JPH0671829B2 - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

光記録媒体の製造方法

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JPH0671829B2
JPH0671829B2 JP60001633A JP163385A JPH0671829B2 JP H0671829 B2 JPH0671829 B2 JP H0671829B2 JP 60001633 A JP60001633 A JP 60001633A JP 163385 A JP163385 A JP 163385A JP H0671829 B2 JPH0671829 B2 JP H0671829B2
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JP
Japan
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optical recording
recording medium
state
polymer
liquid crystalline
Prior art date
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JP60001633A
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JPS61160847A (ja
Inventor
敏彦 上野
豊一 中村
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光記録媒体に関するものである。
(従来技術とその問題点) レーザビームを集光レンズにより微小スポットに集光し
て光記録媒体面に集光して光記録媒体面に照射し光記録
媒体に光学的変化を生じせしめて情報を記録する光記録
媒体や光記録方式には種々のものが提案されている。
上記方式としては光照射により光記録媒体面に穴を形成
する方式が代表的であり、Te等の化合物が光記録媒体と
してよく合られている。一方、光記録媒体に穴を形成す
るのではなく、カルコゲナイト化合物の如き材料を用
い、材料相変化を通じ光学変化を生じせしめて情報を記
録する方式も提案されている。これら従来の光記録媒体
は蒸着等の技術により薄膜化されるが材料、製造的にコ
ストが高い欠点を有する。簡便な製造で、かつコスト的
にも安い光記録媒体あるいは光記録方式が強の望まれて
いる。
(発明の目的) 本発明の目的は製造的にも極めて簡単であり、かつ安価
で新規な記録材料を用いた光記録媒体の製造方法を提供
することにある。
(発明の構成) 本発明は、液晶性高分子薄膜を一定方向にずり応力を与
える事によって一軸方向に配列させることを特徴とした
光記録媒体の製造方法である。
(発明の作用・原理) 本発明に用いる液晶性高分子としてはサーモトロピック
液晶性を示す材料が用いる事ができ本発明ではメタクル
レートポリマー、又はシロキサンポリマー等の主鎖ポリ
マーに(CH2)nの如きフレキシブルスペーサを介し、
液晶性を示すメソゲン低分子を付加したいわゆる付加型
液晶性高分子を用いている。
液晶性高分子の薄膜化は例えばガラス、もしくはプラス
チックならなる一対の基板間に前記液晶性高分子材料を
挾み、加熱加圧成形する事で薄膜化することができる。
あるいは、あらかじめフィルム化しておき、それを用い
てもよい。
前記液晶性高分子薄膜を一定方向に均一配向化させるた
めには上記の如く一対の基板間に挾まれた場合は前記基
板間に一定方向にずり応力を与える事でずり応力方向に
主鎖ポリマーが一定に配列した状態を得る事ができる。
又、フィルム状の場合は一軸方向に延伸することで延伸
方向に主鎖ポリマーが配列した状態を得る事ができる。
第1図は本発明の動作原理を理解するための直線偏光に
対する液晶性高分子薄膜の光透過率の温度依存性を示
す。第1図において曲線10は配列処理を施こさない状態
の前記薄膜の特性を示す。曲線20,30は上記の如き処理
を行ない一定方向に配列処理を処こした前記薄膜の特性
であり、前記主鎖ポリマー配列方向(即ち、ずり応力印
加方向又は一軸延伸方向)と直線偏光の方向が20は平
行、30は直交の場合に対応する。第1図から配列処理を
施こさない状態は極めて散乱が強く光透過率が低い状態
にある。一方、配列処理を施こした場合は、散乱が少な
くなり透過率が上昇する。更に上記配列処理を処こした
場合は、明らかな上記主鎖ポリマー配列方向と直線偏光
のなす角度により、透過光量が異なり、主鎖ポリマー配
列方向に平行な直線偏光が入射した時に透過率が最も高
くなり、最も透明な状態が得られる。
これは液晶性高分子の特異配列状態に寄因するものと思
われるが詳細は不明である。温度上昇につれて液晶性高
分子が等方性高分子へ相転移する温度(ガラス転移点)
に達すると、いずれの状態も初期配列状態は解消されい
わゆる光学的には透明なガラス状態Cになる。このC状
