JPH06509210A - 非結像光照明システム - Google Patents

非結像光照明システム

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JPH06509210A JP5503005A JP50300592A JPH06509210A JP H06509210 A JPH06509210 A JP H06509210A JP 5503005 A JP5503005 A JP 5503005A JP 50300592 A JP50300592 A JP 50300592A JP H06509210 A JPH06509210 A JP H06509210A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 6、前記光反射面の空間位置が、次式即ち、Ri = (定数) exp ff tan[(Φi−&i)/2コdΦ1)Oi =Ctlog (I C*Φi)  ]dΦ1)に従う前記半径ベクトルRiによって決定されるように、前記出力 強度が、01の関数として指数関数的な挙動となる請求項1に記載の非結像光照 明装置。
7、前記光反射面の空間位置が、次式即ち、Ri =exp (、rtan[( Φ1−01) /2コdΦl)Oi =CIErf−’ (C*Φl)(ここで 、Err−’は、Erf(x)=fe x p (−x”/2) dxという誤 差関数の逆関数であり、CI及びCmは定数である)に従う前記半径ベクトルR 1によって決定されるように、前記出力強度が、Oiの関数としてガウス関数的 な挙動となる請求項1に記載の非結像光照明装置。
8、前記光反射面の空間位置が、次式即ち、Ri =exp (ftin[(Φ l−θi)/2]dΦ1)Ol =C,5in−’ (CmΦl)(ここで、  3in−’は、アークサイン関数であり、C1及びC3は定数である)に従う前 記半径ベクトルRiによって決定されるように、前記出力強度が、Φiの関数と してコサイン関数的な挙動となる請求項1に記載の非結像光照明装置。
9、前記選択的な出力強度は、Olを立体角とする開数P(Ω1)に応じた挙動 をすると共に、 Ail記光反射反射空間位置は1次式即ち、Ri =exp [ftan[(Φ i−Oi) / 2コdΦi1.及びCo3Φlの線形関数であるJPcΩi)  d(cos(l i)に従うArt記半径ベクトルRiによって決定される請 求項1に記載の非結像光照明装置。
10、 0°1−01−δ (δは、前記光反射面における前記光源によって画定される角度)、となるよう に、エツジ線法に従って計算される角度θ′1において、116前記光源は、 δ=arc 5ine (ρ/Ri) R=exp [ftan(Φ1−Oi+are sin (ρ/Ri) dΦ冨 )に従う半径ρの円形状を備える請求項10に記載の非結像光照明装置。
12、前記光反射面の前記空間位置は、前記光源に対してインボリュートな別の 表面部位を含む請求項10に記載の非結像光照明装置。
13、前記選択された光出力は、二つの直交面において異なるプロフィールを有 しており、 前記プロフィールは、次式即ち、 Ri =exp fftan[(Φi−0’i)/2コdΦl)(ここで、角度 01は、δを前記光反射面における前記光源によって画定される角度とした場合 、 O’1=(7i−δ となるように、エツジ線法に従って計算される) によって定義される前記半径ベクトルR1によって、前記直交平面の各々と個々 に関連して決定される前記光反射面の少なくとも一部に応じ、前記直交面におい て決定されてなる請求項10に記載の非結像光照明装置。
14、Φlに対するOiの関数的依存関係は、前記平面の各々において出力角度 O1にわたって相対的に一様な出力を達成するように最適化される請求項13に 記載の非結像光照明装置。
15、前記平面の各々におけるΦlに対するOlの関数的依存関係は、指数的、 ガウス的及びコサイン的な性質の少なくとも−・つを含む角度θ1にわたって予 め選択された出力を達成するように最適化される請求項13に記載の非結像光照 明装置。
16、前記光反射面の前記部分は、前記光源に対しインボリュート的である請求 11113に記載の非結像光照明装置。
17、角度範囲01にわたり電磁放射用の選択的な出力強度を発生するための非 結像光照明装置であって、 特定の寸法を有する電磁放射源と、 前記放射源及び当該反射面の開口部の反対側に位置する放射源のあたりに少なく とも部分的に位置決めされた電磁放射反射面と、を備え、前記反射面は、当該反 射面を描く特徴的な表面輪郭パラメータなもっており、前記?ltl放磁源の1 111記特定XI法は、nfI記放射源から前記反射面までの距離、特徴的な角 度及び半径へりトルによって定義された前記光源によって定められた角度、往び に、前記反射面の関数形状及び縦断面線長のうちの少なくとも一つを備える寸法 パラメータに比して、小さいことと、前記反射面の空間位置が、前方直射照明と 、前記特徴表面輪郭パラメータの少なくども一つの関数と1−ての角度(liで n1■記反射面から一旦反射された前記電磁エネルギー放射線との間の角度O1 によって、前記放射源に起因する電磁エネルギー放射線に対して定義されてなる 非結像光照明装置。
