JP5839391B2 - 半導体基板のアブレーション加工方法 - Google Patents
半導体基板のアブレーション加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5839391B2 JP5839391B2 JP2011221707A JP2011221707A JP5839391B2 JP 5839391 B2 JP5839391 B2 JP 5839391B2 JP 2011221707 A JP2011221707 A JP 2011221707A JP 2011221707 A JP2011221707 A JP 2011221707A JP 5839391 B2 JP5839391 B2 JP 5839391B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- semiconductor substrate
- wafer
- processing
- nitride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 36
- 238000002679 ablation Methods 0.000 title claims description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 31
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 22
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 22
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 22
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000003331 infrared imaging Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009372 YVO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
Images
Description
波長 :355nm(YAGレーザの第3高調波)
平均出力 :0.5〜10W
繰り返し周波数 :10〜200kHz
スポット径 :φ1〜10μm
送り速度 :10〜100mm/秒
T 粘着テープ(ダイシングテープ)
F 環状フレーム
D デバイス
2 レーザ加工装置
28 チャックテーブル
34 レーザビーム照射ユニット
36 集光器
80 微粉末含有液状樹脂
82 保護膜
84 レーザ加工溝
Claims (1)
- シリコンからなる半導体基板にレーザビームを照射してアブレーション加工を施す半導体基板のアブレーション加工方法であって、
少なくともアブレーション加工すべき半導体基板の領域にレーザビームの波長に対して吸収性を有する窒化物の微粉末を混入した液状樹脂を塗布して該微粉末入り保護膜を形成する保護膜形成工程と、
該保護膜形成工程を実施した後、該保護膜が形成された半導体基板の領域にレーザビームを照射してアブレーション加工を施すレーザ加工工程と、を備え、
前記窒化物の微粉末の平均粒径はレーザビームのスポット径より小さく、且つレーザビームのスポット径は10μm以下であり、
前記レーザビームの波長は355nm以下であり、前記窒化物の微粉末は、AlN、ZrN、HfN、六方晶BN及びTiNからなる群から選択された窒化物を含み、前記液状樹脂はポリビニルアルコールを含むことを特徴とする半導体基板のアブレーション加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011221707A JP5839391B2 (ja) | 2011-10-06 | 2011-10-06 | 半導体基板のアブレーション加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011221707A JP5839391B2 (ja) | 2011-10-06 | 2011-10-06 | 半導体基板のアブレーション加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013081948A JP2013081948A (ja) | 2013-05-09 |
JP5839391B2 true JP5839391B2 (ja) | 2016-01-06 |
Family
ID=48527718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011221707A Active JP5839391B2 (ja) | 2011-10-06 | 2011-10-06 | 半導体基板のアブレーション加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5839391B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0672250B2 (ja) * | 1988-01-25 | 1994-09-14 | 株式会社鈴木商館 | 易可剥性レーザー光反射防止コーティング剤 |
US6512198B2 (en) * | 2001-05-15 | 2003-01-28 | Lexmark International, Inc | Removal of debris from laser ablated nozzle plates |
JP4890746B2 (ja) * | 2004-06-14 | 2012-03-07 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
JP2008126302A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工装置及び保護膜被覆装置 |
-
2011
- 2011-10-06 JP JP2011221707A patent/JP5839391B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013081948A (ja) | 2013-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5839923B2 (ja) | パシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法 | |
JP6486240B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5888927B2 (ja) | ダイアタッチフィルムのアブレーション加工方法 | |
JP5839390B2 (ja) | アブレーション加工方法 | |
JP6347714B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5846764B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5846765B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5340807B2 (ja) | 半導体ウエーハの加工方法 | |
JP2013081947A (ja) | 半導体基板のアブレーション加工方法 | |
JP5888928B2 (ja) | ダイアタッチフィルムのアブレーション加工方法 | |
JP5839383B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5839391B2 (ja) | 半導体基板のアブレーション加工方法 | |
JP5885454B2 (ja) | パシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法 | |
JP2013081957A (ja) | パシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法 | |
JP2013081949A (ja) | 半導体基板のアブレーション加工方法 | |
JP6104352B2 (ja) | パシベーション膜が積層されたウエーハのアブレーション加工方法 | |
JP5839392B2 (ja) | パシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法 | |
JP5846834B2 (ja) | 金属板のアブレーション加工方法 | |
JP2016027678A (ja) | アブレーション加工方法 | |
JP2013082565A (ja) | ガラス基板のアブレーション加工方法 | |
JP2013081961A (ja) | パシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法 | |
JP2013081958A (ja) | パシベーション膜が積層された基板のアブレーション加工方法 | |
JP5846835B2 (ja) | ダイアタッチフィルムのアブレーション加工方法 | |
JP2013082563A (ja) | セラミックス基板のアブレーション加工方法 | |
JP2013082564A (ja) | セラミックス基板のアブレーション加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140912 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150804 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150928 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5839391 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |