JPH0670016B2 - （＋）−ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法 - Google Patents
（＋）−ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法Info
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- JPH0670016B2 JPH0670016B2 JP3286090A JP28609091A JPH0670016B2 JP H0670016 B2 JPH0670016 B2 JP H0670016B2 JP 3286090 A JP3286090 A JP 3286090A JP 28609091 A JP28609091 A JP 28609091A JP H0670016 B2 JPH0670016 B2 JP H0670016B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、鎮咳薬デキストロメト
ルファンの合成中間体として有用な（＋）−Ｎ−ホルミ
ル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，
３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの
製造方法に関するものである。
ルファンの合成中間体として有用な（＋）−Ｎ−ホルミ
ル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，
３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、多くの遷移金属錯体が有機合成反
応の触媒として使用されている。特に貴金属錯体は高価
ではあるが、安定で取扱いが容易であるため、これを触
媒として使用する多くの合成研究がなされており、特
に、不斉合成すなわち不斉異性化反応、不斉水素化反応
などに用いられる不斉触媒について多くの報告がなされ
ている。特にロジウム金属と光学活性な第三級ホスフィ
ンによる金属錯体は不斉水素化反応の触媒として良く知
られており、たとえば、２，２′−ビス（ジフェニルホ
スフィノ）−１，１′−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰ
という）を配位子としたロジウム−ホスフィン触媒が報
告されている（特開昭５５−６１９３７号公報）。
応の触媒として使用されている。特に貴金属錯体は高価
ではあるが、安定で取扱いが容易であるため、これを触
媒として使用する多くの合成研究がなされており、特
に、不斉合成すなわち不斉異性化反応、不斉水素化反応
などに用いられる不斉触媒について多くの報告がなされ
ている。特にロジウム金属と光学活性な第三級ホスフィ
ンによる金属錯体は不斉水素化反応の触媒として良く知
られており、たとえば、２，２′−ビス（ジフェニルホ
スフィノ）−１，１′−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰ
という）を配位子としたロジウム−ホスフィン触媒が報
告されている（特開昭５５−６１９３７号公報）。
【０００３】また、ロジウム錯体に比べて、ルテニウム
錯体に関する報告は少ないが、ＢＩＮＡＰ及び２，２′
−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１′−ビナ
フチル（以下、Ｔ−ＢＩＮＡＰという）を配位子とした
Ｒｕ2Ｃｌ4（ＢＩＮＡＰ）2（ＮＥｔ3）（以下、Ｅｔは
エチル基を表わす）、Ｒｕ2Ｃｌ4（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）2
（ＮＥｔ3）のルテニウム錯体が発表されている（Ikari
ya ら；J. Chem.Soc., Chem. Commun.,（１９８５）
ｐ．９２２）。また、Ｒｕ（Ｏ2ＣＨ3）2（ＢＩＮＡ
Ｐ）のルテニウム錯体を用いたアリルアルコールの不斉
水素化反応（Noyoriら；J.Am.Chem. Soc.,１０９（１９
８７）ｐ．１５９６）及びイソキノリン型アルカロイド
の不斉水素化反応（Noyoriら；J.Am.Chem. Soc.,１０８
（１９８６）ｐ．７１１７）が発表されている。また、
［Ｒｕ（ＢＩＮＡＰ）］Ｘ2（ここにおけるＸは、Ｃｌ
Ｏ4，ＢＦ6またはＰＦ6を表わす）は、H.Takayaらによ
りJ. Org. Chem.,５２（１９８７）ｐ．３１７４−３１
７６に発表されている。しかしながら、これらのルテニ
ウム錯体は、触媒活性及びその持続性について充分であ
るとは言えない。
錯体に関する報告は少ないが、ＢＩＮＡＰ及び２，２′
−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１′−ビナ
フチル（以下、Ｔ−ＢＩＮＡＰという）を配位子とした
Ｒｕ2Ｃｌ4（ＢＩＮＡＰ）2（ＮＥｔ3）（以下、Ｅｔは
エチル基を表わす）、Ｒｕ2Ｃｌ4（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）2
（ＮＥｔ3）のルテニウム錯体が発表されている（Ikari
ya ら；J. Chem.Soc., Chem. Commun.,（１９８５）
ｐ．９２２）。また、Ｒｕ（Ｏ2ＣＨ3）2（ＢＩＮＡ
Ｐ）のルテニウム錯体を用いたアリルアルコールの不斉
水素化反応（Noyoriら；J.Am.Chem. Soc.,１０９（１９
８７）ｐ．１５９６）及びイソキノリン型アルカロイド
の不斉水素化反応（Noyoriら；J.Am.Chem. Soc.,１０８
（１９８６）ｐ．７１１７）が発表されている。また、
［Ｒｕ（ＢＩＮＡＰ）］Ｘ2（ここにおけるＸは、Ｃｌ
Ｏ4，ＢＦ6またはＰＦ6を表わす）は、H.Takayaらによ
りJ. Org. Chem.,５２（１９８７）ｐ．３１７４−３１
７６に発表されている。しかしながら、これらのルテニ
ウム錯体は、触媒活性及びその持続性について充分であ
るとは言えない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ロジウム金属はすぐれ
た錯体触媒用の金属であるが、生産地及び生産量が限ら
れており、その価格も高価なものであり、これを触媒と
して用いる場合にはその製品価格中に占めるロジウムの
価格の割合が大きくなり、商品の製造原価に影響を与え
る。これに対しルテニウム金属はロジウム金属に比して
安価であり、工業的に有利な触媒として期待されるが、
反応の精密化及び応用の点で問題が残されている。従っ
て、安価で、活性度が高く、かつ持続性があり、しかも
不斉反応における高い不斉収率、すなわち生成物の光学
純度の高いものを得ることのできる触媒が要求されてい
た。 一方、（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェ
ニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オ
クタヒドロイソキノリンは、鎮咳薬として用いられるデ
キストロメトルファンの合成中間体として有用であり、
これは一般に（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキ
シフェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキ
サヒドロイソキノリンを不斉水素化して合成されてい
る。しかし、従来の不斉水素化反応の不斉収率、得られ
た生成物の光学純度は未だ充分満足できるものではなか
った。
た錯体触媒用の金属であるが、生産地及び生産量が限ら
れており、その価格も高価なものであり、これを触媒と
して用いる場合にはその製品価格中に占めるロジウムの
価格の割合が大きくなり、商品の製造原価に影響を与え
る。これに対しルテニウム金属はロジウム金属に比して
安価であり、工業的に有利な触媒として期待されるが、
反応の精密化及び応用の点で問題が残されている。従っ
て、安価で、活性度が高く、かつ持続性があり、しかも
不斉反応における高い不斉収率、すなわち生成物の光学
純度の高いものを得ることのできる触媒が要求されてい
た。 一方、（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェ
ニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オ
クタヒドロイソキノリンは、鎮咳薬として用いられるデ
キストロメトルファンの合成中間体として有用であり、
これは一般に（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキ
シフェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキ
サヒドロイソキノリンを不斉水素化して合成されてい
る。しかし、従来の不斉水素化反応の不斉収率、得られ
た生成物の光学純度は未だ充分満足できるものではなか
った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者はこのような工
業界の要請にこたえるべく研究を重ねた結果、触媒活性
度が高い新規なルテニウム錯体を用いて不斉水素化を行
えば、高選択率かつ高純度で（＋）−Ｎ−ホルミル−１
−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンを製造
することができることを見出し、ここに本発明を完成し
た。 本発明の製造方法は次の反応式で示される。
業界の要請にこたえるべく研究を重ねた結果、触媒活性
度が高い新規なルテニウム錯体を用いて不斉水素化を行
えば、高選択率かつ高純度で（＋）−Ｎ−ホルミル−１
−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンを製造
することができることを見出し、ここに本発明を完成し
た。 本発明の製造方法は次の反応式で示される。
【０００６】
【化４】
【０００７】
【化５】
【０００８】で表わされる三級ホスフィンを意味し、Ｒ
は水素原子またはメチル基を意味し、ＭはＺｎ，Ａｌ，
ＴｉまたはＳｎを意味し、ＸはＮ（Ｃ2Ｈ5）3またはＣ
Ｈ3ＣＯ2を意味し、ＸがＮ（Ｃ2Ｈ5）3の場合、ｌが
２、ｍが１であり、かつＭがＺｎのときはｋが４、Ａｌ
のときはｋが５、ＴｉまたはＳｎのときはｋが６であ
り、ＸがＣＨ3ＣＯ2の場合、ｌが１、ｍが２であり、か
つＭがＺｎのときはｋが２、Ａｌのときはｋが３、Ｔｉ
またはＳｎのときはｋが４である〕 すなわち、本発明は式（２）で表わされる（Ｚ）−Ｎ−
ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−
３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリン
を、一般式（３）で表わされるルテニウム−ホスフィン
錯体の存在下、不斉水素化することを特徴とする式
（１）で表わされる（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−
メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法を提
供するものである。
は水素原子またはメチル基を意味し、ＭはＺｎ，Ａｌ，
ＴｉまたはＳｎを意味し、ＸはＮ（Ｃ2Ｈ5）3またはＣ
Ｈ3ＣＯ2を意味し、ＸがＮ（Ｃ2Ｈ5）3の場合、ｌが
２、ｍが１であり、かつＭがＺｎのときはｋが４、Ａｌ
のときはｋが５、ＴｉまたはＳｎのときはｋが６であ
り、ＸがＣＨ3ＣＯ2の場合、ｌが１、ｍが２であり、か
つＭがＺｎのときはｋが２、Ａｌのときはｋが３、Ｔｉ
またはＳｎのときはｋが４である〕 すなわち、本発明は式（２）で表わされる（Ｚ）−Ｎ−
ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−
３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリン
を、一般式（３）で表わされるルテニウム−ホスフィン
錯体の存在下、不斉水素化することを特徴とする式
（１）で表わされる（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−
メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法を提
供するものである。
【０００９】本発明において用いられるルテニウム−ホ
スフィン錯体（３）は、Ｒｕ2Ｃｌ4（（−）−Ｒ−ＢＩ
ＮＡＰ）2ＮＥｔ3あるいはＲｕ（ＣＨ3ＣＯ2）
2（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）を原料として製造するこ
とができる。
スフィン錯体（３）は、Ｒｕ2Ｃｌ4（（−）−Ｒ−ＢＩ
ＮＡＰ）2ＮＥｔ3あるいはＲｕ（ＣＨ3ＣＯ2）
2（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）を原料として製造するこ
とができる。
【００１０】原料のＲｕ2Ｃｌ4（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡ
Ｐ）2ＮＥｔ3は、Ikariya ら；J. Chem.Soc., Chem. Co
mmun.,（１９８５）ｐ．９２２、及び特開昭６１−６３
６９０号で開示されている方法により得ることができ
る。すなわち、ルテニウムクロライドとシクロオクタ−
１，５−ジエン（以下、ＣＯＤと略す）をエタノール溶
液中で反応させることにより得られる［ＲｕＣｌ2（Ｃ
ＯＤ）］n １モルと、（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ １．
２モルをトリエチルアミン４モルの存在下、トルエン、
エタノール等の溶媒中で加熱反応させることにより得ら
れる。
Ｐ）2ＮＥｔ3は、Ikariya ら；J. Chem.Soc., Chem. Co
mmun.,（１９８５）ｐ．９２２、及び特開昭６１−６３
６９０号で開示されている方法により得ることができ
る。すなわち、ルテニウムクロライドとシクロオクタ−
１，５−ジエン（以下、ＣＯＤと略す）をエタノール溶
液中で反応させることにより得られる［ＲｕＣｌ2（Ｃ
ＯＤ）］n １モルと、（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ １．
２モルをトリエチルアミン４モルの存在下、トルエン、
エタノール等の溶媒中で加熱反応させることにより得ら
れる。
【００１１】得られたＲｕ2Ｃｌ4（（−）−Ｒ−ＢＩＮ
ＡＰ）2ＮＥｔ3と、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、四塩
化チタン、四塩化スズのうちより選ばれたルイス酸の１
種とを、塩化メチレンのごとき溶媒中で、１０〜２５℃
の温度で２〜２０時間反応せしめた後、溶媒を留去し、
乾固すればルテニウム−ホスフィン錯体（３）が得られ
る。
ＡＰ）2ＮＥｔ3と、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、四塩
化チタン、四塩化スズのうちより選ばれたルイス酸の１
種とを、塩化メチレンのごとき溶媒中で、１０〜２５℃
の温度で２〜２０時間反応せしめた後、溶媒を留去し、
乾固すればルテニウム−ホスフィン錯体（３）が得られ
る。
【００１２】もう一つの原料のＲｕ（ＣＨ3ＣＯ2）
2（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）は、さきに本発明者らが
出願した特願昭６１−１０８８８８号の方法により得ら
れる。すなわち、上記方法により得られるＲｕ2Ｃｌ
4（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）2ＮＥｔ3を原料とし、こ
れと酢酸ソーダをメタノール、エタノール、ｔ−ブタノ
ール等のアルコール溶媒中で、約２０〜１１０℃の温度
で３〜１５時間反応させた後、溶媒を留去して、エーテ
ル、エタノール等の溶媒で目的の錯体を抽出した後、乾
固すれば粗製の錯体が得られる。更に酢酸エチル等で再
結晶して精製品を得ることができる。
2（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）は、さきに本発明者らが
