JPH0761976B2 - 光学活性アリ−ル酢酸誘導体の製造法 - Google Patents

光学活性アリ−ル酢酸誘導体の製造法

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JPH0761976B2
JPH0761976B2 JP62162691A JP16269187A JPH0761976B2 JP H0761976 B2 JPH0761976 B2 JP H0761976B2 JP 62162691 A JP62162691 A JP 62162691A JP 16269187 A JP16269187 A JP 16269187A JP H0761976 B2 JPH0761976 B2 JP H0761976B2
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、医・農薬等の中間体として有用な一般式
(I) (式中、R1およびR2は水素原子、低級アルキル基または
フェニル基を、Arは を示す。ここで、R3およびR4は水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ジフルオロ
メトキシ基、トリフルオロメチル基またはフェニル基を
示す。) で示される光学活性アリール酢酸誘導体の製造法に関す
る。
<従来の技術> 不斉水素還元法によって光学活性アリール酢酸を得る方
法において、一般式(IV) LM(olefin)2 +X- (IV) (式中、Mはロジウム原子、ルテニウム原子またはイリ
ジウム原子を、Lはフェロセニルホスフィン、ピリジニ
ルホスフィンの不斉配位子を示す。また、olefinは2,5
−ノルボルナジエンまたは1,5−シクロオクタジエン
を、XはClO4,BF4またはPF6を示す)で示される触媒を
用いる方法が米国特許第4,409,397号明細書に示され、
ここで使用されるフェロセニルホスフィンとして、一般
式(V) (式中、R′およびR′は低級アルキル基、C5
のシクロアルキル基、フェニル基またはC5〜C6のヘテロ
環を示す。Qは低級アルキル基、アルケニル基またはC
(R′)(R′)−Y′を示し、R′およびR′
は水素原子、低級アルキル基、アリール基を示し、
R′とR′が結合してシクロアルキル環を形成して
いてもよい。Y′は水素原子、水酸基、アシルオキシ
基、Z′(R′10またはPR′10R′11を示し、Z′
はN,P,AsまたはSbを、R′10およびR′11は水素原子ま
たはアルキル基を示す。(R′10でNまたはPを含
むヘテロ環であってもよく、そのヘテロ環はさらにNま
たは0を含んでいてもよい。nは0または1を示す) で示される光学活性フェロセニルホスフィン化合物が開
示されている。
しかし、このような光学活性フェロセニルホスフィン化
合物を使用する方法は目的とする光学活性アリール酢酸
誘導体の光学収率が必ずしも十分でなく、転化率も低い
など工業的に十分に満足するものではなかった。
<問題点を解決するための手段> このようなことから、本発明者らは上記問題点を解決
し、好転化率、好光学収率で光学活性アリール酢酸誘導
体を製造すべく鋭意検討の結果、先の米国特許明細書に
記載されるメタロセニルホスフィンとはその構造の異っ
た光学活性メタロセニルホスフィン誘導体で修飾した金
属触媒を用いることにより、すぐれた転化率、光学収率
で目的物が得られ、さらには使用する不斉配位子の立体
配置を選択することにより所望の立体配置を有する光学
活性アリール酢酸誘導体が得られることを見出し、本発
明に至った。
すなわち本発明は、一般式(II) (式中、R1,R2およびArは前記と同じ意味を有する) で示されるオレフィン誘導体を、一般式(III) (式中、R5およびR6は低級アルキル基、C5〜C8のシクロ
アルキル基、アリール基またはC5〜C6のヘテロ環を示
す。R7およびR8は水素原子または低級アルキル基を示
す。Xはメチレン基、酸素原子またはNR9を示し、R9
水素原子または低級アルキル基を示す。Zはアルキレン
基、C=O, を示す。YはOR10または を示し、R10、R11およびR12は水素原子または低級アル
キル基を示す。あるいは はR11とR12が結合して窒素原子を含むヘテロ環を形成し
ていてもよく、そのヘテロ環はさらに酸素原子または窒
素原子を含んでいてもよい。MはFe,RuまたはOsを示
す。nは0または1である。) で示される光学活性メタロセニルホスフィン誘導体で修
飾した金属触媒の存在下に不斉水素還元にすることを特
徴とする前記一般式(I)で示される光学活性アリール
酢酸誘導体の製造法を提供するものである。
本発明において、原料として用いられる一般式(II)で
示されるオレフィン誘導体としては、たとえば2−フェ
ニル−3−メチルクロトン酸、2−(4−クロロフェニ
ル)−3−メチルクロトン酸、2−(4−ジフルオロメ
トキシフェニル)−3−メチルクロトン酸、2−(4−
イソブチルフェニル)−アクリル酸、2−(4−メトキ
シフェニル)−3−メチルクロトン酸、2−フェニルア
クリル酸、2−フェニル−3−エチルクロトン酸、2,3
−ジフェニルクロトン酸、2−(2−ナフチル)−3−
メチルクロトン酸、2−(6−メトキシナフチル−2)
−アクリル酸などが例示され、これらは前記米国特許明
細書に記載の方法に準じて製造することができる。
本発明において使用される光学活性メタロセニルホスフ
ィン誘導体は前記一般式(III)に示されるとおりであ
るが、該一般式(III)において、金属原子Mが鉄原子
であるフェロセニルホスフィン誘導体が好ましく、ま
