JPH0669178A - ガラス基板洗浄方法 - Google Patents
ガラス基板洗浄方法Info
- Publication number
- JPH0669178A JPH0669178A JP21706092A JP21706092A JPH0669178A JP H0669178 A JPH0669178 A JP H0669178A JP 21706092 A JP21706092 A JP 21706092A JP 21706092 A JP21706092 A JP 21706092A JP H0669178 A JPH0669178 A JP H0669178A
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- JP
- Japan
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- cleaning
- glass substrate
- cleaning liquid
- liquid
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は，半導体ウエハプロセスで用いるマ
スク，或いはレチクル用ガラス基板の洗浄方法に関し，
洗浄液中にガラス基板を浸漬した加圧洗浄により，ガラ
ス基板の表面に付着した残渣や異物が完全に除去出来る
方法を得ることを目的とする。 【構成】 ガラス基板１を洗浄液３中に浸漬し, ガラス
基板１の表面を洗浄液３により洗浄するガラス基板洗浄
方法において, 洗浄液３を加圧容器２中に満たし, ガラ
ス基板１の表面を洗浄液３により加圧洗浄するように，
加圧容器２内にオーバーフロー洗浄機能４を設け, 加圧
ポンプ６により貯液槽７内の洗浄液３を送液配管９を通
して, 加圧容器２内に送り込み, 洗浄液３を加圧洗浄前
にオーバーフローさせるように，加圧容器２外に超音波
振動子５を設けて, ガラス基板１の表面を洗浄液３によ
り加圧洗浄する際に, 超音波洗浄を併用するように，ガ
ラス１の加圧時間と休止時間を, 各々別個に制御するよ
うに構成する。
スク，或いはレチクル用ガラス基板の洗浄方法に関し，
洗浄液中にガラス基板を浸漬した加圧洗浄により，ガラ
ス基板の表面に付着した残渣や異物が完全に除去出来る
方法を得ることを目的とする。 【構成】 ガラス基板１を洗浄液３中に浸漬し, ガラス
基板１の表面を洗浄液３により洗浄するガラス基板洗浄
方法において, 洗浄液３を加圧容器２中に満たし, ガラ
ス基板１の表面を洗浄液３により加圧洗浄するように，
加圧容器２内にオーバーフロー洗浄機能４を設け, 加圧
ポンプ６により貯液槽７内の洗浄液３を送液配管９を通
して, 加圧容器２内に送り込み, 洗浄液３を加圧洗浄前
にオーバーフローさせるように，加圧容器２外に超音波
振動子５を設けて, ガラス基板１の表面を洗浄液３によ
り加圧洗浄する際に, 超音波洗浄を併用するように，ガ
ラス１の加圧時間と休止時間を, 各々別個に制御するよ
うに構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，半導体ウエハプロセス
で用いるマスク，或いはレチクル用ガラス基板の洗浄方
法に関する。
で用いるマスク，或いはレチクル用ガラス基板の洗浄方
法に関する。
【０００２】近年，半導体デバイスの高集積化，微細化
にともない，ウエハプロセスに用いるマスクのクリーン
ネスが要求されており，この要求に対応できるマスク，
或いはレチクル用ガラス基板の洗浄方法が必要となる。
にともない，ウエハプロセスに用いるマスクのクリーン
ネスが要求されており，この要求に対応できるマスク，
或いはレチクル用ガラス基板の洗浄方法が必要となる。
【０００３】
【従来の技術】図３は従来例の説明図である。図におい
て，11はガラス基板, 12は洗浄槽, 13は洗浄液, 14は噴
射ノズル, 15は超音波振動子である。
て，11はガラス基板, 12は洗浄槽, 13は洗浄液, 14は噴
射ノズル, 15は超音波振動子である。
【０００４】ＬＳＩ等の半導体デバイスに用いるマス