出願した特願昭６１−１０８８８８号の方法により得ら
れる。すなわち、上記方法により得られるＲｕ2Ｃｌ
4（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）2ＮＥｔ3を原料とし、こ
れと酢酸ソーダをメタノール、エタノール、ｔ−ブタノ
ール等のアルコール溶媒中で、約２０〜１１０℃の温度
で３〜１５時間反応させた後、溶媒を留去して、エーテ
ル、エタノール等の溶媒で目的の錯体を抽出した後、乾
固すれば粗製の錯体が得られる。更に酢酸エチル等で再
結晶して精製品を得ることができる。
【００１３】得られたＲｕ（ＣＨ3ＣＯ2）2（（−）−
Ｒ−ＢＩＮＡＰ）と、上記のルイス酸の１種を、塩化メ
チレンのごとき溶媒中で、１０〜２５℃の温度で２〜２
０時間反応せしめた後、溶媒を留去し、乾固すればルテ
ニウム−ホスフィン錯体（３）が得られる。
Ｒ−ＢＩＮＡＰ）と、上記のルイス酸の１種を、塩化メ
チレンのごとき溶媒中で、１０〜２５℃の温度で２〜２
０時間反応せしめた後、溶媒を留去し、乾固すればルテ
ニウム−ホスフィン錯体（３）が得られる。
【００１４】かくして得られるルテニウム−ホスフィン
錯体（３）は不斉水素化反応等の触媒として優れた性能
を有するものである。
錯体（３）は不斉水素化反応等の触媒として優れた性能
を有するものである。
【００１５】ルテニウム−ホスフィン錯体（３）を触媒
として用いる化合物（２）の不斉水素化反応は、後記実
施例に示すように通常の不斉水素化反応と同様にして実
施することができる。すなわち、例えば無水メタノール
等の溶媒中、化合物（２）に対し１／３００〜１／２０
００モル程度のルテニウム−ホスフィン錯体（３）を加
え水素化すればよい。
として用いる化合物（２）の不斉水素化反応は、後記実
施例に示すように通常の不斉水素化反応と同様にして実
施することができる。すなわち、例えば無水メタノール
等の溶媒中、化合物（２）に対し１／３００〜１／２０
００モル程度のルテニウム−ホスフィン錯体（３）を加
え水素化すればよい。
【００１６】（Ｚ）−Ｎ−アシル−１−（４−メトキシ
フェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサ
ヒドロイソキノリンなどのエナミドの不斉水素化におい
て、日本化学会春季年会昭和６１年４月２日Ｚ１１１Ｌ
４３に発表されているＲｕ（ＣＨ3ＣＯ2）2（ＢＩＮＡ
Ｐ）錯体では、不斉収率は高い（９８％ｅｅ）が、触媒
活性は基質／触媒＝１００である。これに対して、本発
明に用いられるルテニウム−ホスフィン錯体（３）は非
常に高い触媒活性を示し、基質に対し１／３００〜１／
２０００モル濃度の錯体で反応が速やかに進行し、生成
する水素化物は、ほぼ１００％の選択性で目的物を与え
るという優れた点を有する。また生成する光学活性アミ
ドの光学純度は、９０〜９５％となり工業的触媒として
非常に優れた成績を示す。 尚、本発明において用いられるルテニウム−ホスフィン
錯体（３）の配位子である（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰのか
わりに、その光学異性体である（＋）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ
を配位子とする一般式（５） ［Ｒｕ（（＋）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）ＭＣｌk］lＸm
（５） 〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰ，Ｍ，Ｘ，ｋ，ｌ及びｍは前記
と同じ意味を示す〕で表わされるルテニウム−ホスフィ
ン錯体を用いて、本発明と同様の方法で（Ｚ）−Ｎ−ホ
ルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−３，
４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリンを不斉
水素化すれば、（−）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メト
キシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，
７，８−オクタヒドロイソキノリンを得ることができる
が、この化合物を合成中間体として得ることができるレ
ボメトルファンは、鎮痛、呼吸抑制及び鎮咳作用を有す
る麻薬である。
フェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサ
ヒドロイソキノリンなどのエナミドの不斉水素化におい
て、日本化学会春季年会昭和６１年４月２日Ｚ１１１Ｌ
４３に発表されているＲｕ（ＣＨ3ＣＯ2）2（ＢＩＮＡ
Ｐ）錯体では、不斉収率は高い（９８％ｅｅ）が、触媒
活性は基質／触媒＝１００である。これに対して、本発
明に用いられるルテニウム−ホスフィン錯体（３）は非
常に高い触媒活性を示し、基質に対し１／３００〜１／
２０００モル濃度の錯体で反応が速やかに進行し、生成
する水素化物は、ほぼ１００％の選択性で目的物を与え
るという優れた点を有する。また生成する光学活性アミ
ドの光学純度は、９０〜９５％となり工業的触媒として
非常に優れた成績を示す。 尚、本発明において用いられるルテニウム−ホスフィン
錯体（３）の配位子である（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰのか
