JPH0661417B2 - ガス処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はガス処理装置に関する。

【０００２】

【従来技術】各種の排ガス中には種々の微粒子を含むダ
ストが混在しており、かかる排ガスを何等処理すること
なく大気に放出する場合には大気汚染の原因となる。ま
た、かかる排ガスの熱エネルギーを有効利用する場合に
は混在するダストを十分に除去しなければならない。こ
のため、従来各種の排ガス等のガス処理装置が提案され
かつ使用されている。これらのガス処理装置のー形式と
して特開平１−１５９４０８号公報、特開平２−５６２
１１号公報に示されているようにフィルタとして、上下
方向に延びる多数のガス流入通路とガス流出通路を有し
て被処理ガスをこれら両壁部を透過させて前記被処理ガ
ス中のダストを捕捉する角柱状のハニカム状フィルタエ
レメントからなるフィルタを使用するものがある。かか
るガス処理装置においては、ハニカム状フィルタエレメ
ントの濾過面積が筒状のフィルタエレメント等他のフィ
ルタエレメントに比較して非常に大きいことから、処理
能力が非常に高いという利点がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したフ
ィルタエレメントは多数の流入通路および流出通路を備
えかつ各通路の開口面積が小さいことから、フィルタエ
レメントの強度上およびフィルタに付着するダストを離
脱させてフィルタの再生を図る逆洗浄の効率上フィルタ
の長さには自と限界がある。従って、従来のガス処理装
置においては単一のフィルタエレメントからなるフィル
タまたは複数のフィルタエレメントを並列してなるフィ
ルタを１つ使用する手段が採られ、処理能力を増大させ
るには複数のフィルタを並列配置するか、または処理装
置自体を並列配置する手段が採られている。このため、
上記したフィルタを採用した排ガス処理装置においてガ
スの処理能力を増大させた場合には、装置の設置占有面
積が大きくなるという問題がある。従って、本発明の目
的はかかる問題に対処することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明に係るガス処理装
置は、ガス流入孔とガス流出孔を有し上下方向に延びる
筒状のケーシングと、同ケーシング内に配設されて上下
方向に延び同ケーシング内を前記ガス流入孔が開口する
第１区画室と前記ガス流出孔が開口する第２区画室とに
区画する隔壁部材と、前記第２区画室に上下方向に複数
段に配設された支持部材と、同支持部材に支持されて前
記第２区画室に配設され前記第１区画室に供給された被
処理ガスを透過させて前記第２区画室に流入させるとと
もに被処理ガス中のダストを捕捉するフィルタを備えて
なるガス処理装置であり、前記フィルタとしてー端側が
目封じされて他端側が開口する内孔と他端側が目封じさ
れてー端側が開口する内孔を並列して多数有しこれら両
内孔のいずれかー方が被処理ガスの流入通路を形成しか
つ他方が処理済ガスの流出通路を形成する角柱状のハニ
カム状フィルタエレメントを水平状に上下および左右に
複数配列してなるフイルタを採用し、前記流入通路側を
前記第１区画室に開口して前記フィルタを水平状に配設
したことを特徴とするものである。

【０００５】本発明に係るガス処理装置においては、前
記フィルタを１つの支持部材に上下方向に複数段配設す
ることが好ましく、また前記ケーシング内に前記隔壁部
材を複数列配設するとともに同隔壁部材に対応する複数
列のフィルタを配設することが好ましい。

【０００６】

【発明の作用・効果】かかる構成のガス処理装置におい
ては、フィルタとしてハニカム構造のフィルタエレメン
トを水平状に上下および左右に複数配列してなるフィル
タを採用して各支持部材に水平状に配設しているもので
あるから、フィルタは上下方向に複数段に配設されるこ
とになってガス処理能力を、装置の占有面積を増大させ
ることなく著しく増大させることができる。また、フィ
ルタを１つの支持部材に上下方向に複数段配設し、およ
び／またはケーシング内に隔壁部材を複数列配設すると
ともに同隔壁部材に対応する複数列のフィルタを配設す
れば、ー定の装置占有面積に対するガス処理能力を一層
増大させることができる。