ク，或いはレチクルは，パターンの微細化，高密度化が
進むに従って，許容されるパターン欠陥のサイズは益々
小さくなってくる。
ク，或いはレチクルは，パターンの微細化，高密度化が
進むに従って，許容されるパターン欠陥のサイズは益々
小さくなってくる。
【０００５】従来，マスク，或いはレチクル用ガラス基
板の洗浄方法は, 例えば, 硫酸や過酸化水素の混合液等
の洗浄液，或いは，塩酸，イソプロールアルコール，ア
セトン等，洗浄対象により種々の洗浄液を用い, 図３
（ａ）に示すように，洗浄槽12中の洗浄液中での浸漬に
よる洗浄や, 図３（ｂ）に示すように，超音波振動子15
を用いた超音波洗浄，或いは，図３（ｃ）に示すよう
に，噴射ノズル14を用いた, ガラス基板11への洗浄液13
の噴射等により洗浄していた。更に汚れ具合によって
は，ブラシ等の機械的洗浄を併用する場合もある。
板の洗浄方法は, 例えば, 硫酸や過酸化水素の混合液等
の洗浄液，或いは，塩酸，イソプロールアルコール，ア
セトン等，洗浄対象により種々の洗浄液を用い, 図３
（ａ）に示すように，洗浄槽12中の洗浄液中での浸漬に
よる洗浄や, 図３（ｂ）に示すように，超音波振動子15
を用いた超音波洗浄，或いは，図３（ｃ）に示すよう
に，噴射ノズル14を用いた, ガラス基板11への洗浄液13
の噴射等により洗浄していた。更に汚れ具合によって
は，ブラシ等の機械的洗浄を併用する場合もある。
【０００６】また，ガラス基板の洗浄は１枚ずつの場合
や３〜６枚まとめて行う等いろいろな場合がある。
や３〜６枚まとめて行う等いろいろな場合がある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って，従来からのガ
ラス基板の洗浄では，微細パターンに対応して，薬品の
残留，レジストの残渣，その他のゴミ等の異物の除去が
非常に困難になって来ている。
ラス基板の洗浄では，微細パターンに対応して，薬品の
残留，レジストの残渣，その他のゴミ等の異物の除去が
非常に困難になって来ている。
【０００８】これは，パターンのサイズが１μｍ程度に
なると，許容される欠陥や異物のサイズはその１／５〜
１／10と言われているが, レチクルにおいては, 実際
に，全面に１個の欠陥も許されない。
なると，許容される欠陥や異物のサイズはその１／５〜
１／10と言われているが, レチクルにおいては, 実際
に，全面に１個の欠陥も許されない。
【０００９】そのため，洗浄液のフィルタリングによる
クリーンネスの確保，洗浄液や洗浄水の配管，洗浄槽等
のクリーン化にも万全の処置を行っているが未だ充分で
はない。
クリーンネスの確保，洗浄液や洗浄水の配管，洗浄槽等
のクリーン化にも万全の処置を行っているが未だ充分で
はない。
【００１０】特に，もともとガラス基板に付着して残っ
ているようなレジスト残渣，薬品残渣，ガラス基板ホル
ダから持ち込まれる異物，汚れ等は完全には防ぎ切れ
ず，完全に除去することが困難である。
ているようなレジスト残渣，薬品残渣，ガラス基板ホル
ダから持ち込まれる異物，汚れ等は完全には防ぎ切れ
ず，完全に除去することが困難である。
【００１１】これは，通常の洗浄液に硫酸や過酸化水素
等を用いての，ガラス基板の表面洗浄処理では，異物等
への洗浄液の浸透が不十分であるため，短時間の処理で
は，異物が完全に除去されないためである。
等を用いての，ガラス基板の表面洗浄処理では，異物等
への洗浄液の浸透が不十分であるため，短時間の処理で
は，異物が完全に除去されないためである。
【００１２】本発明は，以上の点を鑑み，洗浄液中にガ
ラス基板を浸漬した加圧洗浄により，異物が完全に除去
出来る方法を得ることを目的として提供されるものであ
る。
ラス基板を浸漬した加圧洗浄により，異物が完全に除去
出来る方法を得ることを目的として提供されるものであ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】図１は本発明のガラス基
板の加圧容器である。図において，１はガラス基板，２
は加圧容器，３は洗浄液，４はオーバーフロー機構，５