た、その置換基としてR5およびR6がt−ブチル基、シク
ロヘキシル基またはフェニル基を、R7が水素原子を、R8
がメチル基を、XがNMeを、Zがメチレン基、エチレン
基、トリメチレン基、テトラメチレン基またはカルボニ
ル基を、Yが であって、R11およびR12が低級アルキル基をそれぞれ示
す場合により好ましく使用される。
本発明は、このようなメタロセニルホスフィン誘導体で
修飾した金属触媒を用いるものであるが、金属触媒にお
ける金属成分としてはロジウム、イリジウムまたはルテ
ニウムなどの遷移金属が好ましく用いられる。
かかる触媒として、具体的にはRh〔(R)−(S)−BP
PF−NMeCH2CH2NEt2〕(NBDまたはCOD)BF4、Rh〔(R)
−(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt22ClO4、Ru2Cl
4〔(R)−(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2〔上式に
おいて、(R)−(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2
(R)−N−メチル−〔2−(ジエチルアミノ)エチ
ル〕−1−〔(S)−1,2−ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)フェロセニル〕エチルアミンを、NBDは2,5−ノルボ
ルナジエンを、CODは1,5−シクロオクタジエンそれぞれ
示す。〕 などが例示され、これら金属触媒の製造はBull.Chem.So
c.Jpn.,53,1138(1980),Acc.Chem.Res.,15,395(198
2),J.Am.Chem.Soc.,99,6262(1977)およびJ.Am.Chem.
Soc.,108,6405(1986)などの方法に準じて、たとえば
(R)−(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2は下式に示すよ
うに(R)−(S)−BPPF−OCOMeとHNMeCH2−CH2NEt2
を反応させることにより製造することができる。
また、Rh〔(R)−(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2〕(N
BD)BF4は、Rh(NBD)2BF4をメタノール中、(R)−
(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2と反応させ、(R)−
(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2とNBDを配位交換すること
により製造することができる。
本発明の方法において、触媒の使用量は原料オレフィン
誘導体に対して0.001〜10モル%、好ましくは0.01〜1
モル%である。
反応は通常溶媒中で行われ、その溶媒としてはたとえば
メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノー
ル、酢酸メチル、ベンゼン、トルエン、キシレン、テト
ラピドフランなどの有機溶媒または水あるいはこれらの
混合物が挙げられるが、メタノール、エタノールが好ま
しく使用される。
かかる溶媒の使用量は原料オレフィン誘導体に対して通
常1〜500重量倍、好ましくは10〜200重量倍である。
反応に際しての水素圧力は、一般的には常圧〜500kg/cm
2での範囲であるが、好ましくは10〜150kg/cm2である。
反応温度は0〜150℃、好ましくは20〜100℃である。
反応時間は特に制限されないが、一般的には1〜20時間
である。
尚、反応に際して反応系に三級アミンたとえばトリエチ
ルアミン、トリ−n−プロピルアミンなどを添加するこ
とも可能である。
三級アミンを使用する場合、その使用量は触媒に対して
0.1〜100倍モル、好ましくは1〜20倍モルである。
<発明の効果> かくして、本発明の方法によれば前記一般式(I)で示
される光学活性アリール酢酸誘導体を好転化率、好光学
収率で得ることができ、また用いる触媒の立体配位を変
えることにより、生成する光学活性アリール酢酸誘導体
の立体配置を制御することができる。
<実施例> 以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1 Rh(NBD)2BF4 1.9mg(0.005ミリモル),(R)−
(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2 4.5mg(0.00625ミリモ
ル)およびメタノール7.5mlを35ml容のオートクレーブ
に仕込み、溶解した。
これに2−(4−クロロフェニル)−3−メチルクロト
ン酸211mgを加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、80℃で4時間撹拌した。
反応終了後、オートクレーブを冷却し、水素を除圧後、
メタノールを留去し、さらにアルカリ抽出、酸析、エー
テル抽出および濃縮を行うことにより(S)−2−(4
−クロロフェニル)−3−メチル酪酸213mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 85.4%(+体) 尚、転化率、選択率および光学収率は光学活性カラムを
用いた液体クロマトグラフィーおよび旋光度により算出
した。
以下も同様である。
また、(R)−(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2の構造は
