ーティング剤を以て、上記課題を解決した。上記粉体は
エアゾール化し、あるいは、液分散したものを、ロボッ
ト等の機械的手段により又は手作業により加工対象物に
塗布する。レーザー加工後は、やはりロボット等の機械
的手段により又は手作業により、ブラシを用いて除去す
る。
有することを特徴とする易可剥性レーザー光反射防止コ
ーティング剤を以て、上記課題を解決した。上記粉体は
エアゾール化し、あるいは、液分散したものを、ロボッ
ト等の機械的手段により又は手作業により加工対象物に
塗布する。レーザー加工後は、やはりロボット等の機械
的手段により又は手作業により、ブラシを用いて除去す
る。
あるいは溶剤を用いて除去することとしてもよい。
本発明において用いるSiCは、粒子が一定の範囲内のも
のに限定されるために一定の膜厚に塗布することができ
る。
のに限定されるために一定の膜厚に塗布することができ
る。
本コーティング剤の塗布により、レーザービームの吸収
性が向上し、短時間の内に精度の高い焼入れ加工が可能
となる。
性が向上し、短時間の内に精度の高い焼入れ加工が可能
となる。
本発明者は、レーザー光の反射を極力抑え、塗膜の焼付
きが起こらず、剥離が容易で作業環境を汚染することな
く、更に、均一な厚さに塗布できるといった要求を満す
材料を求めて各種金属及びその酸化物、有機系分子材料
をテストした結果、粒子径が0.5μ〜30μの範囲のSiCの
粉体を、フロン11、フロン12、LPG、Ｎ、CO2、DME等の
単一又は混合ガスによりエアゾール化し、あるいは、フ
ロンＲ−113、ミネラルターペン若しくは水、アルコー
ル等によって液分散したものを加工対象物に噴霧した
り、刷毛、ウエス等で10μ〜30μの膜厚に塗布したもの
が最良の結果をもたらすことを見出した。ここにおいて
粒子径が0.5μ〜30μの範囲とするのは、0.5μ以下のも
のは製造が容易ではなく、実際に入手が困難であるから
であり、また、粒度分布が広くなって30μを超えるもの
を含む場合には、塗布膜上に粒子の凝集が起きやすく、
そのために分散状態が悪くなって均一に塗布することが
できず、塗膜のレベリングの低下を招いてしまうからで
ある。また、30μ以上の粒子を含む場合は、ロボットに
よる塗布に際してノズルの目詰りを起こしやすいという
問題もある。
きが起こらず、剥離が容易で作業環境を汚染することな
く、更に、均一な厚さに塗布できるといった要求を満す
材料を求めて各種金属及びその酸化物、有機系分子材料
をテストした結果、粒子径が0.5μ〜30μの範囲のSiCの
粉体を、フロン11、フロン12、LPG、Ｎ、CO2、DME等の
単一又は混合ガスによりエアゾール化し、あるいは、フ
ロンＲ−113、ミネラルターペン若しくは水、アルコー
ル等によって液分散したものを加工対象物に噴霧した
り、刷毛、ウエス等で10μ〜30μの膜厚に塗布したもの
が最良の結果をもたらすことを見出した。ここにおいて
粒子径が0.5μ〜30μの範囲とするのは、0.5μ以下のも
のは製造が容易ではなく、実際に入手が困難であるから
であり、また、粒度分布が広くなって30μを超えるもの
を含む場合には、塗布膜上に粒子の凝集が起きやすく、
そのために分散状態が悪くなって均一に塗布することが
できず、塗膜のレベリングの低下を招いてしまうからで
ある。また、30μ以上の粒子を含む場合は、ロボットに
よる塗布に際してノズルの目詰りを起こしやすいという
問題もある。
本発明に係るコーティング剤は、有機物を含まないか、
含んでいても極く少量である点に特徴があり、そのため
に塗膜の焼付きが起こらないと考えられる。即ち、主成
分のSiCの耐熱酸化温度は1700℃で、更に分解してSiO2、
CO2となるのは2000℃である。レーザーで焼入する場合
には1300℃〜1500℃の熱が発生するが、極く微量の有機
成分は分解してしまい、SiCは酸化分解温度に達しない
ので酸化分解せず、たとえ分解してもその分解物はSiO
とCO2であるため、焼付の原因とはならない。これに対