18、ifl記特徴表面輪郭パラメータは、All記電磁放射源の表面から前記 反射面までの半径ベクトルRl 、 +’+fi記゛11径ベクトルR1と当該 装置から出力される前方直射照明の180” 方向との間の角度Φl、及び、前 記反射表面に沿っての距離の測定+14−(Iγのうちの少なくとも一つを3ん でなる請求項17に記載の非結像光照明装置。
19、Olは、前記反射面が三次元に広がった状態での立体角である請求項17 に記載の非結像光照明装置。
20、角度範囲θ1にわたり均一な効率で前記放射線を収集する非結像電磁放射 収集装置であって、 電磁放射線を受けとめるコレクターと、前記コレクター及び当該光反射面の開1 」部と反対側に配置されたコレクターのあたりに少なくとも部分的に位置決めさ れた光反射面と、を備え、前記光反射面の空間位置は、前記コレクターの表面か らの半径ベクトルRiによって、電磁エネルギー放射線を受けるための前記コレ クターに対して決定されると共に、 前記半径ベクトルR1は、当該半径ベクトルR1と当該装置から出力される前方 直進照明から180°の方向との間の角度Φ1、及び、前方直進照明と前記コレ クターに対し前記光反射面から一旦反射された前記電磁エネルギー放射線との間 の角度θlと関連しており、次式即ち、Ri −(定数)eXp(ftan[( Φl−θ’i)/2コdΦ)θ’1=Oi−δ (δは、反射器での線源の近く で区画された角度)に従う前記角度Φlの関数として変化する非結像電磁放射収 集装置。
21、前記コレクターはエネルギー変換器を備えており、Φ1に対するΦlの関 数的依存関係は、角度01にわたる相対的に一様な出力を達成するように最適化 されている請求項20に記載の非結像電磁放射収集装置。
22、前記光反射面の空間位置は、前記光源に対してインボリュート的な別の部 分を含んでなる請求項20に記載の非結像電磁放射収集装置。
23、+ifl記コレクターはエネルギー変換器を備えており、Φ1に対する0 1の関数的依存関係は、指数的、ガウス的及びコサイン的分布のうちの少なくと も一つを有する予め選択された入力を達成するように最適化されている請求項2 0に記載の非結像電磁放射収集装置。
24、前記コレクターはエネルギー変換器を備えており、Φlに対する(liの 関数的依存関係は、指数的、ガウス的及びコサイン的分布のうちの少なくとも一 つを有する予め選択された入力を達成するように最適化されている請求項20に 記載の非結像電磁放射収集装置。
25、立体角Qの関数としての本質的に均一な出力強度を生み出すための非結像 光照明装置であって、 点光源と、 前記光源及び当該光反射面の開口部の反対側に位置する光源のあたりに少なくと も部分的に位置決めされた光反射表面と、を備え、前記本質的に均一な出力強度 を生み出す前記光反射面の空間的な位置は、前記光源の表面からの1り径ベクト ルRiによって、 t’ifl記光源から生ずる光線に対して決定されると共に 、 Cf1l記゛r゛径ベクトルR1は、当該半径ベクトルR1と当該装置から出力 された前方直進照明から180°方向との間の角度Φl、及び、前方直進照明と 半径ベクトルR1でiti前記九反射表面から一旦反射された光線との間の角度 θ1と関連しており、次式即ち、 Ri =exp (ftan[(Φ1−Oi)/2]dΦl)(ここで、cos Oiは、cosΦlの線形関数である)に従って、1ifi記角度Φlの関数と して変化する前記光反射面の前記空間位置ブロワ・イールを決定する非結像光照 明装置。
明細書 非結像光照明システム この発明は一般に、限定的だが広がりの少ない電磁エネルギー源からの選択され た非結像光出力を使用者に提供するための方法及び装置に関するものである。
より詳細には、この発明は、小さく限定的な光源用の光学装置のデザインプロフ ィールが、光学的表面からの光線の反射の受入れ角度を調節可能なものとなり得 る方法及び装置に関するものである。そのような機能上の依存性を許容すること により、非結像出力が適切に制御されることになる。
