JPH0652575A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
- Publication number
- JPH0652575A JPH0652575A JP4224918A JP22491892A JPH0652575A JP H0652575 A JPH0652575 A JP H0652575A JP 4224918 A JP4224918 A JP 4224918A JP 22491892 A JP22491892 A JP 22491892A JP H0652575 A JPH0652575 A JP H0652575A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- recording film
- substrate
- protective coat
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 記録膜と積層された保護コートと光ディスク
基板との接触面に微細な凹凸構造（ピッチが１μｍ以上
１０００μｍ以下の範囲にあることが好ましい）が設け
られている光ディスク。 【効果】 保護コートと光ディスク基板との密着性が高
く、長期間使用しても光ディスク性能の低下がない。
基板との接触面に微細な凹凸構造（ピッチが１μｍ以上
１０００μｍ以下の範囲にあることが好ましい）が設け
られている光ディスク。 【効果】 保護コートと光ディスク基板との密着性が高
く、長期間使用しても光ディスク性能の低下がない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザー光などの光ビームを用いて情報
を記録する円盤状記録媒体（以下、光ディスクとい
う。）の記録膜は一般に、酸化、腐食等を受け易い材料
からなるため紫外線硬化樹脂などによって保護コートさ
れている。光ディスクの使用寿命は一般に１０年以上が
必要とされており、１０年以上にわたって記録膜の劣化
を防止するためには、保護コート剤の酸素透過性および
水分透過性が一定値以下であるとともに、コート膜と記
録膜および光ディスク基板との密着性が高いことが要求
される。
を記録する円盤状記録媒体（以下、光ディスクとい
う。）の記録膜は一般に、酸化、腐食等を受け易い材料
からなるため紫外線硬化樹脂などによって保護コートさ
れている。光ディスクの使用寿命は一般に１０年以上が
必要とされており、１０年以上にわたって記録膜の劣化
を防止するためには、保護コート剤の酸素透過性および
水分透過性が一定値以下であるとともに、コート膜と記
録膜および光ディスク基板との密着性が高いことが要求
される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】スピンコート法などに
より塗布された後、紫外線を照射するなどして硬化され
た記録膜の保護コート剤は、光ディスクを長期間使用す
るうちに、コート剤が劣化する、基板が劣化する、接触
界面へ水分が進入するなどの理由によって性能が低下
し、水分等が侵入することにより記録膜の劣化をひきお
こすことがあった。特にコート剤と光ディスク基板との
密着性が低いと、光ディスクの端面から酸素および水分
が進入し、記録膜を著しく劣化することがあった。
より塗布された後、紫外線を照射するなどして硬化され
た記録膜の保護コート剤は、光ディスクを長期間使用す
るうちに、コート剤が劣化する、基板が劣化する、接触
界面へ水分が進入するなどの理由によって性能が低下
し、水分等が侵入することにより記録膜の劣化をひきお
こすことがあった。特にコート剤と光ディスク基板との
密着性が低いと、光ディスクの端面から酸素および水分
が進入し、記録膜を著しく劣化することがあった。
【０００４】本発明の目的は、保護コートと光ディスク
外周部および内周部の光ディスク基板の露出部との密着
強度が高く、長期間使用しても保護コートの剥離がなく
良好な記録膜保護性能が維持される光ディスクを提供す
ることにある。
外周部および内周部の光ディスク基板の露出部との密着
強度が高く、長期間使用しても保護コートの剥離がなく
良好な記録膜保護性能が維持される光ディスクを提供す
ることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、保護コートと光ディスク基板との接触面に微細
な凹凸構造が設けられている光ディスクを提供すること
により達成される。保護コートと光ディスク基板との高
い密着力が得られる点で、上記の微細な凹凸構造のピッ
チが１μｍ以上１０００μｍ以下の範囲にあることが好
ましく、１００μｍ以上５００μｍ以下にあることがよ
り好ましい。該凹凸構造は、例えば、射出成形法、射出
圧縮成形法、圧縮成形法、フォトポリマー法（２Ｐ
法）、サンドブラスト法、加熱圧縮法等の任意の方法で
成形することができる。
目的は、保護コートと光ディスク基板との接触面に微細
な凹凸構造が設けられている光ディスクを提供すること
により達成される。保護コートと光ディスク基板との高
い密着力が得られる点で、上記の微細な凹凸構造のピッ
チが１μｍ以上１０００μｍ以下の範囲にあることが好
ましく、１００μｍ以上５００μｍ以下にあることがよ