わりに、その光学異性体である（＋）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ
を配位子とする一般式（５） ［Ｒｕ（（＋）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）ＭＣｌk］lＸm
（５） 〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰ，Ｍ，Ｘ，ｋ，ｌ及びｍは前記
と同じ意味を示す〕で表わされるルテニウム−ホスフィ
ン錯体を用いて、本発明と同様の方法で（Ｚ）−Ｎ−ホ
ルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−３，
４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリンを不斉
水素化すれば、（−）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メト
キシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，
７，８−オクタヒドロイソキノリンを得ることができる
が、この化合物を合成中間体として得ることができるレ
ボメトルファンは、鎮痛、呼吸抑制及び鎮咳作用を有す
る麻薬である。
【００１７】
【実施例】次に参考例及び実施例によって、本発明を詳
しく説明する。
しく説明する。
【００１８】 参考例１ ［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）ＳｎＣｌ6］2ＮＥｔ
3（ビス〔ルテニウム（２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリ
ルホスフィノ）−１，１′−ビナフチル）ヘキサクロロ
チン〕トリエチルアミン）の合成： Ｒｕ2Ｃｌ4（（−）−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）2ＮＥｔ3 ０．
５２ｇ（０．３ミリモル）を８０mlのシュレンク管に入
れ、充分窒素置換を行ってから、塩化メチレン２０ml
と、ＳｎＣｌ4 ０．１６ｇ（０．６ミリモル）を加
え、室温にて１５時間かき混ぜた。反応終了後、減圧下
で塩化メチレンを留去して、乾固したところ、濃褐色の
［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）ＳｎＣｌ6］2ＮＥｔ
3 ０．６８ｇを得た。収率１００％。 元素分析値：Ｃ102Ｈ95Ｃｌ12ＮＰ4Ｓｎ2Ｒｕ2 Ｐ Ｃ Ｈ Ｃｌ 実測値（％） ５．９１ ５３．４８ ４．３６ １７．５６ 理論値（％） ５．３３ ５２．７２ ４．１２ １８．３１ 機器分析値は次の通りである。すなわち、31Ｐ核磁気共
鳴スペクトル（以下、31ＰＮＭＲと略す）は、ブルッカ
ー社製ＡＭ４００型装置（１６１MHz ）を用いて測定
し、化学シフトは８５％リン酸を外部標準として測定し
た。 31ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１４．１４（ｄ，Ｊ＝４１．７Hz） ６２．５７（ｄ，Ｊ＝４１．７Hz）
3（ビス〔ルテニウム（２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリ
ルホスフィノ）−１，１′−ビナフチル）ヘキサクロロ
チン〕トリエチルアミン）の合成： Ｒｕ2Ｃｌ4（（−）−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）2ＮＥｔ3 ０．
５２ｇ（０．３ミリモル）を８０mlのシュレンク管に入
れ、充分窒素置換を行ってから、塩化メチレン２０ml
と、ＳｎＣｌ4 ０．１６ｇ（０．６ミリモル）を加
え、室温にて１５時間かき混ぜた。反応終了後、減圧下
で塩化メチレンを留去して、乾固したところ、濃褐色の
［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）ＳｎＣｌ6］2ＮＥｔ
3 ０．６８ｇを得た。収率１００％。 元素分析値：Ｃ102Ｈ95Ｃｌ12ＮＰ4Ｓｎ2Ｒｕ2 Ｐ Ｃ Ｈ Ｃｌ 実測値（％） ５．９１ ５３．４８ ４．３６ １７．５６ 理論値（％） ５．３３ ５２．７２ ４．１２ １８．３１ 機器分析値は次の通りである。すなわち、31Ｐ核磁気共
鳴スペクトル（以下、31ＰＮＭＲと略す）は、ブルッカ
ー社製ＡＭ４００型装置（１６１MHz ）を用いて測定
し、化学シフトは８５％リン酸を外部標準として測定し
た。 31ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１４．１４（ｄ，Ｊ＝４１．７Hz） ６２．５７（ｄ，Ｊ＝４１．７Hz）
【００１９】 参考例２ ［Ｒｕ（（−）−ＢＩＮＡＰ）ＡｌＣｌ3］（ＣＨ3ＣＯ
2）2（〔ルテニウム（２，２′−ビス（ジフェニルホス
フィノ）−１，１′−ビナフチル）トリクロロアルミニ
ウム〕ジアセテート）の合成： Ｒｕ（ＣＨ3ＣＯ2）2（（−）−ＢＩＮＡＰ）０．６３
ｇ（０．７５ミリモル）を８０mlのシュレンク管に入
れ、充分窒素置換を行ってから、塩化メチレン１０mlを
加え溶解させた。ＡｌＣｌ3 ０．１ｇ（０．７５ミリ
モル）を８０mlのシュレンク管に入れ、充分窒素置換を
行ってから、塩化メチレン２０mlを加え、さらに上記で