は超音波振動子，６は加圧ポンプ，７は貯液槽，８はフ
ィルタ，９は送液配管である。
板の加圧容器である。図において，１はガラス基板，２
は加圧容器，３は洗浄液，４はオーバーフロー機構，５
は超音波振動子，６は加圧ポンプ，７は貯液槽，８はフ
ィルタ，９は送液配管である。
【００１４】本発明では，上記の問題点を解消するため
に，ガラス基板１を洗浄液３に浸漬した後，洗浄液３を
加圧して，ガラス基板１の表面に付着した残渣や異物へ
の洗浄液３の浸透力を加速して，これら残渣や異物の除
去反応を促進する。
に，ガラス基板１を洗浄液３に浸漬した後，洗浄液３を
加圧して，ガラス基板１の表面に付着した残渣や異物へ
の洗浄液３の浸透力を加速して，これら残渣や異物の除
去反応を促進する。
【００１５】即ち，本発明の目的は，ガラス基板１を洗
浄液３中に浸漬し, 該ガラス基板１の表面を該洗浄液３
により洗浄するガラス基板洗浄方法において,図１
（ａ）に示すように，該洗浄液３を加圧容器２中に満た
し, ガラス基板１の表面を該洗浄液３により加圧洗浄す
ることにより，また，図１（ｂ）に示すように，前記加
圧容器２内にオーバーフロー洗浄機能４を設け, 加圧ポ
ンプ６により貯液槽７内の前記洗浄液３を送液配管９を
通して, 加圧容器２内に送り込み, 前記洗浄液３を加圧
洗浄前にオーバーフローさせることにより，また，前記
加圧容器２外に超音波振動子５を設けて, 前記ガラス基
板１の表面を該洗浄液３により加圧洗浄する際に, 超音
波洗浄を併用することにより，更に，前記ガラス基板１
の加圧時間と休止時間を, 各々別個に制御することによ
り達成される。
浄液３中に浸漬し, 該ガラス基板１の表面を該洗浄液３
により洗浄するガラス基板洗浄方法において,図１
（ａ）に示すように，該洗浄液３を加圧容器２中に満た
し, ガラス基板１の表面を該洗浄液３により加圧洗浄す
ることにより，また，図１（ｂ）に示すように，前記加
圧容器２内にオーバーフロー洗浄機能４を設け, 加圧ポ
ンプ６により貯液槽７内の前記洗浄液３を送液配管９を
通して, 加圧容器２内に送り込み, 前記洗浄液３を加圧
洗浄前にオーバーフローさせることにより，また，前記
加圧容器２外に超音波振動子５を設けて, 前記ガラス基
板１の表面を該洗浄液３により加圧洗浄する際に, 超音
波洗浄を併用することにより，更に，前記ガラス基板１
の加圧時間と休止時間を, 各々別個に制御することによ
り達成される。
【００１６】
【作用】本発明においては，ガラス基板１上に付着して
いる残渣や異物に対して，洗浄液３を加圧することによ
り，残渣や異物に対する洗浄液３の浸透力が強まり，反
応が加速して，残渣や異物を除去しやすくする。
いる残渣や異物に対して，洗浄液３を加圧することによ
り，残渣や異物に対する洗浄液３の浸透力が強まり，反
応が加速して，残渣や異物を除去しやすくする。
【００１７】更に，このガラス基板１にたいする洗浄液
３の加圧に超音波を併用すれば，気泡効果と加圧圧力の
増減も加わり，相乗した洗浄効果が得られる。
３の加圧に超音波を併用すれば，気泡効果と加圧圧力の
増減も加わり，相乗した洗浄効果が得られる。
【００１８】
【実施例】図１は本発明のガラス基板の加圧容器，図２
は本発明の加圧洗浄のタイムチャートである。
は本発明の加圧洗浄のタイムチャートである。
【００１９】図において，１はガラス基板，２は加圧容
器，2aは側板, 2bは上蓋, 2cは底板, ３は洗浄液，４は
オーバーフロー機構，５は超音波振動子，６は加圧ポン
プ，７は貯液槽，８はフィルタ，９は送液配管である。
器，2aは側板, 2bは上蓋, 2cは底板, ３は洗浄液，４は
オーバーフロー機構，５は超音波振動子，６は加圧ポン
プ，７は貯液槽，８はフィルタ，９は送液配管である。
【００２０】本発明の実施例では，図１に示すような加
圧容器２を準備する。即ち，洗浄時の圧力に耐えられる
ようにするために, 図１（ａ）に断面図で示すよう
に，，加圧容器の側板2aは円筒状とし，上蓋2b，及び底
板2cは平板でなく，球の一部を切り取った形にする。
圧容器２を準備する。即ち，洗浄時の圧力に耐えられる
ようにするために, 図１（ａ）に断面図で示すよう
