JPH0653084A - アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents
アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法Info
- Publication number
- JPH0653084A JPH0653084A JP20332792A JP20332792A JPH0653084A JP H0653084 A JPH0653084 A JP H0653084A JP 20332792 A JP20332792 A JP 20332792A JP 20332792 A JP20332792 A JP 20332792A JP H0653084 A JPH0653084 A JP H0653084A
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- JP
- Japan
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- acid
- aqueous solution
- electrolytic capacitor
- electrode foil
- aluminum electrolytic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安定した高い静電容量が得られるアルミニウ
ム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供することを
目的とする。 【構成】 アルミニウム箔の交流電流によるエッチング
処理を行う前工程として、塩酸を主体とし、かつリン
酸、硫酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１
種類を含ませた水溶液中へ浸漬して処理する工程と、こ
の工程の後、同一組成の水溶液中で直流電流によるエッ
チング処理を行う工程を設けることにより、高い静電容
量をもつアルミニウム電解コンデンサ用電極箔を得るこ
とができる。
ム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供することを
目的とする。 【構成】 アルミニウム箔の交流電流によるエッチング
処理を行う前工程として、塩酸を主体とし、かつリン
酸、硫酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１
種類を含ませた水溶液中へ浸漬して処理する工程と、こ
の工程の後、同一組成の水溶液中で直流電流によるエッ
チング処理を行う工程を設けることにより、高い静電容
量をもつアルミニウム電解コンデンサ用電極箔を得るこ
とができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアルミニウム電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法に関するものである。
ンサ用電極箔の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、アルミニウム電解コンデンサに
おけるコンデンサ素子は、一対のアルミニウム箔を絶縁
紙とともに巻回し、かつ駆動用電解液を含浸させること
により構成されている。アルミニウム電解コンデンサ用
電極箔は、塩素イオンを含む溶液中でその表面に電気化
学的あるいは化学的エッチング処理を施すことによって
粗面化を行い、単位面積当りの静電容量を大きくするこ
とにより、アルミニウム電解コンデンサの小形化・軽量
化を実現してきた。特に低圧用電極箔のエッチングにお
いては交流電流によるエッチング処理が行われており、
高い拡面倍率が得られている。
おけるコンデンサ素子は、一対のアルミニウム箔を絶縁
紙とともに巻回し、かつ駆動用電解液を含浸させること
により構成されている。アルミニウム電解コンデンサ用
電極箔は、塩素イオンを含む溶液中でその表面に電気化
学的あるいは化学的エッチング処理を施すことによって
粗面化を行い、単位面積当りの静電容量を大きくするこ
とにより、アルミニウム電解コンデンサの小形化・軽量
化を実現してきた。特に低圧用電極箔のエッチングにお
いては交流電流によるエッチング処理が行われており、
高い拡面倍率が得られている。
【０００３】ここで、エッチング開始前のアルミニウム
箔の表面状態が交流エッチングによる粗面化に与える影
響は大きく、エッチング後のアルミニウム箔の静電容量
を左右することもある。
箔の表面状態が交流エッチングによる粗面化に与える影
響は大きく、エッチング後のアルミニウム箔の静電容量