調製した、Ｒｕ（ＣＨ3ＣＯ2）2（（−）−ＢＩＮＡ
Ｐ）の塩化メチレン溶液を加え、１５時間かき混ぜた。
反応終了後、減圧下で塩化メチレンを留去して、乾固し
たところ、濃褐色［Ｒｕ（（−）−ＢＩＮＡＰ）ＡｌＣ
ｌ3］（ＣＨ3ＣＯ2）2 ０．７３ｇを得た。収率１００
％。 元素分析値：Ｃ48Ｈ38Ｏ4Ｐ2Ｃｌ3ＡｌＲｕ Ｐ Ｃ Ｈ Ｃｌ 実測値（％） ６．１７ ６０．０７ ４．３８ １１．１６ 理論値（％） ６．３５ ５９．１２ ３．９３ １０．６０ 31ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１４．１６（ｄ，Ｊ＝４１．５Hz） ６２．５６（ｄ，Ｊ＝４１．５Hz）
2）2（〔ルテニウム（２，２′−ビス（ジフェニルホス
フィノ）−１，１′−ビナフチル）トリクロロアルミニ
ウム〕ジアセテート）の合成： Ｒｕ（ＣＨ3ＣＯ2）2（（−）−ＢＩＮＡＰ）０．６３
ｇ（０．７５ミリモル）を８０mlのシュレンク管に入
れ、充分窒素置換を行ってから、塩化メチレン１０mlを
加え溶解させた。ＡｌＣｌ3 ０．１ｇ（０．７５ミリ
モル）を８０mlのシュレンク管に入れ、充分窒素置換を
行ってから、塩化メチレン２０mlを加え、さらに上記で
調製した、Ｒｕ（ＣＨ3ＣＯ2）2（（−）−ＢＩＮＡ
Ｐ）の塩化メチレン溶液を加え、１５時間かき混ぜた。
反応終了後、減圧下で塩化メチレンを留去して、乾固し
たところ、濃褐色［Ｒｕ（（−）−ＢＩＮＡＰ）ＡｌＣ
ｌ3］（ＣＨ3ＣＯ2）2 ０．７３ｇを得た。収率１００
％。 元素分析値：Ｃ48Ｈ38Ｏ4Ｐ2Ｃｌ3ＡｌＲｕ Ｐ Ｃ Ｈ Ｃｌ 実測値（％） ６．１７ ６０．０７ ４．３８ １１．１６ 理論値（％） ６．３５ ５９．１２ ３．９３ １０．６０ 31ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δｐｐｍ：１４．１６（ｄ，Ｊ＝４１．５Hz） ６２．５６（ｄ，Ｊ＝４１．５Hz）
【００２０】 参考例３〜１６ 原料のＲ−ＢＩＮＡＰ及びルイス酸の種類を変えたほか
は、参考例３〜９は上記参考例１の方法に従い、参考例
１０〜１６は参考例２の方法に従い、それぞれの錯体を
合成した。 得られた錯体の分析値を表１、表２及び表３に示す
は、参考例３〜９は上記参考例１の方法に従い、参考例
１０〜１６は参考例２の方法に従い、それぞれの錯体を
合成した。 得られた錯体の分析値を表１、表２及び表３に示す
【００２１】
【表１】
【００２２】
【表２】
【００２３】
【表３】
【００２４】 実施例１ （Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメ
チレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソ
キノリンの不斉水素化：
チレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソ
キノリンの不斉水素化：
【００２５】
【化６】
【００２６】あらかじめ乾燥し、アルゴン置換した枝付
ナスフラスコに、触媒として［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩ
ＮＡＰ）ＳｎＣｌ6］2ＮＥｔ3 １８．８mg（０．００
８１ミリモル）を計りとり、脱気した無水メタノール４
０mlを加えた溶液を、室温で水素下２時間撹拌した。一
方、（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニ
ルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ
イソキノリン５１６mg（１．８２ミリモル）を脱気した
無水メタノール２０mlに加えた溶液を別途調製した。触
媒溶液から４．３０ml（基質（モル）／触媒（モル）＝
１０００／１）を取り、基質溶液に混ぜオートクレーブ
に移し、水素気圧３５kg／cm2、７５℃で４７時間撹拌
した。撹拌終了後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して、（＋）−Ｎ−ホルミル−１
−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリン５２０
mgを得た。収率１００％。このものの旋光度は〔α〕D
25 ＋２２．６（ｃ＝１．１７、メタノール）であっ
た。 光学純度は、脱ホルミル化後、生成物を２，３，４，６
−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｏ−グリコピラノシルイ
ソシアネートと反応させ、逆相ＨＰＬＣ分析を行って不
斉収率を決定した結果、９８％ｅｅであった。 各スペクトルデータを次に示す。1 HNMR(400MHZ, CDCl3) δppm:1.68(m, 4H), 1.90(m,4H), 2.20(m, 2H), 2.64(dd, J=10.4, 13.9Hz, 0.6H), 2.90(m, 2.4H), 3.31(dd, J=6.6, 12.9Hz,0.4H), 3.58(d, J=9.9Hz, 0.6H), 3.77(s, 3H), 4.37(dd, J=6.7, 12.9Hz,0.6H), 4.68(broad s, 0.4H), 6.80(m,2H), 6.99(m, 0.6H), 7.05(m, 0.4H),7.39(s, 0.6H), 7.92(s, 0.4H) 13 CNMR(100MHz, CDCl3)δppm:22.7, 22.8, 22.9, 27.7, 29.7, 30.0, 30.8, 33.4, 36.3, 37.6, 40.4, 53.2, 55.2, 60.4, 60.8, 113.6, 114.1, 127.77, 127.84, 128.9, 129.8, 130.0, 130.2, 130.4, 158.2, 158.4, 160.8, 161.1 UV(CH3OH)nm : 220, 277, 284 MS : m/e 285