限定された範囲の光源による照明に関する方法及び装置が、米国特許第3,95 7゜031号、 4,240,692号、4,359,265号、4,387, 961号、4,483,007号、4,114,592号、4,130,107 号、4,237,332号、4,230,095号、 3,923,381号、 4,002,499号、4.045,246号、4,912,614号及び4, 003,638号を含む多くのアメリカ特許において述べられている。それらの 全てがここで参照することにより組み入れられている。これら特許の一つにおい ては、光学的デザインに、光源の放射表面上で始まるようにさせられた反射鏡を 備えることをめることにより、非結像照明の性能が高められている。しかしなが ら、実際にはそのようなデザインは、赤外線ランプのような光源によってもたら される非常な高温のために、及び、光源に要求される厚い保護層又はガラス外被 のために、非実用的である。他のデザインにおいては、光源が相当な距離前れて いることが必要とされる。加えて1問題の他のパラメータに比較して光源が小さ いときは、限定されたサイズの光源用に設計された解決法を用いる従来の方法は 、十分にコントロールされていない非結像出力を供給し、このことは理想的な照 明よりも劣った結果をもたらす、従って、本質的な困難さは、光学的デザインが 次のような状態、即ち、(1)光源サイズがいかなる反射又は屈折コンポーネン トへの接近の至近距離よりもずっと小さい状態、または、(2)反射又は屈折コ ンポーネントにおける光源での角度が、光線の発散角度より小さい状態、を伴う ときに起こる。
故に、本発明の目的は、使用者に選択的な非結像光出力を供給する改良された方 法及び装置を提供することにある。
本発明の別の目的は、使用者に小さいが限定的な電磁エネルギー源を用いた光学 的デザインからの電磁エネルギーの選択的な非結像光出力を与える新規な方法及 び装置を提供することにある。
本発明の更なる目的は、電磁光線に対する光学的受入れ角度が2次元及び3次元 光学装置のプロフィールパラメータの関数となる、改良された光学装置及びデザ イン方法を提供することにある。
本発明の更なる目的は、放射線の収集用の改良された光学装置及びデザイン方法 を提供することであり、さらには、使用者に選択された強度出力をある角度範囲 にわたり生み出す新規な光学装置及び方法を提供することである。
本発明の更に他の目的は、出力角度の広い範囲にわたってほぼ均一な先出力を発 生させる非結像光照明システムを供給するための改良された方法及び光学装置を 提供することにある。
本発明の他の目的、特徴及び利点は、以下に記述された好ましい実施例に関する 以下の記述から明らかになるであろう、好ましい実施例は、添付した図面と関連 しており、図面を通じ一〇同じ要素は同じ参照番号を有している。
−吋画Ω虚哩− 図1は、非結像出力を与える2次元光学装置を示す。
図2は、図1の光学装置の一部を、光源及び該装置の直接反射面と関連して示す 。
図3Aは、光学システムの底部を図示し、図3Bは、反射面のインボリュート部 (回旋部)を、光源と関連して選択された臨界デザイン寸法及び角度デザインパ ラメータとともに示す。
図4Aは、非結像照明用の3次元光学システムの透視図であり、図4Bは、図4 Aの光学システムの一部を図示する。
図5Aは、本発明の実施例における強度等高線を示し、図5Bは、従来の光学デ ザインからの非結像強度出力の等高線を示す。
しい のき を普 他のシステムパラメータに比して小さな光源を用いた非結像照明を提供する光学 システムの設計に際しては、光源が広がりを持たないという制限的事情を考慮す るべきである。このことは、光源の有限サイズ及び特定の形状がデザインを決定 する上での重大事になるという通常の非結像の問題とはある意味で正反対である 。すべての実際的な状態において、有限であるが小さな光源は、従来技術にある 有限の光源デザインによるよりも、ここに記載された小光源の非結像デザインに よってより適用され得る。
我々は光源を無視できるような直径の線または点によるものであると理想化して 考えることができるとともに、非結像光学の伝統的な「エツジ線法」と類似した 、一つの反射の解決をめることができる(例えば、W、 T、ウェルフォード及 びR,ウィンストン著「高収集非結像光学J アカデミツクプレス、ニューヨー ク・ニューヨーク(1989年)を参照)0図3に示すように、原点としての光 源及び反射光線の角度としてOと共に極座標R1Φが用いられる0図3の幾何学 図形は、光源の角度と反射角度との間に次の関係が成り立つことをに示す。
d/dΦ(logR)=t anα、 (1)ここで、αは法線に対する入射角 である。
故に、 α=(Φ−f)) /2 (2) 式(1)は容易に積分されて、 log (R)=ft ancLdΦ+(定数) (3)となり、そして、 R=(定数) ・exp CftanαdΦ) (4)が得られる。
この式(4)は、要求される関数的依存性O(Φ)のための反射プロフィールR (Φ)を決定するb ここで、軸対称なものとする線源から特定の角度分布p co>を有する出力( P)を放射したい場合を考える0例えば、θ=0〜θlにおいて、P (O)  =一定で、かつこの角度範囲外ではP (1?)はほぼOであるとする。エネル ギーの保存によって、P ((J) dO=P (Φ)dΦ(実質的な反射損失 を無視する)であり、所望の放射光線プロフィールを得るためには、d(JdΦ =p(Φ)/P(θ) (5)を確保することのみが必要となる。その方法を例 証するために、上記線光源における一定のP (O)の例を4察する。線光源が 回転対称であることによって、dP/dΦ=定数となり、そのため、式(4)に 従い、θ=aΦのように0がΦの線型関数であることが必要となる。そして、式 (3)の解は、R=R++ /co s” (Φ/k) (6)k=2/ (1 −a) (7) となる、ここで、RoはΦ=0のときのRの値である。