次のとおりである。
実施例2〜10 (R)−(S)−BPPF−NMeCH2CH2NEt2を表−1に示す
光学活性フェロセニルホスフィン誘導体に代える以外は
実施例1と同様に反応、後処理して(S)−2−(4−
クロロフェニル)−3−メチル酪酸を得た。結果を表−
1に示す。
尚、(R)−(S)−BPPF−Wの構造は次のとおりであ
る。
実施例11および12 表−2に示す反応条件とする以外は実施例1と同様にし
て反応、後処理を行い、表−2に示す結果を得た。
実施例13 Rh(COD)2Cl2 1.2mg(0.0025ミリモル)、AgBF4 1.0mg
(0.005ミリモル),(R)−(S)−BPPF−NMeCH2CH2
NEt2 4.5mg(0.00625ミリモル)、トリエチルアミン5.1
mg(0.05ミリモル)およびエタノール7.5mlを3.5ml容の
オートクレーブに仕込み、溶解した。
これに2−(4−クロロフェニル)−3−メチルクロト
ン酸211mgを加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
印加し、80℃で4時間撹拌した。
反応終了後、オートクレーブを冷却し、水素を除圧後、
エタノールを留去し、さらにアルカリ抽出、酸析、エー
テル抽出および濃縮を行うことにより(S)−2−(4
−クロロフェニル)−3−メチル酪酸213mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 89.0%(+体) 実施例14 Rh(COD)2Cl2 1.2mg(0.0025ミリモル)、AgBF4 1.0mg
(0.005ミリモル)、(S)−(R)−BPPF−NMeCH2CH2
NEt2 4.5mg(0.00625ミリモル)、トリエチルアミン5.1
mg(0.05ミリモル)およびメタノール7.5mlを35ml容の
オートクレーブに仕込み、溶解した。
これに2−フェニルアクリル酸148mg(1ミリモル)を
加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、室温で16時間撹拌した。
反応終了後、オートクレーブを冷却し、水素を除圧後、
メタノールを留去し、さらにアルカリ抽出、酸析、エー
テル抽出および濃縮を行うことにより(S)−2−フェ
ニルプロピオン酸149.4mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 80.7%(+体) 実施例15 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン5.1mg(0.05mmol)
およびメタノール7.5mlを35ml容のオートクレーブに仕
込み、溶解した。
これに2−(4−クロロフェニル)−3−メチルクロト
ン酸211mg(1mmol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、室温で20時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、メタノールを留去し、さら
にアルカリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行
い、(S)−2−(4−クロロフェニル)−3−メチル
酪酸211.8mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 93.8%(+体) 実施例16 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン5.1mg(0.05mmol)
およびメタノール7.5mlを35ml容のオートクレーブに仕
込み、溶解した。これに2−フェニル−3−メチルクロ
トン酸176mg(1mmol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、室温で20時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、メタノールを留去し、さら
にアルカリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行
い、(S)−2−フェニル−3−メチル酪酸177mgを得
た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 95.8%(+体) 実施例17 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン5.1mg(0.05mmol)
およびメタノール7.5mlを35ml容のオートクレーブに仕
込み、溶解した。
これに2−(4−メトキシフェニル)−3−メチルクロ
トン酸206mg(1mmol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、室温で20時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、メタノールを留去し、さら
にアルカリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行
い、(S)−2−(4−メトキシフェニル)−3−メチ
ル酪酸205.5mgを得た。
転化率 100% 選択率 >98% 光学収率 91.9%(+体) 実施例18 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン5.1mg(0.05mmol)
およびメタノール7.5mlを35ml容のオートクレーブに仕