態から冷却すると散乱状態Bになる。
従って、液晶状態を示す温度領域で最初配列された状態
Aに設定しておけば、光照射により、ガラス転移点以上
に加熱してC状態を経て、レーザ照射除去により急冷す
ると、前記媒体は散乱状態Bになり、情報を書き込むこ
とが可能となる。
この時、初期の配列方向の直線偏光を用いると前記初期
状態と書き込まれた状態の透過光量変化は大きくSN高で
情報を読み出す事ができる。
前記初期状態と情報が書き込まれた状態間の検出信号レ
ベル差(即ち、高S/N化)を大きくするには、前記液晶
性高分子中に検出光の波長領域で分子長軸方向へ正の吸
収異方性を示す色素材料を添加もしくは付加するのが効
果的である。
第1図において、10′、20′、30′、で示した特性は二
色性色素を添加した液晶性高分子の特性であり、各状態
A、B、CはA′、B′、C′、になる。ここで言える
のは、色素添加により、散乱状態Bの透過率は色素によ
る吸収が重量されるためB′になる。一方、透明状態A
はあまり吸収による透過率レベル低下はない状態A′に
なり、結果的にA′、B′状態のコントラストは高くな
り、高S/N検出が可能となる。
これは、詳細は不明であるが、主鎖ポリマー配列方向に
対し垂直方向にペンダント液晶部が配列し、液晶部と平
行に色素分子も配列すると考えれば、前記傾向は説明で
きる。
(実施例1) 第2図に、実施例1に用いた光記録媒体の構造を示す。
1はガラス又はプラスチックからなる基板である。2は
液晶性高分子薄膜から成る記録層であり、120℃程度に
基板間で加熱し、ガラス状態で加圧する事で10μm程度
に均一薄膜化し、徐冷することで形成した。配列化する
事は、第3図の如く両基板を一定方向にずらしずり応力
を与えることで行った。この時は光記録媒体は透明にな
る。
上記の如く調整された媒体をガラス転移点より5〜50℃
程度低い温度に設定し、700〜900nmの近赤外領域に発光
波長を有する半導体レーザにより1〜50mWの光照射エネ
ルギーで照射した。
照射後の光記録媒体には散乱状態が得られ、前記配列方
向に偏光波面を有する直線偏光に対する検出光量は顕著
に異なり上記配列状態とは容易に区別できた。
以上の実施例では液晶性高分子材料を透明基板で挾んだ
構造としたが、一方の基板を無くして1つの基板上に液
晶性高分子フィルムを形成した構造、あるいはさらに反
射層、保護層等を付加した構造としてもよい。また前述
したようにSNをさらに良くする目的で色素を添加したも
のを用いてもよい。色素を添加する方法は通常の液晶表
示素子に適用されている方法を用いることで実現でき
る。
(発明の効果) 本発明は、記録層に液晶性高分子材料を用いたいるため
材料コストが安く、また作製が簡単なため光記録媒体コ
スト従来のものに比べて格段に安く作製できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理を示す偏光透過率の温度依存性を
示す図。 第2図は本発明の一実施例を示す模式図である。 第3図は均一配向を得るための一実施例であるずり応力
を与える方向を示す図である。 第2図において、1は基板、2は液晶性高分子薄膜であ
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】液晶性高分子が一対の支持体に狭持され、
    前記一対の支持体間に一定方向のずり応力を与える事で
    液晶性高分子の主鎖ポリマーを一軸方向に配列させるこ
    とを特徴とする光記録媒体の製造方法。
JP60001633A 1985-01-09 1985-01-09 光記録媒体の製造方法 Expired - Lifetime JPH0671829B2 (ja)

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JP60001633A JPH0671829B2 (ja) 1985-01-09 1985-01-09 光記録媒体の製造方法

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JPS61160847A JPS61160847A (ja) 1986-07-21
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2767791B2 (ja) * 1987-02-04 1998-06-18 ソニー株式会社 可逆的記録材料及びその記録方法
DE3704146A1 (de) * 1987-02-11 1988-09-29 Basf Ag Laseroptisches schreib- und leseverfahren
JP2571623B2 (ja) * 1989-06-02 1997-01-16 出光興産株式会社 液晶材料の配向方法
JP2904034B2 (ja) * 1994-10-20 1999-06-14 富士ゼロックス株式会社 高分子液晶を用いる情報記録媒体

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