【０００７】なお、かかる構成のガス処理装置おいてガ
ス流入孔をケーシングの上方に配設する構成を採ること
ができ、かかる構成を採ることにより被処理ガス中に混
在するダストおよび各フィルタエレメントの流入通路側
壁から脱離したダストの落下方向と被処理ガスの流入方
向とが一致し、ダストのホッパ側への落下が容易かつ円
滑となる。また、この場合ホッパは各支持部材に支持さ
れた各フィルタ群毎に配設することなく、ケーシング内
に配設された全ての段数のフィルタに対して１つのホッ
パでよく、ケーシングの高さを低く構成することが可能
となる。

【０００８】

【実施例】以下本発明のー実施例を図面に基づいて説明
するに、図１および図２には本発明に係るガス処理装置
が示されている。当該ガス処理装置はケーシング１１
と、同ケーシング１１内に配設されて上下方向に延びる
ー対の隔壁部材１２，１３と、上下方向に複数段に配設
された支持部材１４，１５と、並列して複数段に配設さ
れたフィルタ２０を備えている。

【０００９】ケーシング１１は底部および頂部を有する
筒状を呈していて、筒状本体１１ａの上方側部には複数
のガス流入孔１１ｂを備えているともに頂部にはガス流
出孔１１ｃを備え、かつ底部にはポッパ部１１ｄと同ホ
ッパ部１１ｄの下端部にて開口する排出孔１１ｅを備え
ている。各隔壁部材１２，１３はケーシング１１内に互
いに対向して配置されて上下方向に延びて両端部にてケ
ーシング１１の内壁面に固着されていて、各隔壁部材１
２，１３とケーシング１１の内周面間にー対の第１区画
室ｒ1を形成し、かつ両隔壁部材１２，１３間に第２区
画室ｒ2を形成している。

【００１０】各支持部材１４，１５は両隔壁部材１２，
１３間に配設されており、第１支持部材１４は平板状の
もので両隔壁部材１２，１３の下端部およびケーシング
１１の内周面に固着されている。また、第２支持部材１
５は両隔壁部材１２，１３間に上下方向に複数段に配置
されて両隔壁部材１２，１３およびケーシング１１の内
周面に固着されていて、第１支持部材１４とともに第２
区画室ｒ2 を上下方向に複数段に区画して複数の収容室
を形成している。各第２支持部材１５は格子状の平板状
に形成されている。かかる状態において、ケーシング１
１内の各第１区画室ｒ１ には流入孔１１ｂが開口し、
かつ第２区画室ｒ2には流出孔１１ｃが開口している。

【００１１】フィルタ２０は図３および図４に示すよう
に、複数のフィルタエレメント２１ａ〜２１ｈを水平状
に上下および左右に並列的に配列してなるもので、各フ
ィルタエレメント２１ａ〜２１ｈをユニットケース２２
の各区画部２２ａ〜２２ｈ内に弾性を有する緩衝部材を
介して収容されて形成されている。フィルタエレメント
２１ａ〜２１ｈ（以下フィルタエレメント２１という場
合がある）はそれ自体公知の四角柱状のハニカム構造の
もので、長手方向に延びる多数の貫通孔を有するととも
に、各貫通孔においてはー端側において市松模様状に位
置するー方の群の開口が目封じされているとともに、他
端側においては市松模様状に位置する他方の群の開口が
目封じされていて、他方の群の貫通孔がガス流入通路を
形成し、かつー方の群の貫通孔がガス流出通路を形成し
ている。

【００１２】かかるフィルタ２０は図１および図２に示
すように、上下方向に４段に積層して各収容室の支持部
材１４または１５上に各隔壁部材１２，１３の内側に沿
ってかつ他方の群の開口が第１区画室ｒ1 側になように
配置され、ユニットケース２２の前側縁部にて各隔壁部
材１２，１３の開口縁部に固定して配設されている。こ
の状態においては、各収容室内の全てのフィルタエレメ
ント２１の他方の群の貫通孔が第１区画室ｒ1に開口
し、かつー方の群の貫通孔が第２区画室ｒ2に開口して
いる。各収容室内においてはフィルタエレメント２１の
ー方の貫通孔に並列して逆洗浄用の圧空の噴射ノズル１
６が水平状に配設されている。