a =O(k =2)の場合には、棒形式での放物線が与えられることが分かる 。
R=Ra/cos” (Φ/2) (8)一方、0−一定=01の場合には、軸 から離れた放物線が与えられることが分かる。
R=Ro cos’ (01/2)/cos” [(Φ−eo)/2](9)こ こで、代わりに特定の強度分布をもつように面を照明することを望む場合を想定 する。このとき、面の位置と角度Oとが関係づけられるとともに、上記のように して処理される。
球面対称な点線源の旋回において、Ωが放射立体角であるP(Ω)が一定の場合 が考えられる。ここで、エネルギー保存によって、P(Ω)dΩ=P(Ω。)d Ω。 (10)が得られる。Ω・は放射源の放射立体角である0点線源が球面対 称性によって、P(Ω。)=一定となる。更に、 dΩ= (2m)acosOl及び、dΩe = (2yc)acosΦを得る 。従って、CO3θをcosΦの線型関数、即ち、cosθ=a cosΦ+b  (11)にする必要がある。
境界条件が、Φ=0のとき0=0で、Φ=Φ。のときθ=01であれば、a=  (1−cos(11)/ (1−cosΦ。) (12)b= (cosOl− cosΦ。)/(1−cosΦ0) (13)を得る。
[例えば、θ1く1で、かつ、Φ。=約π/2であるとすると、0はおよそ、1 20. s i n ((+/2)Φ) となる、]この関数的従属性は、通常 の数値法によって積分された式(4)に適用される。
反射器のプロフィールR(Φ)を描くための有効な方法は、反射線r(Φ)の包 絡線(大面)に換算することである。これは、反射光線t=(−sin(+。
cost)の方向に換算することで最も簡単に得られる。r(Φ)が反射線に沿 って位置しているため、 r =R+L t、 (14) の形式となり、R=R(s inΦr CosΦ)となる。
更に、 RdΦ=Ldθ (15) であり、これは反射の法則の結果である。故に、r =R+ t / (d & /dΦ) (16)0が線形関数aΦであると上記した場合において、大面曲線 は特に簡単な式、大面に換算する際、ぴんと張った糸の軌跡のように反射器のプ ロフィールRをち察することができる。糸は一端が起点に固定された状態で入面 【から解かれる。
全ての実用的なデザインでは、小さいが有限サイズの光源は、上記のようにして 得られた少量の「点のような」又は「線のような」角度分布によって不鮮明とな ろう。放射線が光源へ戻るのを防止するために、虚像光源に対するインボリュー ・トを有するO=0の付近におlする解決を図りたいかもしれない、このように 、反射器の設計は[アイスクリームコーンJ状の虚像光源に対してインボリュー ト的であるべきである。
この結果を遂行する方法は技術的によく知られている(例えば、R,ウィンスト ン著、 「応用光学」 17巻、第166頁(1978年)を参照)、また、こ こで参照することで組み込まれている米国特許第4230095号を参照された し。
同様に、光源の有限サイズは、光源からの光線を非結像デザインの「エツジ線」 のやり方で中心からではなく周囲から生ずるように配慮することによって、より よく適用され得る。この方法が実行されると添4=1書類(及び図2参照)のコ ンピュータプログラムを使って計算されたプロフィールになる。線光源及びプロ フィールの例が図1に示されている。光線パターン及び/又は光源が回転対称で ない場合においても、通常の閉鎖放物線形状の反射面と類似した閉鎖二次元反射 器を用いることができる。どんな場合でも、上記した方法は、光源が問題となる 他のパラメータと比較して小さい場合に最も有用である。
多くの実用的な光源は、軸線的に対称な線光源に近似させることができる長いア ーク光源を含むことができる。そのとき、式(5)〜(9)及び本文において説 明されているように、上記のようにして決定された反射器のブロブイールR(Φ )を利用することができる。この解析は光学装置の二次元及び三次元反射面プロ フィールに等しく適用される。