り好ましい。該凹凸構造は、例えば、射出成形法、射出
圧縮成形法、圧縮成形法、フォトポリマー法（２Ｐ
法）、サンドブラスト法、加熱圧縮法等の任意の方法で
成形することができる。
【０００６】本発明における基板としては、ポリエステ
ル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカ
ーボネイト樹脂、ポリメタクリル樹脂等の透明性に優れ
た透明樹脂材料またはガラス等の無機材料より得られる
ものを用いることができる。当該樹脂基板は、カレンダ
リング法、射出成形法、射出圧縮成形法、圧縮成形法、
フォトポリマー（２Ｐ）法等の任意の方法により成形さ
れたものが使用できる。また、保護コート剤は紫外線硬
化型のものが一般的に用いられ、酸素透過性および水分
透過性が低いものが望ましく、さらに金属とも樹脂とも
密着力の高いものが望ましいが、本発明によれば密着力
の低いコート剤と光ディスク基板樹脂との組合せも可能
である。使用されるコート剤としては、アクリレート化
合物、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリ
レート、ポリエステルアクリレート等をあげることがで
きる。これらのコート剤はスピンコート法、ディップ
法、シャワー法等の任意の方法で塗布することができ
る。
ル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカ
ーボネイト樹脂、ポリメタクリル樹脂等の透明性に優れ
た透明樹脂材料またはガラス等の無機材料より得られる
ものを用いることができる。当該樹脂基板は、カレンダ
リング法、射出成形法、射出圧縮成形法、圧縮成形法、
フォトポリマー（２Ｐ）法等の任意の方法により成形さ
れたものが使用できる。また、保護コート剤は紫外線硬
化型のものが一般的に用いられ、酸素透過性および水分
透過性が低いものが望ましく、さらに金属とも樹脂とも
密着力の高いものが望ましいが、本発明によれば密着力
の低いコート剤と光ディスク基板樹脂との組合せも可能
である。使用されるコート剤としては、アクリレート化
合物、例えば、エポキシアクリレート、ウレタンアクリ
レート、ポリエステルアクリレート等をあげることがで
きる。これらのコート剤はスピンコート法、ディップ
法、シャワー法等の任意の方法で塗布することができ
る。
【０００７】
【実施例】以下に本発明の実施例について説明する。 〈実施例１〉射出成形法によって作製された、厚さ１．
２ｍｍ、内径１５ｍｍ、外径１３０ｍｍのポリカーボネ
イト製透明円形基板上に半径１８〜２３ｍｍおよび６３
〜６５ｍｍの部分にサンドブラスト処理によってピッチ
約５０μｍの凹凸構造を形成した後、ＴｂＦｅＣｏ膜、
ＳｉＮ膜等が積層された光磁気記録膜を成膜し、ウレタ
ンアクリレートからなる紫外線硬化型保護コート剤をス
ピンコート法によって塗布し、紫外線を照射して硬化さ
せた。当該基板を保護コートの側を内側にしてホットメ
ルト接着剤で二枚貼合わせた後、紫外線硬化型接着剤で
ハブを接着し、光ディスクを作製した。 〈実施例２〉サンドブラスト処理の代わりに加熱圧縮法
を用いてピッチ約５００μｍの凹凸構造を形成した他は
実施例１と同様に行い、光ディスクを作製した。
２ｍｍ、内径１５ｍｍ、外径１３０ｍｍのポリカーボネ
イト製透明円形基板上に半径１８〜２３ｍｍおよび６３
〜６５ｍｍの部分にサンドブラスト処理によってピッチ
約５０μｍの凹凸構造を形成した後、ＴｂＦｅＣｏ膜、
ＳｉＮ膜等が積層された光磁気記録膜を成膜し、ウレタ
ンアクリレートからなる紫外線硬化型保護コート剤をス
ピンコート法によって塗布し、紫外線を照射して硬化さ
せた。当該基板を保護コートの側を内側にしてホットメ
ルト接着剤で二枚貼合わせた後、紫外線硬化型接着剤で
ハブを接着し、光ディスクを作製した。 〈実施例２〉サンドブラスト処理の代わりに加熱圧縮法
を用いてピッチ約５００μｍの凹凸構造を形成した他は
実施例１と同様に行い、光ディスクを作製した。
【０００８】〈比較例１〉射出成形法によって作製され
た、厚さ１．２ｍｍ、内径１５ｍｍ、外径１３０ｍｍの
ポリカーボネイト製透明円形基板（凹凸構造を有しな
い）に実施例１と同じ記録膜を成膜し、ウレタンアクリ
レートの紫外線硬化型保護コート剤をスピンコート法に
よって塗布し、紫外線を照射して硬化させた。当該基板
を保護コートの側を内側にしてホットメルト接着剤で二
枚貼合わせた後、紫外線硬化型接着剤でハブを接着し、
光ディスクを作製した。
た、厚さ１．２ｍｍ、内径１５ｍｍ、外径１３０ｍｍの
ポリカーボネイト製透明円形基板（凹凸構造を有しな
い）に実施例１と同じ記録膜を成膜し、ウレタンアクリ
レートの紫外線硬化型保護コート剤をスピンコート法に
よって塗布し、紫外線を照射して硬化させた。当該基板
を保護コートの側を内側にしてホットメルト接着剤で二
枚貼合わせた後、紫外線硬化型接着剤でハブを接着し、
光ディスクを作製した。
【０００９】上記各例の光ディスクにおいて、外周部の
ＣＮＲ（Ｃａｒｒｉｅｒ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉ
ｏ）を測定した結果を表１に示す。また、各例の光ディ
スクを温度８０℃、湿度８５％Ｒ．Ｈ．の環境下に２０
００時間放置し、その後、外周部のＣＮＲを測定した結