を左右することもある。
【０００４】実際のエッチング処理においては、多くの
場合、アルミニウム原箔の表面に残存している箔圧延時
の潤滑油等の汚れや自然酸化皮膜の除去、あるいはエッ
チングの腐食開始点の生成を目的として、例えばリン酸
やアルカリ水溶液等への浸漬処理がエッチング前処理と
して行われている。
場合、アルミニウム原箔の表面に残存している箔圧延時
の潤滑油等の汚れや自然酸化皮膜の除去、あるいはエッ
チングの腐食開始点の生成を目的として、例えばリン酸
やアルカリ水溶液等への浸漬処理がエッチング前処理と
して行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな浸漬処理による方法ではアルミニウム原箔の表面状
態、すなわち汚れや自然酸化皮膜のつき方によって処理
ムラを生じたり、その効果が不十分であるために、十分
な静電容量が得られていないという問題点があった。
うな浸漬処理による方法ではアルミニウム原箔の表面状
態、すなわち汚れや自然酸化皮膜のつき方によって処理
ムラを生じたり、その効果が不十分であるために、十分
な静電容量が得られていないという問題点があった。
【０００６】本発明はこのような従来の問題点を解決す
るもので、従来よりも安定した高い静電容量が得られる
アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供
することを目的とするものである。
るもので、従来よりも安定した高い静電容量が得られる
アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供
することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造
方法は、アルミニウム箔の交流電流によるエッチング処
理を行う前工程として、塩酸を主体とし、かつリン酸、
硫酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１種類
を含ませた水溶液中へ浸漬して処理する工程と、この工
程の後、同一組成の水溶液中で直流電流によるエッチン
グ処理を行う工程を設けたものである。
に本発明のアルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造
方法は、アルミニウム箔の交流電流によるエッチング処
理を行う前工程として、塩酸を主体とし、かつリン酸、
硫酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１種類
を含ませた水溶液中へ浸漬して処理する工程と、この工
程の後、同一組成の水溶液中で直流電流によるエッチン
グ処理を行う工程を設けたものである。
【０００８】
【作用】上記製造方法によれば、アルミニウム箔の交流
電流によるエッチング処理を行う前工程として、塩酸を
主体とし、かつリン酸、硫酸、シュウ酸およびクロム酸
のうち少なくとも１種類を含ませた水溶液中へ浸漬して
処理する工程と、この工程の後、同一組成の水溶液中で
直流電流によるエッチング処理を行う工程を設けている
ため、この二つの工程によってアルミニウム原箔の表面
の汚れや自然酸化皮膜を均一かつ十分に除去することが
でき、その結果、電極箔の表面に均一な保護皮膜を形成
することができる。この保護皮膜は多孔質のものであ
り、孔以外の部分は皮膜に覆われているために不活性で
あるが、孔の部分は塩素イオンにより浸食されて活性と
なる。したがって、この後に交流電流によるエッチング
処理を行うと、アルミニウム箔の表面上の活性部分、す
なわち孔の部分からの腐食が均一かつ高密度に起こり、
不活性な部分からの腐食は起こらないため、高い静電容
量を安定して得ることができる。
電流によるエッチング処理を行う前工程として、塩酸を
主体とし、かつリン酸、硫酸、シュウ酸およびクロム酸
のうち少なくとも１種類を含ませた水溶液中へ浸漬して
処理する工程と、この工程の後、同一組成の水溶液中で
直流電流によるエッチング処理を行う工程を設けている
ため、この二つの工程によってアルミニウム原箔の表面
の汚れや自然酸化皮膜を均一かつ十分に除去することが
でき、その結果、電極箔の表面に均一な保護皮膜を形成
することができる。この保護皮膜は多孔質のものであ
り、孔以外の部分は皮膜に覆われているために不活性で
あるが、孔の部分は塩素イオンにより浸食されて活性と
なる。したがって、この後に交流電流によるエッチング
処理を行うと、アルミニウム箔の表面上の活性部分、す
なわち孔の部分からの腐食が均一かつ高密度に起こり、
不活性な部分からの腐食は起こらないため、高い静電容