他の実用的な光源は、球面対称な点光源に近似させることができる短いアーク光 源である。光学的なプロフィールを決定する際の詳細は、式(10)〜(13) %式% 非結像光学システム20の々Iまl〜い形態は図4Aにおいて示され、図5Aに は代表的な非結像出力が示されている。そのような出力は典型的には、通常の赤 外線光源22(図4A参照)、例えば高強度アークランプ又はグラファイトグロ ーバーを用いることにより得ることができる0反射側壁24及び26は光源22 から放射された赤外線を収集するとともに、反射側壁24及び26から光学的に 遠い領域へその赤外線を反射する。理想的な赤外発生機は、特定の角度範囲(代 表的には約15度の円錐体)内、又は垂直面に対して6度で水平面に対して20 度の非対称範囲において、光源22からの放射を集中させる0図5Bの等廃線に 示すように、従来技術における放物面反射体システム(図示せず)は一様でない 出力強度をもたらすが、光学システム20は図5Aに示すように、はぼ一様な強 度の出力をもたらす、従来技術の複合放物線集中機(cpc)のデザインからの 、強度プロフィールにおける優れた改善に注目されたし、各種の改善点は、以下 の表■において表形式で要約されている。
好ましい実施例において、実際の光学的なプロフィールをデザインするには。
4つのパラメータの仕様を必要とする1例えば、コンセントレータ(集中機)を デザインする場合、これらのパラメータは。
1、a= 円形アブソーバの半径; 2、 b= ギャップのサイズ; 3、 c−式0=c (Φ−Φ。)における0とΦ−Φ。との間の比例定数;4 、 h−最大高 である。
コンピュータプログラムはその計算を実行するために用いられ、これらの数値は ユーザーから得られる(明細書の一部として含まれるコンピュータソフトウェア 付属1類として添付されたプログラムの第6行〜第13行を参照)。
図3BにおいてΦ=0からΦ=Φ。まで、反射体の輪郭(プロフィール)は、最 接近したときにbと等しくなるような距離を有する円のインボリュ−1・(伸開 線)である。この曲線のパラメータ式は、角度αによってパラメータ表示される (図3A参照)。図3Bから、ΦがOからΦ。に変化するにつれて、αはα0か ら90度に変化することが分かる。角度α、はa及びbに従属しているとともに 、コンピュータソフトウェアプログラムの第14行において計算される。第15 行と第101行との間において、インボリュートの50ポイントが、パラメータ 方程式を介して極座標で計算される。 (r、fly)ポイントはそれぞれr  (i)及びシータ(1)の配列で読み取られる。
Φの数値がΦ。よりも大きな場合、プロフィールは微分方程式、即ち、d(ln r)、’d Φ= tin [1/2 [Φ−θ十arc 5in(a/r)コ  )の解である。ここで、0はφの関数である。このことはプロフィールr(φ )をOの関数にする。ザンブル計算が実行されたとき、0はステップ4における ようにΦの線型関数となるようにとられる。他の関数の形式は本明細書において 記述されているにの領域においては150の(r、シータ)点を得ることが望ま しい。加えて、プロフィールは最大高りを有する切形でなければならない、この 高さに相当する(r、シータ)点は定がでないが、最大高の条件が満たされるま でΦ。を越えてΦを増加させることによって、上記方程式を解かなければならな い。
この計算は、第102行及び第115行の間における慣例的な4次数のルンゲー クッタの数値解法を用いることによって行われる。最大高さの条件は第116行 と第120行との間においてチェックされる。
最大高さの(r、シータ)点が分かれば、Φ。と最大高さポイントとの間で、1 50の(r、シータ)点を正確に計算するためのステップサイズを設定すること ができる。この設定は、第201行と第300行との間において、同じ数値解法 を用いることによってなされる。又、そのポイントはr(i)、シータ(i)の 配列で読み取られる。
最後にr (i)及びシータ(1)の2つの配列が残っており、各々は反射器表 面の200の(r、シータ)点を特定する200の構成要素を有している。これ らの配列は、デザイン仕様、及び、光線トレースの応用例のために用いることが できる。
一様な光線のデザインプロフィール(P (O) =一定)の場合、代表的なパ ラメータのセントは、θ (Φ)=C(Φ−Φ。)に対して、a= 0.055  インチ b= 0.100 インチ h=12.36 インチ c= 0.05136 となる(図1も参照されたし)。
指数的な光線プロフィール(P (θ) = c−exp(−aθ))の場合、 代表的なパラメータのセットは、 a=はぼOh=5. 25 b=0.100 c=4.694 0 (Φ) =0.1311 n (1−Φ/c)となる。
図1の光学装置に対する一様な光線のプロフィールの光線トレースは、以下の表 11において、出力表形式で示されている。