【００１３】かかる構成のガス処理装置においては、被
処理ガスがケーシング１１のガス流入孔１１ｂから第１
区画室ｒ1に供給されて同区画室ｒ1に供給された被処理
ガスは下方へ流動し、各収容室に配設された各フィルタ
２０のフィルタエレメント２１におけるガス流入通路に
流入するとともに通路壁を透過してガス流出通路に流出
する。この間、被処理ガス中のダストがガス流入通路側
壁面に捕捉され、被処理ガスは清澄な処理済みガスとし
てケーシング１１のガス流出孔１１ｃからケーシング１
１外へ流出される。また、かかるガス処理装置の運転中
に定期的に逆洗浄用の圧空が噴射ノズル１６から噴射さ
れてフィルタエレメント２１の通路壁面に付着したダス
トが剥離され、剥離したダストは第１区画室ｒ1 に移行
してホッパ１１ｄ内へ落下する。

【００１４】ところで、当該ガス処理装置においてはフ
ィルタとして、ハニカム構造のフィルタエレメント２１
を水平状に上下および左右に複数配列してなるフィルタ
２０を採用して各支持部材１４，１５上に水平状に配設
しているものであるから、フィルタ２０は上下方向に複
数段に配設されることになって装置の占有面積当りのガ
ス処理能力を著しく増大させることができる。また、フ
ィルタ２０を１つの支持部材１４，１５上に上下方向に
複数段配設し、かつケーシング１１内にー対の隔壁部材
１２，１３を配設するとともに同隔壁部材１２，１３に
対応して２列にフィルタ２０を配設しているため、ー定
の装置占有面積に対するガス処理能力を一層増大させる
ことができる。

【００１５】また、当該ガス処理装置おいては、ガス流
入孔１１ｂをケーシング１１の筒状本体１１ａの上方に
配設しているため、被処理ガス中に混在するダストおよ
び各フィルタエレメント２１の流入通路側壁から脱離し
たダストの落下方向と被処理ガスの流入方向とが一致
し、ダストのホッパ１１ｄ側への落下が容易かつ円滑と
なる。この場合、ホッパ１１ｄは各支持部材１４，１５
に支持された各フィルタ２０群毎に配設する必要がな
く、ケーシング１１の高さを低く構成することが可能と
なる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のー実施例に係るガス処理装置の概略的
縦断面図である。

【図２】同ガス処理装置の概略的横断平面図である。

【図３】同ガス処理装置に採用したフィルタの正面図で
ある。

【図４】同フィルタの縦断側面図である。

【符号の説明】

１１…ケーシング、１１ｂ…ガス流入孔、１１ｃ…ガス
流出孔、１２，１３…隔壁部材、１４，１５…支持部
材、２０…フィルタ、２１…フィルタエレメント、２２
…ユニットケース、ｒ1…第１区画室、ｒ2…第２区画
室。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ガス流入孔とガス流出孔を有し上下方向に
   延びる筒状のケーシングと、同ケーシング内に配設され
   て上下方向に延び同ケーシング内を前記ガス流入孔が開
   口する第１区画室と前記ガス流出孔が開口する第２区画
   室とに区画する隔壁部材と、前記第２区画室に上下方向
   に複数段に配設された支持部材と、同支持部材に支持さ
   れて前記第２区画室に配設され前記第１区画室に供給さ
   れた被処理ガスを透過させて前記第２区画室に流入させ
   るとともに被処理ガス中のダストを捕捉するフィルタを
   備えてなるガス処理装置であり、前記フィルタとしてー
   端側が目封じされて他端側が開口する内孔と他端側が目
   封じされてー端側が開口する内孔を並列して多数有しこ
   れら両内孔のいずれかー方が被処理ガスの流入通路を形
   成しかつ他方が処理済ガスの流出通路を形成する角柱状
   のハニカム状フィルタエレメントを水平状に上下および
   左右に複数配列してなるフイルタを採用し、前記流入通
   路側を前記第１区画室に開口して前記フィルタを水平状
   に配設したことを特徴とするガス処理装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載のガス処理装置において、
   前記フィルタを１つの支持部材に上下方向に複数段配設
   したことを特徴とするガス処理装置。
3. 【請求項３】請求項１または２に記載のガス処理装置に
   おいて、前記ケーシング内に前記隔壁部材を複数配設す
   るとともに同隔壁部材に対応する複数列のフィルタを配
   設したことを特徴とするガス処理装置。