量を安定して得ることができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００１０】本発明の実施例では、交流電流によるエッ
チング処理を行う前工程として、アルミニウム箔を７ｗ
ｔ％ ＨＣｌ、１５ｗｔ％ Ｈ2ＳＯ4、１０ｗｔ％ Ａ
ｌＣｌ3、液温８０℃の水溶液中に６０秒間浸漬する処
理を実施し、この工程の後、同一組成・同一液温の水溶
液中で、直流電流によるエッチング処理として、電流密
度０．３Ａ／cm2の直流電流を１０秒間印加した。この
後、交流電流によるエッチング処理を８ｗｔ％ ＨＣ
ｌ、２ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温３５℃の水溶液中で、
電流密度０．３Ａ／cm2、周波数６０Hzの交流電流で４
２０秒間行った。
チング処理を行う前工程として、アルミニウム箔を７ｗ
ｔ％ ＨＣｌ、１５ｗｔ％ Ｈ2ＳＯ4、１０ｗｔ％ Ａ
ｌＣｌ3、液温８０℃の水溶液中に６０秒間浸漬する処
理を実施し、この工程の後、同一組成・同一液温の水溶
液中で、直流電流によるエッチング処理として、電流密
度０．３Ａ／cm2の直流電流を１０秒間印加した。この
後、交流電流によるエッチング処理を８ｗｔ％ ＨＣ
ｌ、２ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温３５℃の水溶液中で、
電流密度０．３Ａ／cm2、周波数６０Hzの交流電流で４
２０秒間行った。
【００１１】その比較例としては、交流電流によるエッ
チング処理を行う前に、アルミニウム箔に３ｗｔ％ Ｎ
ａＯＨ、液温５０℃の水溶液中で、１８０秒間浸漬する
浸漬処理を行い、この後、交流電流によるエッチング処
理を８ｗｔ％ ＨＣｌ、２ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温３
５℃の水溶液中で、電流密度０．３Ａ／cm2、周波数６
０Hzの交流電流で４２０秒間行った。
チング処理を行う前に、アルミニウム箔に３ｗｔ％ Ｎ
ａＯＨ、液温５０℃の水溶液中で、１８０秒間浸漬する
浸漬処理を行い、この後、交流電流によるエッチング処
理を８ｗｔ％ ＨＣｌ、２ｗｔ％ ＡｌＣｌ3、液温３
５℃の水溶液中で、電流密度０．３Ａ／cm2、周波数６
０Hzの交流電流で４２０秒間行った。
【００１２】上記した本発明の実施例および比較例でエ
ッチングされたそれぞれのアルミニウム箔について、７
０Ｖで化成処理を実施したときの両者の静電容量を比較
すると、比較例では１６．３μＦ／cm2であるのに対
し、本発明の実施例では１８．１μＦ／cm2であった。
ッチングされたそれぞれのアルミニウム箔について、７
０Ｖで化成処理を実施したときの両者の静電容量を比較
すると、比較例では１６．３μＦ／cm2であるのに対
し、本発明の実施例では１８．１μＦ／cm2であった。
【００１３】上記のように本発明の実施例におけるアル
ミニウム電解コンデンサ用電極箔は比較例に対し、１０
％以下高い静電容量を得ることができる。これは交流電
流によるエッチング処理の前工程として行われる本発明
の実施例の浸漬処理および直流電流によるエッチング処
理の方が、比較例の３ｗｔ％ ＮａＯＨへの浸漬処理の
みの場合に比べ、その電流を制御することにより、表面
の汚れや自然酸化皮膜の除去をより均一かつ十分に行う
ことができ、そして、直流電流によるエッチング処理液
中に含まれる皮膜形成作用を有する硫酸により、均一で
高密度の腐食開始点を生成しうる保護皮膜を形成するか
らである。
ミニウム電解コンデンサ用電極箔は比較例に対し、１０
％以下高い静電容量を得ることができる。これは交流電
流によるエッチング処理の前工程として行われる本発明
の実施例の浸漬処理および直流電流によるエッチング処
理の方が、比較例の３ｗｔ％ ＮａＯＨへの浸漬処理の
みの場合に比べ、その電流を制御することにより、表面
の汚れや自然酸化皮膜の除去をより均一かつ十分に行う
ことができ、そして、直流電流によるエッチング処理液
中に含まれる皮膜形成作用を有する硫酸により、均一で
高密度の腐食開始点を生成しうる保護皮膜を形成するか
らである。
【００１４】また、交流電流によるエッチング処理の前
工程として行われる浸漬処理と直流電流によるエッチン
グ処理は、同一の処理液を使用しているため、連続して
行うことができ、その間に水洗い等の処理を設ける必要
がない。
工程として行われる浸漬処理と直流電流によるエッチン
グ処理は、同一の処理液を使用しているため、連続して
行うことができ、その間に水洗い等の処理を設ける必要
がない。
【００１５】本発明の実施例で用いられる浸漬処理およ
び直流電流によるエッチング処理液の塩酸濃度は１〜２
０ｗｔ％で、好ましくは３〜１０ｗｔ％がよく、かつ硫