ナスフラスコに、触媒として［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩ
ＮＡＰ）ＳｎＣｌ6］2ＮＥｔ3 １８．８mg（０．００
８１ミリモル）を計りとり、脱気した無水メタノール４
０mlを加えた溶液を、室温で水素下２時間撹拌した。一
方、（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニ
ルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ
イソキノリン５１６mg（１．８２ミリモル）を脱気した
無水メタノール２０mlに加えた溶液を別途調製した。触
媒溶液から４．３０ml（基質（モル）／触媒（モル）＝
１０００／１）を取り、基質溶液に混ぜオートクレーブ
に移し、水素気圧３５kg／cm2、７５℃で４７時間撹拌
した。撹拌終了後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して、（＋）−Ｎ−ホルミル−１
−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリン５２０
mgを得た。収率１００％。このものの旋光度は〔α〕D
25 ＋２２．６（ｃ＝１．１７、メタノール）であっ
た。 光学純度は、脱ホルミル化後、生成物を２，３，４，６
−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｏ−グリコピラノシルイ
ソシアネートと反応させ、逆相ＨＰＬＣ分析を行って不
斉収率を決定した結果、９８％ｅｅであった。 各スペクトルデータを次に示す。1 HNMR(400MHZ, CDCl3) δppm:1.68(m, 4H), 1.90(m,4H), 2.20(m, 2H), 2.64(dd, J=10.4, 13.9Hz, 0.6H), 2.90(m, 2.4H), 3.31(dd, J=6.6, 12.9Hz,0.4H), 3.58(d, J=9.9Hz, 0.6H), 3.77(s, 3H), 4.37(dd, J=6.7, 12.9Hz,0.6H), 4.68(broad s, 0.4H), 6.80(m,2H), 6.99(m, 0.6H), 7.05(m, 0.4H),7.39(s, 0.6H), 7.92(s, 0.4H) 13 CNMR(100MHz, CDCl3)δppm:22.7, 22.8, 22.9, 27.7, 29.7, 30.0, 30.8, 33.4, 36.3, 37.6, 40.4, 53.2, 55.2, 60.4, 60.8, 113.6, 114.1, 127.77, 127.84, 128.9, 129.8, 130.0, 130.2, 130.4, 158.2, 158.4, 160.8, 161.1 UV(CH3OH)nm : 220, 277, 284 MS : m/e 285
【００２７】 実施例２〜１６ 実施例１と同様な反応操作により、参考例２〜１６で得
られたルテニウム−ホスフィン錯体を用いて（Ｚ）−Ｎ
−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−
３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリンの
不斉水素化反応を行い、（＋）−Ｎ−ホルミル−１−
（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，
５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造を行
った結果を表４に示す。
られたルテニウム−ホスフィン錯体を用いて（Ｚ）−Ｎ
−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−
３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリンの
不斉水素化反応を行い、（＋）−Ｎ−ホルミル−１−
（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，
５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造を行
った結果を表４に示す。
【００２８】
【表４】
【００２９】
【発明の効果】本発明の製造方法に用いられる新規なル
テニウム−ホスフィン錯体は、各種有機合成反応、特に
不斉水素化反応などの触媒としてすぐれた性能を示し、
オレフィンの選択的水素化ならびに触媒活性についても
工業的にすぐれた成績を示し、且つ従来のロジウム系触
媒などに比し、安価に作られ、製品の価格引下げに貢献
することのできる工業的価値の高いものである。 従って、このルテニウム−ホスフィン錯体を用いれば、
高選択率かつ高収率で（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４
