JPH06606A - 連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装置 - Google Patents

連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装置

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JPH06606A
JPH06606A JP4159804A JP15980492A JPH06606A JP H06606 A JPH06606 A JP H06606A JP 4159804 A JP4159804 A JP 4159804A JP 15980492 A JP15980492 A JP 15980492A JP H06606 A JPH06606 A JP H06606A
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琢巳 近藤
Kazuhiko Tsutsumi
一彦 堤
Atsushi Fukuda
淳 福田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 連続鋳造によって表面性状に優れた鋳片を製
造する。 【構成】 連続鋳造鋳型幅方向に2分割以上に区分され
た電磁コイルを、鋳造方向の電磁コイル中心がメニスカ
ス近傍に位置するように設け、鋳型の各長辺側でそれぞ
れ逆方向に指向する撹拌パターンにより、一方向に循環
するメニスカス流を形成するように、各電磁コイルの磁
界印加方向を独立に制御可能にし、かつ下記式を満足す
る移動磁界を印加して溶鋼に10〜60cm/secのメニス
カス流速を得る制御系を、前記電磁コイルに接続したこ
とを特徴とする連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装置。 記 50≦L×f≦40000 ただし L:コイルピッチ(mm) f:磁界周波数(Hz)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は連続鋳造鋳型内溶鋼の流
動制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】連続鋳造に際し、鋳片の未凝固部分を電
磁撹拌することによって、鋳片内部の偏析を軽減し、良
好な鋳片を得ることは、一般に行われている。例えば特
公昭64−10305号公報では鋳型の少なくとも1方
の長辺側のメニスカス近傍に、2つの電磁撹拌装置を対
向して設置し、長辺側に設置した電磁撹拌装置によっ
て、鋳型内溶鋼に巾方向の中心に向う流れを付与し、浸
漬ノズルからの溶鋼流の鋳型内溶鋼への浸透深さを浅く
して、良好な品質の鋳片を製造することが開示されてい
る。
【0003】又特開昭64−2771号公報では浸漬ノ
ズルの左右吐出口からの溶鋼吐出流の強さに応じて移動
磁界を作用させて適正な大きさの湯面変動を実現して異
常な湯面変動にともなうモールドパウダー巻込み及び鋳
片の表面割れによる表面欠陥を防止することが開示され
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】連続鋳造鋳型内の溶鋼
の流動は鋳片品質を左右する重要な要素である。本発明
は鋳型内のメニスカス流速を制御して表面性状の優れた
鋳片を得る連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装置を提供す
るものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は連続鋳造鋳型幅
方向に2分割以上に区分された電磁コイルを、鋳造方向
の電磁コイル中心がメニスカス近傍に位置するように設
け、鋳型の各長辺側でそれぞれ逆方向に指向する撹拌パ
ターンにより、一方向に循環するメニスカス流を形成す
るように、各電磁コイルの磁界印加方向を独立に制御可
能にし、かつ下記式を満足する移動磁界を印加して溶鋼
に10〜60cm/secのメニスカス流速を得る制御系を、
前記電磁コイルに接続したことを特徴とする連続鋳造鋳
型内溶鋼の流動制御装置である。 記 50≦L×f≦40000 ただし L:コイルピッチ(mm) f:磁界周波数(Hz)
【0006】以下本発明を詳述する。図1は本発明に係
る連続鋳造用の鋳型要部を一部破断して示した図であ
る。
【0007】鋳型は長辺鋳型銅板1−1,1−2と短辺
鋳型銅板1−3,1−4からなり、図示しないタンディ
ッシュに取付けられた浸漬ノズル2の下部が挿入されて
いる。この浸漬ノズル2の下部に設けられた吐出孔は鋳
型短辺方向に対向して浸漬ノズルの両側に1個ずつ開口
しているが格別限定されない。
【0008】この浸漬ノズルを介してタンディッシュか
ら鋳型内に溶鋼3が注入されるが、浸漬ノズルから吐出
した吐出流5は短辺方向に向かい短辺に当って上,下に
別れ、上方に向かった溶鋼流は吐出反転流aとなり、メ
ニスカス流6を形成する。一方下方に向かった溶鋼流b
は下降流となる。
【0009】本発明は鋳型の相対向する長辺側面1−
1,1−2の外側に鋳型幅方向に2分割以上に区分され
た撹拌用電磁コイル7−1,7−2が設けられ移動磁界
を発生する。又鋳型から離れた制御室10に移動磁界の
方向を変える切換器と電流制御器が設けられ、交流電源
に導通される。図3のLは電磁コイルのポールピッチで
ある。
【0010】本発明者らの実験によると浸漬ノズルから