に，，加圧容器の側板2aは円筒状とし，上蓋2b，及び底
板2cは平板でなく，球の一部を切り取った形にする。
【００２１】上蓋2bにはガラス基板１の出し入れが可能
なように開閉式にする。また，洗浄前に，洗浄液３がオ
ーバーフローできるように，側板2aの上縁にオーバーフ
ロー機構４を設けるとともに，底板2cには超音波振動子
５を取り付ける。
なように開閉式にする。また，洗浄前に，洗浄液３がオ
ーバーフローできるように，側板2aの上縁にオーバーフ
ロー機構４を設けるとともに，底板2cには超音波振動子
５を取り付ける。
【００２２】次に，ガラス基板１の洗浄時の操作につい
て説明する。先ず，加圧容器２の中に洗浄液３として，
85％硫酸と40％過酸化水素の１００：８の混合液を満た
す。この洗浄液３をオーバーフロー機構４を用いてオー
バーフローさせながら，底部の超音波振動子を作動さ
せ，３〜５分程度この状態でガラス基板１を洗浄する。
て説明する。先ず，加圧容器２の中に洗浄液３として，
85％硫酸と40％過酸化水素の１００：８の混合液を満た
す。この洗浄液３をオーバーフロー機構４を用いてオー
バーフローさせながら，底部の超音波振動子を作動さ
せ，３〜５分程度この状態でガラス基板１を洗浄する。
【００２３】この間，オーバーフローした洗浄液３は貯
液槽７に入り，加圧ポンプ６により送液配管９を通っ
て，加圧容器２内に還流される。送液配管９にはフィル
タ８を設けて，洗浄したガラス基板１上の異物や残渣を
除去する。
液槽７に入り，加圧ポンプ６により送液配管９を通っ
て，加圧容器２内に還流される。送液配管９にはフィル
タ８を設けて，洗浄したガラス基板１上の異物や残渣を
除去する。
【００２４】次に，オーバーフロー洗浄が終了したら，
上蓋2bを閉めた後，洗浄液３を加圧ポンプ６により10kg
／cm2 以上に加圧し，超音波振動子５を作動させて，超
音波周波数 0.8〜2.2 MHz, 出力 500〜１kW で超音波
洗浄を１分間行った後，30秒間，超音波洗浄を停止す
る。この洗浄サイクルで５〜10回，加圧・超音波洗浄を
行った後，上蓋2bを開けて，再び３〜５分間，洗浄液３
をオーバーフローさせて，ガラス基板１の超音波洗浄を
行う。この後，ガラス基板１は加圧容器２から取り出し
て，次の超純水によるリンス工程に移す。
上蓋2bを閉めた後，洗浄液３を加圧ポンプ６により10kg
／cm2 以上に加圧し，超音波振動子５を作動させて，超
音波周波数 0.8〜2.2 MHz, 出力 500〜１kW で超音波
洗浄を１分間行った後，30秒間，超音波洗浄を停止す
る。この洗浄サイクルで５〜10回，加圧・超音波洗浄を
行った後，上蓋2bを開けて，再び３〜５分間，洗浄液３
をオーバーフローさせて，ガラス基板１の超音波洗浄を
行う。この後，ガラス基板１は加圧容器２から取り出し
て，次の超純水によるリンス工程に移す。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように，本発明によれば，
ガラス基板上に付着している残渣や異物に対して，洗浄
液を加圧することにより，残渣や異物に対する洗浄液の
浸透力が強まり，反応が加速して，残渣や異物を除去し
やすくする。更に，このガラス基板に対する洗浄液の加
圧に超音波を併用するため気泡効果も加わり，相乗した
洗浄効果が得られ，ガラス基板上の残渣や異物を完全に
除去洗浄することができ，マスク，並びに半導体デバイ
スの品質向上に寄与するところが大きい。
ガラス基板上に付着している残渣や異物に対して，洗浄
液を加圧することにより，残渣や異物に対する洗浄液の
浸透力が強まり，反応が加速して，残渣や異物を除去し
やすくする。更に，このガラス基板に対する洗浄液の加
圧に超音波を併用するため気泡効果も加わり，相乗した
洗浄効果が得られ，ガラス基板上の残渣や異物を完全に
除去洗浄することができ，マスク，並びに半導体デバイ
スの品質向上に寄与するところが大きい。
【図１】 本発明のガラス基板の加圧容器
【図２】 本発明の加圧洗浄のタイムチャート
【図３】 従来例の説明図