−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロイソキノリンを製造すること
ができる。
テニウム−ホスフィン錯体は、各種有機合成反応、特に
不斉水素化反応などの触媒としてすぐれた性能を示し、
オレフィンの選択的水素化ならびに触媒活性についても
工業的にすぐれた成績を示し、且つ従来のロジウム系触
媒などに比し、安価に作られ、製品の価格引下げに貢献
することのできる工業的価値の高いものである。 従って、このルテニウム−ホスフィン錯体を用いれば、
高選択率かつ高収率で（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４
−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，
６，７，８−オクタヒドロイソキノリンを製造すること
ができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｆ 9/50 9155−4Ｈ 15/00 Ａ 9155−4Ｈ
Claims (1)
- 【請求項１】 次の式（２） 【化１】 で表わされる（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキ
シフェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキ
サヒドロイソキノリンを、次の一般式（３） ［Ｒｕ（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）ＭＣｌk］lＸm （３） 〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰは式（４） 【化２】 で表わされる三級ホスフィンを意味し、Ｒは水素原子ま
たはメチル基を意味し、ＭはＺｎ，Ａｌ，ＴｉまたはＳ
ｎを意味し、ＸはＮ（Ｃ2Ｈ5）3またはＣＨ3ＣＯ 2を意
味し、ＸがＮ（Ｃ2Ｈ5）3の場合、ｌが２、ｍが１であ
り、かつＭがＺｎのときはｋが４、Ａｌのときはｋが
５、ＴｉまたはＳｎのときはｋが６であり、ＸがＣＨ3
ＣＯ2の場合、ｌが１、ｍが２であり、かつＭがＺｎの
ときはｋが２、Ａｌのときはｋが３、ＴｉまたはＳｎの
ときはｋが４である〕で表わされるルテニウム−ホスフ
ィン錯体の存在下、不斉水素化することを特徴とする次
の式（１） 【化３】 で表わされる（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキ
シフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，
８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3286090A JPH0670016B2 (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | （＋）−ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3286090A JPH0670016B2 (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | （＋）−ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62224288A Division JPH0667947B2 (ja) | 1987-09-08 | 1987-09-08 | ルテニウム−ホスフイン錯体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0592958A JPH0592958A (ja) | 1993-04-16 |
| JPH0670016B2 true JPH0670016B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=17699813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3286090A Expired - Fee Related JPH0670016B2 (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | （＋）−ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0670016B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0839135B1 (de) * | 1995-07-11 | 2001-10-10 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Verfahren zur herstellung von optisch aktivem 1-(p-methoxybenzyl)-1,2,3,4,5,6,7,8-octahydroisochinolin |
-
1991
- 1991-10-31 JP JP3286090A patent/JPH0670016B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0592958A (ja) | 1993-04-16 |
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