注湯された溶鋼の凝固シェルへの衝突強さを確保しつ
つ、かつ吐出反転流により形成されるメニスカス流を一
定範囲に制御することは鋳片の表面性状向上に極めて有
効なる知見を得た。即ち本発明は鋳造方向の電磁コイル
中心がメニスカス近傍に位置するように設けるが、好ま
しくはメニスカス〜直下300mm以内が良い。
【0011】凝固シェルの表層を洗い流し、介在物や偏
析を除去するために、ある程度の溶鋼吐出流速は必要で
ある。さらに、メニスカスでの介在物捕捉防止のために
はメニスカス流のコントロールが必要である。即ち、溶
鋼吐出流をメニスカスからの距離別にみると図4とな
る。即ちメニスカスから300mmを臨界点とすることが
できる。従ってメニスカス流のみが存在するメニスカス
から直下300mm下までの範囲に電磁コイル中心を設置
し、メニスカス流のみをコントロールする。
【0012】本発明においてはメニスカス流速が10cm
/sec未満及び〜60cm/sec超になるときは得られる鋳片
の表面欠陥発生率が大きい。従って本発明はメニスカス
流速を10〜60cm/secの範囲に制御する。
【0013】ここでメニスカス流速と磁界移動速度との
関係について述べる。即ち磁界移動速度Vは(1)式で
表される。 V=C1 ×L×f+C2 …………………(1) (L:コイルのポールピッチ、f:磁界周波数、C1
2 :調整係数) 又、メニスカス流速Vpによって磁界移動速度を決定す
るため、磁界移動速度VはVpの関数となる。このと
き、関数は1次式(2)、又は2次式(3)で考える。 V=f(Vp)=C3 ×Vp+C4 …………………(2) =C3 ×Vp2 +C4 ×Vp+C5 …………………(3) (1)式と(2)式又は(3)式を連立させてVpにつ
いて解くと、(4)式又は(5)式となる。 Vp=C6 ×L×f+C7 …………………(4) =C6 ×L0.5 ×f0.5 +C7 …………………(5) 又、V=f(Vp)を高次式で表すとVpは(6)式の
ようになる(C7 =1/次数)。 Vp=C6 ×LC7×fC7+C8 …………………(6)
【0014】このとき、L,fと同様にVpに影響を与
えるコイル電流Iの変動は、C6 ,C8 の変化範囲に含
まれる。実際には0〜2500mAの範囲で操業を行っ
た。ここで、メニスカス流速Vpの適正値範囲(Vp
min ,Vpmax )と(6)式より(7)式が得られる。 Vpmin ≦C6 ×LC7×fC7+C8 ≦Vpmax …………………(7) これを変形すると(8)式が得られる。 C9 ≦L×f≦C10 …………………(8)
【0015】以上の導出より、V=f(Vp)の次数を
問わず(8)式が得られる。図5は横軸をL×f、縦軸
をVpという1次式前提で示すが、これよりモールド電
磁撹拌装置のコイルピッチと磁界周波数の積L×fを5
0≦L×f≦40000(L:コイルピッチ(mm)、
f:磁界周波数(Hz))とすれば、メニスカス流速を適
正に制御することが可能となる。
【0016】メニスカス流速は、例えば溶鋼流中にサー
モアロイ製の円筒を装入し流れによる抵抗力Fを歪みゲ
ージで測定する。歪みと抵抗力は予め分銅を用いて検量
線を引き回帰式より定めることができる。図2に示す制
御部10は、各電磁コイル7−1,7−2…を各別に移
動磁界の方向と強さを制御して、図6に示す撹拌パター
ンを選択することができる。
【0017】
【実施例】
実施例1 表1に示す鋳型条件及び電磁撹拌条件によって図6に示
す撹拌パターンを用いて連続鋳造して、表面欠陥の発生
率を調べた。その結果を図7に示す。(a)は従来例、
(b)は本発明例である。
【0018】
【表1】
【0019】
【表2】
【0020】吐出反転流を加減速する撹拌パタ−ンによ
り、メニスカス流速10〜60cm/secの範囲に制御して
表面欠陥の発生率は低下した。更にメニスカス流は一方
向に整流されるので、凝固組織の均一化を図ることがで
きる。
【0021】
【発明の効果】本発明によると連続鋳造の鋳型内溶鋼の
メニスカス流速を制御するので、表面性状に優れた鋳片
を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一部切欠き説明図である。
【図2】本発明の部分斜視図である。
【図3】本発明の部分平面図である。
【図4】単位体積当りの溶鋼吐出流の存在とメニスカス
とのグラフである。
【図5】磁界移動速度とL×fとのグラフである。
【図6】本発明の撹拌パターンである。
【図7】(a)及び(b)は表面欠陥発生率とメニスカ
ス流速とのグラフである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 連続鋳造鋳型幅方向に2分割以上に区分
    された電磁コイルを、鋳造方向の電磁コイル中心がメニ
    スカス近傍に位置するように設け、鋳型の各長辺側でそ
    れぞれ逆方向に指向する撹拌パターンにより、一方向に
    循環するメニスカス流を形成するように、各電磁コイル
    の磁界印加方向を独立に制御可能にし、かつ下記式を満
    足する移動磁界を印加して溶鋼に10〜60cm/secのメ
    ニスカス流速を得る制御系を、前記電磁コイルに接続し
    たことを特徴とする連続鋳造鋳型内溶鋼の流動制御装
    置。 記 50≦L×f≦40000 ただし L:コイルピッチ(mm) f:磁界周波数(Hz)
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