して有機物を主成分とする従来の塗膜の場合は、熱によ
ってカーボンが生成され、加工範囲の周辺部では塗膜の
加熱硬化が起り、焼付の原因となっている。
含んでいても極く少量である点に特徴があり、そのため
に塗膜の焼付きが起こらないと考えられる。即ち、主成
分のSiCの耐熱酸化温度は1700℃で、更に分解してSiO2、
CO2となるのは2000℃である。レーザーで焼入する場合
には1300℃〜1500℃の熱が発生するが、極く微量の有機
成分は分解してしまい、SiCは酸化分解温度に達しない
ので酸化分解せず、たとえ分解してもその分解物はSiO
とCO2であるため、焼付の原因とはならない。これに対
して有機物を主成分とする従来の塗膜の場合は、熱によ
ってカーボンが生成され、加工範囲の周辺部では塗膜の
加熱硬化が起り、焼付の原因となっている。
ところで、この塗膜の膜厚が不均一な場合には焼入れ深
さも不均一となり、精度の良い焼入れは望めない。この
点本コーティング剤においては、粒子径が限られた範囲
のSiCを用いるので、膜厚を均一に塗布することが容易
であり、以て焼入れ精度を高めることができるのであ
る。
さも不均一となり、精度の良い焼入れは望めない。この
点本コーティング剤においては、粒子径が限られた範囲
のSiCを用いるので、膜厚を均一に塗布することが容易
であり、以て焼入れ精度を高めることができるのであ
る。
次に、エアゾール処方の場合と液処方の場合との組成例
を示す。
を示す。
（エアゾール処方） wt％ SiC 1.0〜30.0 レベリング剤 0.1〜1.0 付着剤 1.0〜3.0 Gas ad100 （液処方） wt％ SiC 1.0〜30.0 レベリング剤 0.1〜1.0 付着剤 1.0〜3.0 溶剤 ad100 本発明に係るコーティング剤を焼入れに際して使用する
場合、加工対象物に塗布すると加工面の平滑性が損わ
れ、レーザー光は屈折して内部に透過し、反射度合が減
少する。その透過（吸収）の過程において熱交換、即
ち、光エネルギーの熱エネルギーへの変換がロスなく効
率よく行われ、加工精度を高めることができる。換言す
れば、本コーティング剤を塗布することにより、レーザ
ービームの吸収性を向上させることができ、以て短時間
の内に精度の高い焼入れ加工をすることができる。ま
た、その際加工表面のチル化も起こらず、高い硬度が得
られる。勿論反射率が低下するために、レーザー加工機
のミラーが損傷することもない。そして、殊に沸点の低
いフロンを含む場合は速乾性となり、塗布後直ちにレー
ザー加工することができ、SiC、フロンを含む場合は不
燃性となる。
場合、加工対象物に塗布すると加工面の平滑性が損わ
れ、レーザー光は屈折して内部に透過し、反射度合が減
少する。その透過（吸収）の過程において熱交換、即
ち、光エネルギーの熱エネルギーへの変換がロスなく効
率よく行われ、加工精度を高めることができる。換言す
れば、本コーティング剤を塗布することにより、レーザ
ービームの吸収性を向上させることができ、以て短時間
の内に精度の高い焼入れ加工をすることができる。ま
た、その際加工表面のチル化も起こらず、高い硬度が得
られる。勿論反射率が低下するために、レーザー加工機
のミラーが損傷することもない。そして、殊に沸点の低
いフロンを含む場合は速乾性となり、塗布後直ちにレー
ザー加工することができ、SiC、フロンを含む場合は不
燃性となる。
次に、加工対象物に、本コーティング剤を塗布すること
なく直接レーザー光を照射した場合と、本コーティング
剤を塗布した後照射した場合におけるそれぞれの実験デ
ータを掲げる。
なく直接レーザー光を照射した場合と、本コーティング
剤を塗布した後照射した場合におけるそれぞれの実験デ
ータを掲げる。
このデータは、レーザービーム円筒内焼入れを行う場合
であって、内径歪みが10ミクロン以下、加工幅が６〜6.
5mm、加工深さが0.5mmを目標値としてなされたものであ
る。
であって、内径歪みが10ミクロン以下、加工幅が６〜6.