果を表２に示す。
ＣＮＲ（Ｃａｒｒｉｅｒ ｔｏ Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉ
ｏ）を測定した結果を表１に示す。また、各例の光ディ
スクを温度８０℃、湿度８５％Ｒ．Ｈ．の環境下に２０
００時間放置し、その後、外周部のＣＮＲを測定した結
果を表２に示す。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、保護コートと光ディス
ク基板との密着性が高く、長時間使用しても性能が低下
することのない光ディスクを提供することができる。
ク基板との密着性が高く、長時間使用しても性能が低下
することのない光ディスクを提供することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 記録膜と樹脂からなる保護コートとが積
層された光ディスクであって、保護コートと光ディスク
基板との接触面に微細な凹凸構造が設けられていること
を特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】 微細な凹凸構造のピッチが１μｍ以上１
０００μｍ以下の範囲にあることを特徴とする請求項１
記載の光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4224918A JPH0652575A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4224918A JPH0652575A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0652575A true JPH0652575A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=16821209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4224918A Pending JPH0652575A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0652575A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997021495A1 (de) * | 1995-12-08 | 1997-06-19 | Steag Hamatech Gmbh Machines | Vorrichtung zum beschichten von scheibenförmigen informations-speichermedien |
| US7580432B2 (en) | 1994-04-01 | 2009-08-25 | Imra America, Inc. | Scanning temporal ultrafast delay methods and apparatuses therefor |
-
1992
- 1992-07-30 JP JP4224918A patent/JPH0652575A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7580432B2 (en) | 1994-04-01 | 2009-08-25 | Imra America, Inc. | Scanning temporal ultrafast delay methods and apparatuses therefor |
| US8265105B2 (en) | 1994-04-01 | 2012-09-11 | Imra America, Inc. | Scanning temporal ultrafast delay and methods and apparatuses therefor |
| US8630321B2 (en) | 1994-04-01 | 2014-01-14 | Imra America, Inc. | Scanning temporal ultrafast delay and methods and apparatuses therefor |
| WO1997021495A1 (de) * | 1995-12-08 | 1997-06-19 | Steag Hamatech Gmbh Machines | Vorrichtung zum beschichten von scheibenförmigen informations-speichermedien |
| AU696079B2 (en) * | 1995-12-08 | 1998-09-03 | Steag Hamatech Ag | Device for coating disc-shaped information storage media |
| US6074482A (en) * | 1995-12-08 | 2000-06-13 | Steag Hamatech Ag | Device for coating disc-shaped information storage media |
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