酸を０．１〜３０ｗｔ％、特に好ましくは３〜２５ｗｔ
％を含むものがよい。また直流エッチング処理の条件と
しては０．０５〜１Ａ／cm2の直流電流を１０〜９０秒
間印加する。そしてまた、処理液の温度としては２０〜
９０℃がよく、好ましくは６０〜９０℃がよい。
び直流電流によるエッチング処理液の塩酸濃度は１〜２
０ｗｔ％で、好ましくは３〜１０ｗｔ％がよく、かつ硫
酸を０．１〜３０ｗｔ％、特に好ましくは３〜２５ｗｔ
％を含むものがよい。また直流エッチング処理の条件と
しては０．０５〜１Ａ／cm2の直流電流を１０〜９０秒
間印加する。そしてまた、処理液の温度としては２０〜
９０℃がよく、好ましくは６０〜９０℃がよい。
【００１６】なお、上記本発明の実施例では、塩酸を主
体とする水溶液に硫酸を用いたものについて説明した
が、硫酸の代わりにリン酸、シュウ酸、クロム酸のいず
れか一つを用いても上記実施例と同様の効果を有するも
のである。
体とする水溶液に硫酸を用いたものについて説明した
が、硫酸の代わりにリン酸、シュウ酸、クロム酸のいず
れか一つを用いても上記実施例と同様の効果を有するも
のである。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明のアルミニウム電解
コンデンサ用電極箔の製造方法によれば、アルミニウム
箔の交流電流によるエッチング処理を行う前工程とし
て、塩酸を主体とし、かつリン酸、硫酸、シュウ酸、お
よびクロム酸のうち少なくとも１種類を含ませた水溶液
中へ浸漬して処理する工程と、この工程の後、同一組成
の水溶液中で直流電流によるエッチング処理を行う工程
を設けているため、高い静電容量をもつアルミニウム電
解コンデンサ用電極箔を得ることができるものである。
コンデンサ用電極箔の製造方法によれば、アルミニウム
箔の交流電流によるエッチング処理を行う前工程とし
て、塩酸を主体とし、かつリン酸、硫酸、シュウ酸、お
よびクロム酸のうち少なくとも１種類を含ませた水溶液
中へ浸漬して処理する工程と、この工程の後、同一組成
の水溶液中で直流電流によるエッチング処理を行う工程
を設けているため、高い静電容量をもつアルミニウム電
解コンデンサ用電極箔を得ることができるものである。
Claims (1)
- 【請求項１】アルミニウム箔の交流電流によるエッチン
グ処理を行う前工程として、塩酸を主体としかつリン
酸、硫酸、シュウ酸およびクロム酸のうち少なくとも１
種類を含ませた水溶液中へ浸漬して処理する工程と、こ
の工程の後、同一組成の水溶液中で直流電流によるエッ
チング処理を行う工程を設けたアルミニウム電解コンデ
ンサ用電極箔の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20332792A JPH0653084A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20332792A JPH0653084A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0653084A true JPH0653084A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=16472180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20332792A Pending JPH0653084A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653084A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3023905U (ja) * | 1995-10-19 | 1996-05-07 | 株式会社マーナ | 歯ブラシ保持具 |
| CN102543478A (zh) * | 2012-01-13 | 2012-07-04 | 西安交通大学 | 一种提高低压阳极铝箔比容的方法 |
-
1992
- 1992-07-30 JP JP20332792A patent/JPH0653084A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3023905U (ja) * | 1995-10-19 | 1996-05-07 | 株式会社マーナ | 歯ブラシ保持具 |
| CN102543478A (zh) * | 2012-01-13 | 2012-07-04 | 西安交通大学 | 一种提高低压阳极铝箔比容的方法 |
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