込み、溶解した。
これに2−(2−ナフチル)−3−メチルクロトン酸22
6mg(1mmol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、50℃で6時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、メタノールを留去し、さら
にアルカリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行
い、(S)−2−(2−ナフチル)−3−メチル酪酸22
6mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 91.3%(+体) 実施例19 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン5.1mg(0.05mmol)
およびメタノール−テトラヒドロフラン(1:4)混合液
7.5mlを35ml容のオートクレーブに仕込み、溶解した。
これに2−フェニル−3−メチルクロトン酸176mg(1mm
ol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、室温で20時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、溶媒を留去し、さらにアル
カリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行い、
(S)−2−フェニル−3−メチル酪酸177mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 97.6%(+体) 実施例20 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン5.1mg(0.05mmol)
およびメタノール−テトラヒドロフラン(1:4)混合液
7.5mlを35ml容のオートクレーブに仕込み、溶解した。
これに2−(4−クロロフェニル)−3−メチルクロト
ン酸211mg(1mmol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、室温で20時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、溶媒を留去し、さらにアル
カリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行い、
(S)−2−(4−クロロフェニル)−3−メチル酪酸
213mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 97.4%(+体) 実施例21 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン5.1mg(0.05mmol)
およびメタノール−テトラヒドロフラン(1:4)混合液
7.5mlを35ml容のオートクレーブに仕込み、溶解した。
これに2−(2−ナフチル)−3−メチルクロトン酸22
6mg(1mmol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧50kg/cm2
加圧し、室温で65時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、溶媒を留去し、さらにアル
カリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行い、
(S)−2−(2−ナフチル)−3−メチル酪酸226mg
を得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 96.7%(+体) 実施例22 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン2.5mg(0.025mmo
l)およびメタノール7.5mlを35ml容のオートクレーブに
仕込み、溶解した。
これに(E)−2−フェニル−3−メチル−2−ペンテ
ン酸95.1mg(0.5mmol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧100kg/cm2
に加圧し、室温で90時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、メタノールを留去し、さら
にアルカリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行
い、エリスロー2−フェニル−3−メチルペンタン酸9
6.0mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 90.1%(+体) 実施例23 Rh2(NBD)2Cl2 1.2mg(0.0025mmol)、AgBF4 1.0mg
(0.005mmol)、 (0.00625mmol)、トリエチルアミン5.1mg(0.05mmol)
およびメタノール7.5mlを35ml容のオートクレーブに仕
込み、溶解した。これに2−フェニル−3−メチル桂皮
酸238.3mg(1mmol)を加え、溶解した。
オートクレーブ内を水素ガス置換後、水素圧100kg/cm2
に加圧し、室温で50時間撹拌した。
反応終了後、水素を除圧後、メタノールを留去し、さら
にアルカリ抽出、酸析、エーテル抽出および濃縮を行
い、エリスロ−2,3−ジフェニル酪酸240.2mgを得た。