１はガラス基板 ２は加圧容器 2aは側板 2bは上蓋 2cは底板 ３は洗浄液 ４はオーバーフロー機構 ５は超音波振動子 ６は加圧ポンプ ７は貯液槽 ８はフィルタ ９は送液配管
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラス基板(1) を洗浄液(3) 中に浸漬
し, 該ガラス基板(1)の表面を該洗浄液(3) により洗浄
するガラス基板洗浄方法において, 該洗浄液(3) を加圧容器(2) 中に満たし, ガラス基板
(1) の表面を該洗浄液(3) により加圧洗浄することを特
徴とするガラス基板洗浄方法。 - 【請求項２】 前記加圧容器(2) 内にオーバーフロー洗
浄機能(4) を設け,加圧ポンプ(6) により貯液槽(7) 内
の前記洗浄液(3) を送液配管(9) を通して,加圧容器(2)
内に送り込み, 前記洗浄液(3) を加圧洗浄前にオーバ
ーフローさせることを特徴とする請求項１記載のガラス
基板洗浄方法。 - 【請求項３】 前記加圧容器(2) 外に超音波振動子(5)
を設けて, 前記ガラス基板(1) の表面を該洗浄液 (3)
により加圧洗浄する際に, 超音波洗浄を併用することを
特徴とする請求項１, 或いは２記載のガラス基板洗浄方
法。 - 【請求項４】 前記ガラス基板(1) の加圧時間と休止時
間を, 各々別個に制御することを特徴とする請求項１〜
３記載のガラス基板洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21706092A JPH0669178A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ガラス基板洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21706092A JPH0669178A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ガラス基板洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0669178A true JPH0669178A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=16698206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21706092A Withdrawn JPH0669178A (ja) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | ガラス基板洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0669178A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009220111A (ja) * | 2009-07-08 | 2009-10-01 | Koji Hagiwara | 物品洗浄方法及び物品洗浄装置 |
| JP2010184215A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Fuji Hightech Co Ltd | 処理装置および処理方法 |
-
1992
- 1992-08-17 JP JP21706092A patent/JPH0669178A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010184215A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-08-26 | Fuji Hightech Co Ltd | 処理装置および処理方法 |
| JP2009220111A (ja) * | 2009-07-08 | 2009-10-01 | Koji Hagiwara | 物品洗浄方法及び物品洗浄装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991102 |