5mm、加工深さが0.5mmを目標値としてなされたものであ
る。
この２つの実験から分かるとは、先ず、実験２の場合の
方が実験１の場合よりもはるかに高い硬度が得られたと
いうことである。このことは、本コーティング剤を用い
ることにより、レーザービームの吸収性が向上したこと
を示している。また、実験１の場合は、加工幅及び深さ
が目標値と大きな差があるが、実験２の場合はそれ程差
がない。このことから本コーティング剤を用いた場合に
は、レーザービームの反射が防止され、再反射にて加工
すべき個所の周囲まで加工されてしまうことがないこと
を理解できる。
方が実験１の場合よりもはるかに高い硬度が得られたと
いうことである。このことは、本コーティング剤を用い
ることにより、レーザービームの吸収性が向上したこと
を示している。また、実験１の場合は、加工幅及び深さ
が目標値と大きな差があるが、実験２の場合はそれ程差
がない。このことから本コーティング剤を用いた場合に
は、レーザービームの反射が防止され、再反射にて加工
すべき個所の周囲まで加工されてしまうことがないこと
を理解できる。
本発明は上述した通りであって、本コーティング剤は加
工対象物に均一な膜厚に塗布することができ、その塗布
によりレーザー光の反射を防止でき、以て焼入れ精度を
向上させることができ、しかも塗布及び剥離が容易なる
効果がある。
工対象物に均一な膜厚に塗布することができ、その塗布
によりレーザー光の反射を防止でき、以て焼入れ精度を
向上させることができ、しかも塗布及び剥離が容易なる
効果がある。
Claims (1)
- 【請求項１】粒子径が0.5μ〜30μの範囲のSiCの粉体を
含有することを特徴とする易可剥性レーザー光反射防止
コーティング剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63014272A JPH0672250B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 易可剥性レーザー光反射防止コーティング剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63014272A JPH0672250B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 易可剥性レーザー光反射防止コーティング剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01191738A JPH01191738A (ja) | 1989-08-01 |
| JPH0672250B2 true JPH0672250B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=11856453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63014272A Expired - Lifetime JPH0672250B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 易可剥性レーザー光反射防止コーティング剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0672250B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5007962A (en) * | 1989-09-19 | 1991-04-16 | Union Carbide Corporation | Boron nitride coatings |
| US5026422A (en) * | 1989-11-03 | 1991-06-25 | Union Carbide Coatings Service Technology Corporation | Powder coating compositions |
| JP5321157B2 (ja) * | 2009-03-10 | 2013-10-23 | 新日鐵住金株式会社 | 単結晶炭化珪素基板の加工方法 |
| JP2013081957A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Disco Corp | パシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法 |
| JP5839391B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2016-01-06 | 株式会社ディスコ | 半導体基板のアブレーション加工方法 |
| JP5839392B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2016-01-06 | 株式会社ディスコ | パシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法 |
| JP5888928B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2016-03-22 | 株式会社ディスコ | ダイアタッチフィルムのアブレーション加工方法 |
| JP5888927B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2016-03-22 | 株式会社ディスコ | ダイアタッチフィルムのアブレーション加工方法 |
| CN102492811B (zh) * | 2011-11-18 | 2013-06-12 | 宁海县盛源激光科技有限公司 | 一种激光淬火用光热转换涂料的制备方法 |
| CN102424897A (zh) * | 2011-11-19 | 2012-04-25 | 宁海县盛源激光科技有限公司 | 宽带激光强化处理张力轮表面的方法 |
| JP2014124646A (ja) * | 2012-12-25 | 2014-07-07 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザ加工方法および微粒子層形成剤 |
| JP2016027678A (ja) * | 2015-11-13 | 2016-02-18 | 株式会社ディスコ | アブレーション加工方法 |
| CN106191400B (zh) * | 2016-08-25 | 2018-01-16 | 河南中轴福漫锻造有限公司 | 抗氧化脱碳保护剂及其制备方法、和h13模具的热处理工艺 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56160894A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Coating agent for surface treatment |
| DD228906B1 (de) * | 1984-08-06 | 1989-12-06 | Adw Ddr | Verfahren zur festphasen-sequenzierung von nucleinsaeurefragmenten |
| JPS63264292A (ja) * | 1987-04-22 | 1988-11-01 | Nkk Corp | Ｃｏ↓２レ−ザ光吸収剤 |
-
1988
- 1988-01-25 JP JP63014272A patent/JPH0672250B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01191738A (ja) | 1989-08-01 |
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