JPH0652388B2 - 記録材料 - Google Patents
記録材料Info
- Publication number
- JPH0652388B2 JPH0652388B2 JP61104203A JP10420386A JPH0652388B2 JP H0652388 B2 JPH0652388 B2 JP H0652388B2 JP 61104203 A JP61104203 A JP 61104203A JP 10420386 A JP10420386 A JP 10420386A JP H0652388 B2 JPH0652388 B2 JP H0652388B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording material
- polystyrene
- present
- stilbene
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
- G03C1/733—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds with macromolecular compounds as photosensitive substances, e.g. photochromic
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、記録材料、特にポリメチルビニルエーテル及
び特定の構造を有するポリメチレンを含有する記録層を
有する記録材料に関するものである。
び特定の構造を有するポリメチレンを含有する記録層を
有する記録材料に関するものである。
詳しくは、光照射することによりtrans−スチルベンをc
is−スチルベンに変換し、加熱することにより、両者の
相分離温度の違いにより生ずる透明及び不透明状態部分
の透過率および反射率の変化を利用して記録を行なう光
・熱記録材料に関するものである。
is−スチルベンに変換し、加熱することにより、両者の
相分離温度の違いにより生ずる透明及び不透明状態部分
の透過率および反射率の変化を利用して記録を行なう光
・熱記録材料に関するものである。
近年、高分子のもつ様々な物性・機能を光照射により可
逆的に制御することが試みられており、この目的のため
に、ホトクロミック分子を主鎖あるいは側鎖に含む高分
子が合成され、その光応答挙動が検討されている。
逆的に制御することが試みられており、この目的のため
に、ホトクロミック分子を主鎖あるいは側鎖に含む高分
子が合成され、その光応答挙動が検討されている。
本発明者は有用な光応答素子（記録材料）を組みあげる
には、光以外の何らかの増幅過程をその中に含ませるこ
とが必要と考え、増幅を実現するための一つの手段とし
て相転移現象を記録材料に応用することを鋭意検討した
結果、ポリメチルビニルエーテル及び特定のポリスチレ
ンを含有する記録層に光照射後、増幅過程として加熱す
ることによりtrans−スチルベンとcis−スチルベンの相
分離温度の違いにより生じる透明および不透明状態部分
の透過率および反射率の変化を利用することにより、画
像形成を行なうことができることを知得し、本発明を完
成するに至つた。
には、光以外の何らかの増幅過程をその中に含ませるこ
とが必要と考え、増幅を実現するための一つの手段とし
て相転移現象を記録材料に応用することを鋭意検討した
結果、ポリメチルビニルエーテル及び特定のポリスチレ
ンを含有する記録層に光照射後、増幅過程として加熱す
ることによりtrans−スチルベンとcis−スチルベンの相
分離温度の違いにより生じる透明および不透明状態部分
の透過率および反射率の変化を利用することにより、画
像形成を行なうことができることを知得し、本発明を完
成するに至つた。
本発明は、透明率及び反射率の変化が大きく、フオトン
モード（光）とヒートモード（熱）の組み合せて選択的
に画像を形成することによつて記録できる記録層を有す
る記録材料を提供することを目的とするものである。
モード（光）とヒートモード（熱）の組み合せて選択的
に画像を形成することによつて記録できる記録層を有す
る記録材料を提供することを目的とするものである。
本発明は、ポリメチルビニルエーテル及び下記一般式
〔Ａ〕並びに〔Ｂ〕 （式中、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はメチル基、エチル基
等のアルキル基を示し、Ｘは１〜５０％を示し、ｎは９
９〜５０％を示す。）で表わされる構成単位を有するポ
リスチレン（以下単に「ポリスチレン」という。）を含
有する記録層を有することを特徴とする記録材料をその
要旨とするものである。
〔Ａ〕並びに〔Ｂ〕 （式中、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はメチル基、エチル基
等のアルキル基を示し、Ｘは１〜５０％を示し、ｎは９
９〜５０％を示す。）で表わされる構成単位を有するポ
リスチレン（以下単に「ポリスチレン」という。）を含
有する記録層を有することを特徴とする記録材料をその
要旨とするものである。
本発明に使用されるポリメチルビニルエーテルとして
は、平均分子量が1,000〜200,000の範囲のものが挙げら
れ、好ましくは2,000〜100,000の範囲のものが挙げら
れ、ポリスチレンとしては前記一般式〔Ａ〕及び〔Ｂ〕