付録 DIX−コンピュータソフトウェアプログラムI progrl1w+  coordinates2 dimension r(1:200)、 the ta(1:200)、 dxdx(1:200)3 dimension xx (C200)、 xx(1200)4 real I、 kl、 k2. k3 . k45 pararaeter (de(torad=3.I415927 /180.0)6 write(*、*)’Enter radius of  cylindrical absorber、 ’7 read(牢、ネ)& 8 write(傘、*)’Enter gap aite、’9 read( 傘、ネ)b lo write(率、*)’Enter constant、’II rea d(傘、*)C 12write(本、すEnter miximum height、’13  read(*、*)h c GENERATE 50 POINTS OF AN INVOLUTE1 4 alpha(1=acos(a/(a + b))15 do 100 i =1.5(1,116alpha= ((90傘deltorad−a 1ph a□)/49.0)*float(i−50) +9D*degtorad17  d= (alpha −11phiO)*a + 5qrt((a + b) 本$2 − a*本2)+8 x= a傘5in(alpha) −docos (alpha)19 z= −a*cos(alpha) −d*5in(il phi20 山)=sqrL(x本*2+ z**2)21 theva(i) = atan(z/x)22 phi= theta(i) + (90,O* dc4torad)100 continue +01 theti(1)= −90,O*d+4toradc GENERA TE 150 POINTS OF TIIE WINSTON−TYPE C 0NCENTRATOR102v= 0.0 103 h=o、ool 104 phio=theta(50) + (90,O*degtorad)  + 0.001105 phi−phi。
106 f= alog(r(50))+07 do 200 while(v 、eq、0.0)108 phi= phi 十h 109 kl= h机an(05*((1,0−r)*phi + c*phi o + asin(i/exp(f))))110 k2= hctan(0, 5*((1,0−c)*(phi+0.5*h)+c*phiO+& asin (a/exp(f+o、5*kl))))III k3= h傘jan(0,5 本((1,0−c)*(phi +〇、5*h)+c*phiO+& asin (a/exp(f+0.5本に2))))112 k4−hctan(0,5* ((1,0−c)”(phi +h)十c傘phiO+& asin(a/ex p(f+に3))))!+3 f= f + (kl/6.0) + (k2/ 3.0) +(k3/3.0) + (k4/6.0)114 rad=erp (f) +15 z−rad傘5in(phi −(9Dde(torad))116  if(xgc、a) then117 phimax=phi 11g write((*)’phimax=’、phi/degtorad1 19 v= 1.0 +20 endi[ 200continue 201 f= alog(r(50))202 phj−(−1,0/149. 0)*(phimax−phiO) +phi0203 h= (phi+na x−phio)/149.0204 do 300 i=I、夏50.1205  phi= phi + h 206 kl= hctan(0,5*((1,0−c)傘phi+c*phi O+agin(a/exll(f))))207 k2= hctan(0,5 *((1,0−c)傘(phi +0.5傘h)+c*phiO+& asin (a/exp(f+0.51kl))))208 k3= hctan(0,5 *((1,0−cD(phi +0.5*h)+c申phiO+& asln( a/exp(f+0.5傘に2))))209 k4= hctan(0,5中 ((1,0−c、M(phi +h)+c*phiO+& asin(a/ex p(f+に3))))21Of= f + (kl/6.0) + (k2/3 .0) +(k3/3.0) + (k4/6.0)211 r(i +50) = exp(f)212 theta(i +50);phi −(90,0* degtorad)300 continue 301 5top 302 end

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.ある角度範囲0にわたり選択的な出力強度を生み出す非結像光照明装置であ って、 特定の寸法を有する光源と、 前記光源及び当該反射面の開口部の反対側に位置する光源のあたりに少なくとも 部分的に位置決めされた光反射表面と、を備え、前記光源の前記特定の寸法は、 前記光源から前記光反射面までの距離及び前記光反射面での光源によって範囲を 定められた角度のうちの少なくとも一方に比して小さくなっており、 前記選択された出力強度を生み出す前記光反射面の空間的な位置は、前記光源の 表面からの半径ベクトルRiによって、前記光源から生ずる光線に対して決定さ れると共に、 前記半径ベクトルRiは、当該半径ベクトルRiと当該装置から出力された前方 直進照明から180°方向との間の角度Φi、及び、前方直進照明と半径ベクト ルRiで前記光反射表面から一旦反射された光線との間の角度θiと関連してお り、次式即ち、 Ri=(定数)exp{∫tan[(Φi−θi)/2]dΦi}に従って、前 記角度Φiの関数として変化する前記光反射面の前記空間位置プロフィールを決 定してなる非結像光照明装置。