転化率 100 % 選択率 >98 % 光学収率 83.2%(+体) 比較例1 USP4,409,397号 明細書に記載の方法に準じて、Rh(NB
D)2BF4 1.9mg(0.005ミリモル)、(R)−(S)−BP
PF−NMe2 3.9mg(0.00625ミリモル)、トリエチルアミ
ン2.5mg(0.025ミリモル)およびメタノール7.5mlを35m
l容オートクレーブに仕込み、溶解する。これに2−
(4−クロロフェニル)−3−メチルクロトン酸211mg
(1ミリモル)を加え、溶解させる。
オートクレーブ内を水素ガスで置換後、水素圧50kg/cm2
に加圧し、80℃で4時間撹拌した。
反応終了後、実施例1と同様に後処理して(S)−2−
(4−クロロフェニル)−3−メチル酪酸212mgを得
た。
転化率 100 % 選択率 >98% 光学収率 15.8%(+体) 尚、(R)−(S)−BPPF−NMe2の構造は次のとおりで
ある。
比較例2 (R)−(S)−BPPF−NMe2に代え、またトリエチルアミンを添加しない以外は比較
例1と同様に反応、後処理して(S)−2−(4−クロ
ロフェニル)−3−メチル酪酸211mgを得た。
転化率 92 % 選択率 >98 % 光学収率 25.8%(+体) 尚、 の構造は次のとおりである。
比較例3 (R)−(S)−BPPF−NMe2に代え、またトリエチルアミンを添加しない以外は比較
例1と同様に反応、後処理して(S)−2−(4−クロ
ロフェニル)−3−メチル酪酸212mgを得た。
転化率 99 % 選択率 >98 % 光学収率 27.2%(+体) 尚、 の構造は次のとおりである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B01J 31/24 C07B 53/00 B 7419−4H 61/00 300

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(II) (式中、R1およびR2は水素原子、低級アルキル基または
    フェニル基を、Arは を示す。ここで、R3およびR4は水素原子、ハロゲン原
    子、低級アルキル基、低級アルコキシル基、ジフルオロ
    メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメ
    チル基またはフェニル基を示す。) で示されるオレフィン誘導体を、一般式(III) (式中、R5およびR6は低級アルキル基、C5〜C8のシクロ
    アルキル基、アリール基またはC5〜C6のヘテロ環を示
    す。R7およびR8は水素原子または低級アルキル基を示
    す。Xはメチレン基、酸素原子またはNR9を示し、R9
    水素原子または低級アルキル基を示す。Zはアルキレン
    基、C=O、 を示す。YはOR10または を示し、R10およびR12は水素原子または低級アルキル基
    を示す。あるいは はR11とR12がともになって窒素原子を含むヘテロ環を形
    成していてもよく、そのヘテロ環はさらに酸素原子また
    は窒素原子を含んでいてもよい。MはFe,RuまたはOsを
    示す。nは0または1である。)で示される光学活性メ
    タロセニルホスフィン誘導体で修飾した金属触媒の存在
    下に不斉水素還元することを特徴とする一般式(I) (式中、R1,R2およびArは前記したと同じ意味を有す
    る) で示される光学活性アリール酢酸誘導体の製造法。
  2. 【請求項2】金属触媒の金属成分がロジウム、イリジウ
    ムまたはルテニウムである特許請求の範囲第1項に記載
    の製造法。
  3. 【請求項3】一般式(III)で示される光学活性メタロ
    セニルホスフィン誘導体において、Mが鉄原子である特
    許請求の範囲第1項に記載の製造法。
  4. 【請求項4】光学活性なメタロセニルホスフィン誘導体
    が、一般式(III)において、Mが鉄原子を、R5およびR
    6がt−ブチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基
    を、R7が水素原子を、R8がメチル基を、XがNMeを、Z
    がメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメ
    チレン基またはカルボニル基を、Yが であって、R11およびR12が低級アルキルをそれぞれ示
    し、またR11およびR12がともになって窒素原子を含むヘ
    テロ環を形成していてもよく、またそのヘテロ環がさら
    に酸素原子または窒素原子を含んでいてもよく、nが0
    または1を示すフェロセニルホスフィン誘導体である特
    許請求の範囲第1項に記載の製造法。
  5. 【請求項5】光学活性フェロセニルホスフィン誘導体
    が、光学活性N−メチル−〔2−(ジエチルアミノ)エ
    チル〕−1−〔1′,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)
    フェロセニル〕エチルアミンである特許請求範囲第4項
    に記載の製造法。
  6. 【請求項6】光学活性フェロセニルホスフィン誘導体が
    光学活性N−メチル−〔2−(ヘキサヒドロ−1H−アゼ
    ピン−1−イル)エチル〕−1−〔1′,2−ビス(ジフ
    ェニルホスフィノ)フェロセニル〕エチルアミンである
    特許請求範囲第4項に記載の製造法。
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