を構成単位として含有し、〔Ａ〕成分を分子中に１〜５
０％（モル）、〔Ｂ〕成分を９９〜５０％（モル）含有
し、その平均分子量が、2,000〜2,000,000の範囲のもの
が挙げられ、好ましくは6000〜200,000の範囲のものが
挙げられる。
は、平均分子量が1,000〜200,000の範囲のものが挙げら
れ、好ましくは2,000〜100,000の範囲のものが挙げら
れ、ポリスチレンとしては前記一般式〔Ａ〕及び〔Ｂ〕
を構成単位として含有し、〔Ａ〕成分を分子中に１〜５
０％（モル）、〔Ｂ〕成分を９９〜５０％（モル）含有
し、その平均分子量が、2,000〜2,000,000の範囲のもの
が挙げられ、好ましくは6000〜200,000の範囲のものが
挙げられる。
また、ポリメチルビニルエーテルとポリスチレンの使用
割合としては９９：１〜１：９９の範囲が挙げられ、好
ましくは９５：５〜２０：８０の範囲が挙げられる。
割合としては９９：１〜１：９９の範囲が挙げられ、好
ましくは９５：５〜２０：８０の範囲が挙げられる。
本発明の記録材料における基板としては、使用するレー
ザー光に対して透明または不透明のいずれでもよい。基
板材料の材質としては、ガラス、プラスチツク、紙、板
状または箔状の金属等の一般の記録材料の支持体が挙げ
られるが、プラスチツクが種々の点から好適である。プ
ラスチツクとしては、アクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロー
ス、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリサ
ルホン樹脂等が挙げられる。
ザー光に対して透明または不透明のいずれでもよい。基
板材料の材質としては、ガラス、プラスチツク、紙、板
状または箔状の金属等の一般の記録材料の支持体が挙げ
られるが、プラスチツクが種々の点から好適である。プ
ラスチツクとしては、アクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、ニトロセルロー
ス、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリサ
ルホン樹脂等が挙げられる。
塗布による成膜は、高分子化合物混合物を溶媒中に溶解
または分散させたものをキヤストまたはスピンコートす
ることにより得られる。溶媒としては、トルエン、ジメ
チルホルムアミド、メチルエチルケトン、エチルセルソ
ルブ、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロベ
ンゼン等の各種のものを用いることができる。
または分散させたものをキヤストまたはスピンコートす
ることにより得られる。溶媒としては、トルエン、ジメ
チルホルムアミド、メチルエチルケトン、エチルセルソ
ルブ、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、クロロベ
ンゼン等の各種のものを用いることができる。
紫外光の光源としては、水銀ランプ、キセノンランプ、
He−Cdレーザー等の各種の光源を用いることができる。
He−Cdレーザー等の各種の光源を用いることができる。
本発明の記録原理を詳しく述べると下記の通りである。
ポリメチルビニルエーテルとポリスチレンとは室温にお
いて相溶性をもつが、昇温によりそれらの組成比に応じ
て所定の温度、例えば、第１図 に示すように約１００〜２００℃において相分離する。
また、このポリスチレンは紫外光等の照射によりトラン
スcis光異性化するスチルベン基を有するので、ポリ
マーの相容性がその構造異性によつて影響をうけ、昇温
した時、光異性化した部分と光異性化していない部分と
は相分離温度が異なつてくる。例えば、cis体が約３０
％となるように照射したときの各組成比における相分離
温度は、第１図（ｏ−ｏ cis）に示す通りであり、照
射前のトランス体と比較すると約１０〜１５℃程度低く
なつている。この相分離温度の差を利用して透明部分
（光異性化していない部分）と不透明部分（光異性化し
た部分）を形成すれば、それらの透過率または反射率の
差による画像が形成され、記録を行なうことができるの
である。
いて相溶性をもつが、昇温によりそれらの組成比に応じ
て所定の温度、例えば、第１図 に示すように約１００〜２００℃において相分離する。
また、このポリスチレンは紫外光等の照射によりトラン
スcis光異性化するスチルベン基を有するので、ポリ
マーの相容性がその構造異性によつて影響をうけ、昇温
した時、光異性化した部分と光異性化していない部分と
は相分離温度が異なつてくる。例えば、cis体が約３０
％となるように照射したときの各組成比における相分離
温度は、第１図（ｏ−ｏ cis）に示す通りであり、照
射前のトランス体と比較すると約１０〜１５℃程度低く
なつている。この相分離温度の差を利用して透明部分
（光異性化していない部分）と不透明部分（光異性化し
た部分）を形成すれば、それらの透過率または反射率の
差による画像が形成され、記録を行なうことができるの
である。
以下、実施例によりこの発明を具体的に説明するが、か
かる実施例は本発明を限定するものではない。
かる実施例は本発明を限定するものではない。
実施例１ ポリビニルメチルエーテル（Lutonal M40、ＢＡＳＦ社
製造、商品名）7.5ｇと下記〔Ｉ〕 で表わされるtrans−スチルベンをペンダントとして有
するポリスチレン（平均分子量51,000）2.5ｇとをトル