  2. 2.次式即ち、Ri=RoCOSx(Φi/k)k=2/(1−a) θi=aΦi (ここで、Roは前方直進照明から180°方向におけるベクトルRの長さ、a は定数) に従う前記半径ベクトルRiによって前記光反射面の空間位置が決定されるよう に、θiの関数として、前記出力強度は一定である請求項1に記載の非結像光照 明装置。
  3. 3.特定の角度範囲θiにわたり予め選択された出力強度を有する光を選択的に 出力するための非結像光照明装置であって、少なくとも二次元的な寸法を有する 光源と、前記光源及び当該反射面の開口部の反対側に位置する光源のあたりに少 なくとも部分的に位置決めされた光反射面と、を備え、前記光反射面の空間的な 位置は、前記光源の表面からの半径ベクトルRiによって、前記光源からの光線 の源に対して決定されると共に、前記半径ベクトルRiは、当該半径ベクトルR iと当該装置から出力された前方直進照明から180°方向との間の角度Φi、 及び、前方直進照明と半径ベクトルRiで前記光反射面から一旦反射された光線 との間の角度θiと関連しており、次式即ち、 Ri=(定数)exp{∫tan[(Φi−θ1)/2]dΦ}に従って、前記 角度θiの関数として変化する非結像光照明装置。
  4. 4.前記予め選択された出力強度は、前記特定の角度範囲にわたり、ほぼ一定強 度をなす請求項3に記載の非結像光照明装置。
  5. 5.前記出力強度は、当該照明装置の開口に比して大きい当該照明装置からの距 離に配置された参照面における照度分布を生み出してなる請求項1に記載の非結 像光照明装置。
  6. 6.前記光反射面の空間位置が、次式即ち、Ri=(定数)exp{∫tan[ (Φi−θi)/2]dΦi}θi=C1log(1−C2Φi)]dΦi}に 従う前記半径ベクトルRiによって決定されるように、前記出力強度が、θiの 関数として指数関数的な挙動となる請求項1に記載の非結像光照明装置。
  7. 7.前記光反射面の空間位置が、次式即ち、Ri=exp{∫tan[(Φi− θi)/2]dΦi}θi=C1Erf−1(C2Φi) (ここで、Erf−1は、Erf(x)=∫exp(−x2/2)dxという誤 差関数の逆関数であり、C1及びC2は定数である)に従う前記半径ベクトルR iによって決定されるように、前記出力強度が、θiの関数としてガウス関数的 な挙動となる請求項1に記載の非結像光照明装置。
  8. 8.前記光反射面の空間位置が、次式即ち、Ri=exp{∫tan[(Φi− θi)/2]dΦi}θi=C1sin−1(C2Φi) (ここで、son−1は、アークサイン関数であり、C1及びC2は定数である )に従う前記半径ベクトルRiによって決定されるように、前記出力強度が、Φ iの関数としてコサイン関数的な挙動となる請求項1に記載の非結像光照明装置 。
  9. 9.前記選択的な出力強度は、Ωiを立体角とする関数P(Ωi)に応じた挙動 をすると共に、 前記光反射面の空間位置は、次式即ち、Rj=exp{∫tan[(Φj−θi )/2]dΦi}、及びco3Φiの線形関数である∫P(Ωi)d(cosθ i)に従う前記半径ベクトルRiによって決定される請求項1に記載の非結像光 照明装置。
  10. 10.θ′i=θi−δ (δは、前記光反射面における前記光源によって画定される角度)となるように 、エッジ線法に従って計算される角度θ′iにおいて、θi=0′i となる請求項1に記載の非結像光照明装置。
  11. 11.前記光源は、 δ=arcsine(ρ/Ri) R=exp{∫tan(Φi−θi+arcsin(ρ/Ri)6Φi}に従う 半径ρの円形状を備える請求項10に記載の非結像光照明装置。
  12. 12.前記光反射面の前記空間位置は、前記光源に対してインポリュートな別の 表面部位を含む請求項10に記載の非結像光照明装置。
  13. 13.前記選択された光出力は、二つの直交面において異なるプロフィールを有 しており、 前記プロフィールは、次式即ち、 Ri=exp{∫tan[(Φi−θ′i)/2]dΦi}(ここで、角度θi は、δを前記光反射面における前記光源によって画定される角度とした場合、θ ′i=θi−δとなるように、エッジ線法に従って計算される) によって定義される前記半径ベクトルRiによって、前記直交平面の各々と個々 に関連して決定される前記光反射面の少なくとも一部に応じ、前記直交面におい て決定されてなる請求項10に記載の非結像光照明装置。
  14. 14.Φiに対するθiの関数的依存関係は、前記平面の各々において出力角度 θiにわたって相対的に一様な出力を達成するように最適化される請求項13に 記載の非結像光照明装置。
  15. 15.前記平面の各々におけるΦiに対するθiの関数的依存関係は、指数的、 ガウス的及びコサイン的な性質の少なくとも一つを含む角度θiにわたって予め 選択された出力を達成するように最適化される請求項13に記載の非結像光照明 装置。
  16. 16.前記光反射面の前記部分は、前記光源に対しインポリュート的である請求 項13に記載の非結像光照明装置。
  17. 17.角度範囲θiにわたり電磁放射用の選択的な出力強度を発生するための非 結像光照明装置であって、 特定の寸法を有する電磁放射源と、 前記放射源及び当該反射面の開口部の反対側に位置する放射源のあたりに少なく とも部分的に位置決めされた電磁放射反射面と、を備え、前記反射面は、当該反 射面を描く特徴的な表面輪郭パラメータをもっており、前記電磁放射源の前記特 定寸法は、前記放射源から前記反射面までの距離、特徴的な角度及び半径ベクト ルによって定義された前記光源によって定められた角度、並びに、前記反射面の 関数形状及び縦断面線長のうちの少なくとも一つを備える寸法パラメータに比し て、小さいことと、前記反射面の空間位置が、前方直射照明と、前記特徴表面輪 郭パラメータの少なくとも一つの関数としての角度θiで前記反射面から一旦反 射された前記電磁エネルギー放射線との間の角度θ1によって、前記放射源に起 因する電磁エネルギー放射線に対して定義されてなる非結像光照明装置。
  18. 18.前記特徴表面輪郭パラメータは、前記電磁放射源の表面から前記反射面ま での半径ベクトルRi、前記半径ベクトルRiと当該装置から出力される前方直 射照明の180°方向との町の角度Φi、及び、前記反射表面に沿っての距離の 測定単位のうちの少なくとも一つを含んでなる請求項17に記載の非結像光照明 装置。
  19. 19.θiは、前記反射面が三次元に広がった状態での立体角である請求項17 に記載の非結像光照明装置。
  20. 20.角度範囲θiにわたり均一な効率で前記放射線を収集する非結像電磁放射 収集装置であって、 電磁放射線を受けとめるコレクターと、前記コレクター及び当該光反射面の開口 部と反対側に配置されたコレクターのあたりに少なくとも部分的に位置決めされ た光反射面と、を備え、前記光反射面の空間位置は、前記コレクターの表面から の半径ベクトルRiによって、電磁エネルギー放射線を受けるための前記コレク ターに対して決定されると共に、 前記半径ベクトルRiは、当該半径ベクトルRiと当該装置から出力される前方 直進照明から180°の方向との間の角度Φi、及び、前方直進照明と前記コレ クターに対し前記光反射面から一旦反射された前記電磁エネルギー放射線との間 の角度θiと関連しており、次式即ち、Ri=(定数)exp{∫tan[(Φ i−θ′i)/2]dΦ}θ′i=θi−δ(δは、反射器での線源の近くで区 画された角度)に従う前記角度Φiの関数として変化する非結像電磁放射収集装 置。
  21. 21.前記コレクターはエネルギー変換器を備えており、Φiに対するΦiの関 数的依存関係は、角度θiにわたる相対的に一様な出力を達成するように最適化 されている請求項20に記載の非結像電磁放射収集装置。
  22. 22.前記光反射面の空間位置は、前記光源に対してインポリュート的な別の部 分を含んでなる請求項20に記載の非結像電磁放射収集装置。
  23. 23.前記コレクターはエネルギー変換器を備えており、Φiに対するθiの関 数的依存関係は、指数的、ガウス的及びコサイン的分布のうちの少なくとも一つ を有する予め選択された入力を達成するように最適化されている請求項20に記 載の非結像電磁放射収集装置。
  24. 24.前記コレクターはエネルギー変換器を備えており、Φiに対するθiの関 数的依存関係は、指数的、ガウス的及びコサイン的分布のうちの少なくとも一つ を有する予め選択された入力を達成するように最適化されている請求項20に記 載の非結像電磁放射収集装置。
  25. 25.立体角Ωの関数としての本質的に均一な出力強度を生み出すための非結像 光照明装置であって、 点光源と、 前記光源及び当該光反射面の開口部の反対側に位置する光源のあたりに少なくと も部分的に位置決めされた光反射表面と、を備え、前記本質的に均一な出力強度 を生み出す前記光反射面の空間的な位置は、前記光源の表面からの半径ベクトル R1によって、前記光源から生ずる光線に対して決定されると共に、 前記半径ベクトルRiは、当該半径ベクトルRiと当該装置から出力された前方 直進照明から180°方向との間の角度Φi、及び、前方直進照明と半径ベクト ルRiで前記光反射表面から一旦反射された光線との間の角度θiと関連してお り、次式即ち、 Ri=exp{∫tan[(Φi−θi)/2]dΦi}(ここで、co5θi は、co5Φiの線形関数である)に従って、前記角度Φiの関数として変化す る前記光反射面の前記空間位置プロフィールを決定する非結像光照明装置。
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