エン１００mlに溶解し、これをガラス板上にキヤスト
し、厚さ３０μｍのフイルムを得た。このフイルムの表
面の半分にキセノンランプの紫外光をcis体が約３０％
になるように照射量を調節して照射した。
製造、商品名）7.5ｇと下記〔Ｉ〕 で表わされるtrans−スチルベンをペンダントとして有
するポリスチレン（平均分子量51,000）2.5ｇとをトル
エン１００mlに溶解し、これをガラス板上にキヤスト
し、厚さ３０μｍのフイルムを得た。このフイルムの表
面の半分にキセノンランプの紫外光をcis体が約３０％
になるように照射量を調節して照射した。
次にこのフイルムの全面を９０℃に加熱したところ、紫
外光を照射した部分は白濁し、不透明になつた。その際
の紫外光照射部と非照射部透過率の比は１：２０であ
り、十分記録材料として使用できることが判つた。
外光を照射した部分は白濁し、不透明になつた。その際
の紫外光照射部と非照射部透過率の比は１：２０であ
り、十分記録材料として使用できることが判つた。
実施例２ ポリビニルメチルエーテル（Lutonal M40、ＢＡＳＦ社
製造、商品名）３ｇと下記〔Ｉ〕 で表わされるtrans−スチルベンをペンダントとして有
するポリスチレン（平均分子量110,000）１ｇとをトル
エン１００mlに溶解し、これをガラス板上にキヤスト
し、厚さ５０μｍのフイルムを得た。このフイルムに露
光マスク（TOPPAN TEST CHARTS CP6R1）を密着させ、キ
セノンランプの紫外光をcis体が約３０％になるように
照射量を調節して照射した。
製造、商品名）３ｇと下記〔Ｉ〕 で表わされるtrans−スチルベンをペンダントとして有
するポリスチレン（平均分子量110,000）１ｇとをトル
エン１００mlに溶解し、これをガラス板上にキヤスト
し、厚さ５０μｍのフイルムを得た。このフイルムに露
光マスク（TOPPAN TEST CHARTS CP6R1）を密着させ、キ
セノンランプの紫外光をcis体が約３０％になるように
照射量を調節して照射した。
次にこのフイルムを９０℃に加熱したところ、cis体の
部分は白濁し、マスクのパターンに応じた鮮明な画像が
形成できた。
部分は白濁し、マスクのパターンに応じた鮮明な画像が
形成できた。
第１図は、ポリメチルビニルエーテルとポリスチレンと
各組成比における相分離温度を示すものである。図中、 はスチルベン基が全てtrans体であるポリスチレンを使
用した場合の相分離温度を示し、 はスチルベン基の約３０％をcis体に光異性化したポリ
スチレンを使用した場合の相分離温度を示す。
各組成比における相分離温度を示すものである。図中、 はスチルベン基が全てtrans体であるポリスチレンを使
用した場合の相分離温度を示し、 はスチルベン基の約３０％をcis体に光異性化したポリ
スチレンを使用した場合の相分離温度を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】ポリメチルビニルエーテル及び下記一般式
〔Ａ〕並びに〔Ｂ〕 （式中、Ｒ1及びＲ2は水素原子又はアルキル基を示し、
ｍは１〜５０％を示し、ｎは９９〜５０％を示す）で表
わされる構成単位を有するポリスチレンを含有する記録
層を有することを特徴とする記録材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61104203A JPH0652388B2 (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | 記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61104203A JPH0652388B2 (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | 記録材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62262044A JPS62262044A (ja) | 1987-11-14 |
| JPH0652388B2 true JPH0652388B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=14374412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61104203A Expired - Lifetime JPH0652388B2 (ja) | 1986-05-07 | 1986-05-07 | 記録材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0652388B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7229740B2 (en) * | 2005-09-08 | 2007-06-12 | Xerox Corporation | Reimageable paper |
-
1986
- 1986-05-07 JP JP61104203A patent/JPH0652388B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62262044A (ja) | 1987-11-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |